二氟(二碘)硅烷 | 27669-15-4

• 分子结构分类: 无机化合物 - 混合金属/非金属化合物 - 类金属盐
• 中文名称: 二氟(二碘)硅烷
• 英文名称: Difluoro(diiodo)silane
• CAS: 27669-15-4
• 化学式: F₂I₂Si
• 分子量: 319.891
• InChiKey: MTLRRTNBAVJZDV-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 沸点：
  84.5 °C(Press: 756 Torr)
• 密度：
  2.835±0.06 g/cm3(Predicted)

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  2.23
• 重原子数：
  5
• 可旋转键数：
  0
• 环数：
  0.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.0
• 拓扑面积：
  0
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  2

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  mercury sulfide 、 二氟(二碘)硅烷 以 neat (no solvent) 为溶剂， 以0%的产率得到tetrafluorocyclodisilthiane
  参考文献：
  名称：

  F3SiSH 和 (F3Si)2S：通过明确综合解决的冲突观察

  摘要：

  液态 F3SiI 与红色 HgS 之间的反应主要产生二甲硅烷基硫烷 (F3Si)2S，以及少量迄今未知的 (F3SiS)2SiF2。这些氟甲硅烷基硫烷具有不同的热稳定性。(F3Si)2S 是 F3Si 衍生物的通用前体，在环境温度下它是稳定的，而 (F3SiS)2SiF2 分解迅速。F3SiSH 与 F3SiBr 一起是通过在液相中用 HBr 选择性裂解 (F3Si)2S 中的一个 Si-S 键而获得的，并且首次得到明确表征。与之前的报道相反，当 SiF4 在石英管中以 1298 K 温度通过 SiS2 时，会形成 (F3Si)2O 而不是 (F2SiS)2。(F3Si)2S、F3SiSH 及其氘代衍生物 F3SiSD 的拉曼光谱和红外光谱已被测量并分配给振动基础。已记录多核核磁共振谱。F3SiSH 和 (F3Si)2S： Klarung widespruchlicher Beobachtungen

  DOI：

  10.1002/1521-3749(200106)627:6<1217::aid-zaac1217>3.0.co;2-b
• 作为产物：
  描述：

  碘 、 六氟乙硅烷 以 gas 为溶剂， 生成 二氟(二碘)硅烷 、 silicon tetrafluoride
  参考文献：
  名称：

  碘存在下六氟乙硅烷气相热解的动力学和机理以及二氟化硅的一些反应

  摘要：

  Si的气相热分解2 ˚F 6中的我的存在2已发现遵循一级动力学与的SiF的形成4，的SiF 2我2和SIF 3 I.反应似乎是均匀的，一致的其机理为：Si 2 F 6 →SiF 2 + SiF 4（慢）（1），SiF 2 + I 2 →SiF 2 I 2（快速）。（2）SiF 3我是次要产品，其形成机理尚不确定。在603–652 K温度范围内的速率测量符合Arrhenius方程：log（k 1 / s –1）=（12.41±0.24）–（193.5±2.9 kJ mol –1）/ R T ln 10。在630 K下，发现SiF 2与I 2的反应比与O 2的反应快3.6倍，比HI快17倍。SiF 2与I 2的反应也比与HBr或苯的反应至少快10 2倍，比SiF 4的反应快10 4倍以上。缺少I原子位移过程是一致d（F 3的Si-的SiF 3）337千焦耳摩尔-1，这导致值Δ ħ ⊖ ˚F（SI

  DOI：

  10.1039/f29868200837

文献信息

• Silicon-fluorine chemistry—IX
  作者：J.L. Margrave、K.G. Sharp、P.W. Wilson

  DOI：10.1016/0022-1902(70)80587-5

  日期：1970.6

  Silicon difluoride reacts with CF3I to give mainly CF3SiF2I. Other products are CF3SiF2SiF2I, SiF3SiF2I, SiF3SiF2SiF2I, SiF2ISiF2I and SiF2ISiF2SiF2I. The mass spectra and NMR spectra of these compounds are described and also the i.r. spectrum of CF3SiF2I is reported. A reaction mechanism which accounts for these products is proposed.

