hexafluorosilicate anion | 17084-08-1

• 物质功能分类: 无机化工 - 无机盐 - 硅化物及硅酸盐
• 分子结构分类: 无机化合物 - 混合金属/非金属化合物 - 类金属盐
• 英文名称: hexafluorosilicate anion
• 英文别名: hexafluorosilicate(2-)；hexafluorosilicate
• CAS: 17084-08-1
• 化学式: F₆Si
• 分子量: 142.076
• InChiKey: GRHPLYXQCBIFDA-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 密度：
  4.75 g/cm3

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  2.14
• 重原子数：
  7.0
• 可旋转键数：
  0.0
• 环数：
  0.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.0
• 拓扑面积：
  0.0
• 氢给体数：
  0.0
• 氢受体数：
  0.0

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  hexafluorosilicate anion 在 alkali hydroxide 、 水 作用下， 以 水 为溶剂， 生成 silicic acid 、 氢氟酸
  参考文献：
  名称：

  Rees, A. G.; Hudleston, L. J., Journal of the Chemical Society

  摘要：

  DOI：
• 作为产物：
  描述：

  氢氟酸 、 硅烷 生成 hexafluorosilicate anion
  参考文献：
  名称：

  Levy-Clement; Bastide, Zeitschrift fur Physikalische Chemie, 1999, vol. 212, # 2, p. 123 - 143

  摘要：

  DOI：

文献信息

• Reactions of Half-Sandwich Ethene Complexes of Rhodium(I) toward Iodoperfluorocarbons: Perfluoro-alkylation or -arylation of Coordinated Ethene versus Oxidative Addition
  作者：Juan Gil-Rubio、Juan Guerrero-Leal、María Blaya、José Vicente、Delia Bautista、Peter G. Jones

  DOI：10.1021/om2009588

  日期：2012.2.27

  respectively. Bridge splitting reactions of 1a, 1b, or 1c with phosphines afford complexes [Rh(η5-Cp*)(CH2CH2RF)I(PR3)] (3a, 3a′, 3c; RF = CF(CF3)2, R = iPr (3a″); RF = CF(CF3)CF2CF3, R = Me (3b), Ph (3b′)). In contrast, oxidative addition dominates over addition to ethene in the reactions of [Rh(η5-Cp*)(η2-C2H4)(PMe3)] with IRF (RF = CF2C6F5, nC3F7, nC4F9, CF═CF2) and in the reaction of [Rh(η5-Cp)(η2-C2H4)(PMe3)]

  全氟烷基化或协调的乙烯的perfluoroarylation时发生复合物的[Rh（η 5 -Cp *）（η 2 -C 2 H ^ 4）2 ]或[铑（η 5 -Cp *）（η 2 -C 2 H ^ 4）（ PR 3）]与IR反应˚F，得到复合物的[Rh（η 5 -Cp *）（CH 2 CH 2 - [R ˚F）（μ-I）] 2（R ˚F = CF（CF 3）2（1A）， CF（CF 3）CF 2 CF 3（图1b），或C（CF 3）3（1C））和[（η 5 -Cp *）IRH（μ-I）2的Rh（η 5 -Cp *）（CH 2 CH 2 - [R ˚F）]（2A - ç），或铑[Rh（η 5 -Cp *）（CH 2 CH 2 - [R ˚F）I（PR 3）]（R =我，R ˚F = CF（CF 3）2（图3a），C（CF 3）3（3c），C 6 F 5（3d）; R ＝ Ph，RF＝ CF（CF
• Electrodissolution of p-Si in Acidic Fluoride Media Modeling of the Steady State
  作者：S. Cattarin、I. Frateur、M. Musiani、B. Tribollet

  DOI：10.1149/1.1393895

  日期：——

  With the aim of explaining the dependence of the steady-state electrodissolution current density (I) of Si in acidic fluoride media on total fluoride concentration (C F ), pH, and mass transfer rate, a kinetic model is proposed. The Si electrode is assumed to be covered by a thin SiO 2 layer, formed by an electrochemical reaction at the Si/oxide interface, which undergoes dissolution by three parallel

  为了解释酸性氟化物介质中 Si 的稳态电溶解电流密度 (I) 对总氟化物浓度 (CF )、pH 和传质速率的依赖性，提出了一个动力学模型。假设 Si 电极被薄的 SiO 2 层覆盖，该层由 Si/氧化物界面处的电化学反应形成，通过三个平行的化学反应进行溶解。这些反应在HF和HF-2的作用下将SiO 2 转化为SiF 6 2- ，并在混合控制下发生；假定它们的动力学是二阶的。假定氟化物物质和 H + 之间快速平衡。将该模型与我们自己获得的实验结果和文献中的实验结果进行了比较。CF、pH、and Ω dependencies of the current density measured at a fixed potential in the electropolishing domain are well reproduced with an appropriate choice of the
• Gmelin Handbuch der Anorganischen Chemie, Gmelin Handbook: Ca: MVol.B1, 26, page 70 - 72
  作者：

  DOI：——

  日期：——
• Fluorosilicate equilibria in acid solution
  作者：Liberato Ciavatta、Mauro Iuliano、Raffaella Porto

  DOI：10.1016/s0277-5387(00)80410-6

  日期：1988.1
• Borodin, P. M.; Zao, Nguyen Kim, Zhurnal Neorganicheskoi Khimii, 1972, vol. 17, p. 959 - 961
  作者：Borodin, P. M.、Zao, Nguyen Kim

  DOI：——

  日期：——