  与CF二氟化硅发生反应3我主要给CF 3的SiF 2个I.其他产品是CF 3的SiF 2的SiF 2我的SiF 3的SiF 2我的SiF 3的SiF 2的SiF 2我的SiF 2 ISIF 2我和SIF 2 ISIF 2的SiF 2 I.质谱和这些化合物的NMR谱中描述，并且还CF的IR光谱3的SiF 2我被报告。提出了解释这些产物的反应机理。
• Reaction of silicon difluoride with halogens: a reinvestigation
  作者：Bettadapura S. Suresh、James Charlton Thompson

  DOI：10.1039/dt9870001123

  日期：——

  Reactions of SiF2 with halogens have been reinvestigated by both co-condensation and gas-phase methods. The co-condensation method yields a number of fluorohalogenosilanes including mono-, di-, and higher silane derivatives. These compounds contain SiF, SiF2, and SiF3 units. The reactivity towards SiF2 decreases from chlorine through bromine to iodine. While chlorine and bromine give rise to a number

  SiF 2与卤素的反应已通过共缩合和气相方法进行了重新研究。该共缩合方法产生许多氟代卤代硅烷，包括单，二和高级硅烷衍生物。这些化合物包含SiF，SiF 2和SiF 3单元。对SiF 2的反应性从氯到溴再到碘。尽管氯和溴会生成许多氟代卤代硅烷，但碘只能生成甲硅烷衍生物。相反，气相反应没有进行到任何明显的程度。产品已通过质谱和19 F和29进行了表征Si nmr光谱。许多是第一次被发现。
• Gmelin Handbuch der Anorganischen Chemie, Gmelin Handbook: C: MVol.D2, 4.2.4.4.7, page 322 - 323
  作者：

  DOI：——

  日期：——
• F3SiSH and (F3Si)2S: Conflicting Observations Resolved by Unambiguous Syntheses
  作者：Helmut Beckers、Hans Bürger

  DOI：10.1002/1521-3749(200106)627:6<1217::aid-zaac1217>3.0.co;2-b

  日期：2001.6

  (F3SiS)2SiF2. Diese Fluorsilylsulfane haben eine bemerkenswert unterschiedliche thermische Stabilitat. Wahrend sich (F3SiS)2SiF2 bereits bei Raumtemperatur zersetzt, ist das bei dieser Temperatur stabile (F3Si)2S eine vielseitige Ausgangsverbindung zur Synthese von F3Si-Derivaten. Das Silylsulfan F3SiSH konnte neben F3SiBr durch selektive Spaltung einer SiS-Bindung von flussigem (F3Si)2S mit HBr in reiner

  液态 F3SiI 与红色 HgS 之间的反应主要产生二甲硅烷基硫烷 (F3Si)2S，以及少量迄今未知的 (F3SiS)2SiF2。这些氟甲硅烷基硫烷具有不同的热稳定性。(F3Si)2S 是 F3Si 衍生物的通用前体，在环境温度下它是稳定的，而 (F3SiS)2SiF2 分解迅速。F3SiSH 与 F3SiBr 一起是通过在液相中用 HBr 选择性裂解 (F3Si)2S 中的一个 Si-S 键而获得的，并且首次得到明确表征。与之前的报道相反，当 SiF4 在石英管中以 1298 K 温度通过 SiS2 时，会形成 (F3Si)2O 而不是 (F2SiS)2。(F3Si)2S、F3SiSH 及其氘代衍生物 F3SiSD 的拉曼光谱和红外光谱已被测量并分配给振动基础。已记录多核核磁共振谱。F3SiSH 和 (F3Si)2S： Klarung widespruchlicher Beobachtungen
• Kinetics and mechanism of the gas-phase pyrolysis of hexafluorodisilane in the presence of iodine and some reactions of silicon difluoride
  作者：Swroop K. Bains、Paul N. Noble、Robin Walsh

  DOI：10.1039/f29868200837

  日期：——

  gas-phase thermal decomposition of Si2F6 in the presence of I2 has been found to follow first-order kinetics with the formation of SiF4, SiF2I2 and SiF3I. The reactions appear to be homogeneous and consistent with the mechanism: Si2F6→ SiF2+ SiF4(slow)(1), SiF2+ I2→ SiF2I2(fast).(2) SiF3I is a minor product and its mechanism of formation is uncertain. Rate measurements over the temperature range 603–652

  Si的气相热分解2 ˚F 6中的我的存在2已发现遵循一级动力学与的SiF的形成4，的SiF 2我2和SIF 3 I.反应似乎是均匀的，一致的其机理为：Si 2 F 6 →SiF 2 + SiF 4（慢）（1），SiF 2 + I 2 →SiF 2 I 2（快速）。（2）SiF 3我是次要产品，其形成机理尚不确定。在603–652 K温度范围内的速率测量符合Arrhenius方程：log（k 1 / s –1）=（12.41±0.24）–（193.5±2.9 kJ mol –1）/ R T ln 10。在630 K下，发现SiF 2与I 2的反应比与O 2的反应快3.6倍，比HI快17倍。SiF 2与I 2的反应也比与HBr或苯的反应至少快10 2倍，比SiF 4的反应快10 4倍以上。缺少I原子位移过程是一致d（F 3的Si-的SiF 3）337千焦耳摩尔-1，这导致值Δ ħ ⊖ ˚F（SI