nickel silicide | 12059-14-2

• 物质功能分类: 无机化工 - 无机盐 - 硅化物及硅酸盐
• 分子结构分类: 无机化合物 - 混合金属/非金属化合物 - 各种混合金属/非金属
• 英文名称: nickel silicide
• 英文别名: Nickelsilicid；Nickel--silane (2/1)；nickel;silane
• CAS: 12059-14-2
• 化学式: Ni₂Si
• 分子量: 145.465
• InChiKey: AMPPZWAWRVKPER-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 熔点：
  1255°C
• 密度：
  7.400
• 暴露限值：
  ACGIH: TWA 0.2 mg/m3NIOSH: IDLH 10 mg/m3; TWA 0.015 mg/m3
• 稳定性/保质期：
  在常温常压下稳定，请避免光照、明火及高温环境。

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  -1.46
• 重原子数：
  3.0
• 可旋转键数：
  0.0
• 环数：
  0.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.0
• 拓扑面积：
  0.0
• 氢给体数：
  0.0
• 氢受体数：
  0.0

安全信息

• TSCA：
  Yes
• 危险等级：
  9
• 储存条件：
  常温密闭保存，阴凉通风干燥处存放。

制备方法与用途

理化性质

硅化镍的分子量为145.51，熔点为1309℃，相对密度为7.217。它迅速溶解于氢氟酸中，缓慢溶解于盐酸中，并且不溶于水。在常温下，硅化镍与氟激烈反应直至白热状态；在高温条件下，硅化镍会与氯气发生反应。遇到水分时，硅化镍会发生分解。

制法

将氧化硅、氧化镍(Ⅱ)及铝在鼓风炉中加热可制得硅化镍。

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  nickel silicide 以 neat (no solvent) 为溶剂， 生成 nickel silicide
  参考文献：
  名称：

  Stoichiometry and structural disorder effects on the electronic structure of Ni and Pd silicides

  摘要：

  DOI：

  10.1103/physrevb.26.2748
• 作为产物：
  描述：

  四氯化硅 、 镍 在 氢气 作用下， 以 gas 为溶剂， 生成 nickel silicide
  参考文献：
  名称：

  Hydrodehalogenation of chlorosilanes in the presence of metal silicides: experimental studies of gas and solid phase composition related to thermodynamic calculations

  摘要：

  热力学计算表明，与实验研究结果一致，过渡金属在 600-1200 K 的 H2-SiCl4 气氛中会发生反应，生成金属硅化物。随着温度的升高，化学计量学将向硅含量更高的硅化物方向变化。原位形成的硅化物既是催化剂，也是 SiCl4 加氢反应生成硅烷的硅源。根据硅化物的形成焓，可以将硅化物的形成系统化。

  DOI：

  10.1039/ft9959103879

文献信息

• Reactivity of Intermetallic Compounds:  A Solid State Approach to Direct Reactions of Silicon
  作者：Jörg Acker、Klaus Bohmhammel

  DOI：10.1021/jp0130315

  日期：2002.5.1

  work is focused on a new approach to describe, quantify, and compare the reactivity of various transition metal silicide phases toward hydrogen chloride. Thermodynamic and kinetic parameters are obtained from isothermal calorimetric studies of these reactions. The reactivity of the silicide phases is discussed in terms of reaction start temperatures, rate constants, and apparent activation energies. Negative

  目前的工作重点是描述、量化和比较各种过渡金属硅化物相对氯化氢的反应性的新方法。从这些反应的等温量热研究中获得热力学和动力学参数。硅化物相的反应性根据反应起始温度、速率常数和表观活化能进行了讨论。在低温下观察到负的表观活化能，这归因于反应的初始阶段，氯被化学吸附，然后结合到表面附近的硅化物晶格中。稍后，形成具有与本体相显着不同的组成和反应性的含氯反应层。在固态调查的基础上，提出了这些层的微观结构的扩散模型，其中镍原子发生置换，随后氯占据镍位点。一个模型是建议...
• Phase relationships in the La–Ni–Si system at 673 K
  作者：Huaiying Zhou、Qingrong Yao、Songliu Yuan、Jingqi Liu、Heixia Deng

  DOI：10.1016/s0925-8388(03)00698-4

  日期：2004.3

  The phase relationships in the La–Ni–Si ternary system at 673 K were investigated by X-ray diffraction (XRD), differential thermal analysis (DTA), scanning electron microscopy (SEM) and electron probe microanalysis (EPMA). All phase relationships were studied at 673 K. At this temperature, the existence of 14 ternary compounds has been confirmed. This section consists of 35 single-phase regions, 78

  摘要 通过 X 射线衍射 (XRD)、差热分析 (DTA)、扫描电子显微镜 (SEM) 和电子探针微量分析 (EPMA) 研究了 673 K 下 La-Ni-Si 三元体系中的相关系。所有的相关系都是在 673 K 下研究的。在这个温度下，已经确认了 14 种三元化合物的存在。该部分由35个单相区、78个二相区和47个三相区组成。在 673 K 时，Si 在 Ni、La 2 Ni 7 、LaNi 5 和 La 2 NiSi 中的最大固溶度分别约为 9、3、8.33 和 5 at.%。几种三元化合物形成一个均质区，可以表示为 LaNi 11.6–9.5 Si 1.4–3.5 、LaNi 8.8–8.4 Si 4.2–4.6 和 LaNi 7.8–6.5 Si 5.2–6.5 。
• Inverse photoemission study of nickel silicides
  作者：M. Azizan、R. Baptist、G. Chauvet、T.A. Nguyen Tan

  DOI：10.1016/0038-1098(86)90658-7

  日期：1986.1

  Abstract Nickel silicides have been prepared in situ and measured by inverse photoemission in the VUV range. With concomitant ultra-violet photoemission spectroscopy, these experiments allow first to locate the positions of the occupied and non occupied bonding, non bonding and antibonding electronic states, which originate from the nickel d and silicon sp electrons when silicide compounds are formed

  摘要 硅化镍已被原位制备并通过 VUV 范围内的逆光电发射进行测量。利用伴随的紫外光发射光谱，这些实验首先允许定位占据和未占据键合、非键合和反键合电子态的位置，这些电子态起源于形成硅化物时的镍 d 和硅 sp 电子，然后进行比较它们具有理论上导出的能量分布曲线。
• Hydrodehalogenation of chlorosilanes in the presence of metal silicides: experimental studies of gas and solid phase composition related to thermodynamic calculations
  作者：K. Bohmhammel、G. Roewer、H. Walter

  DOI：10.1039/ft9959103879

  日期：——

  Thermodynamic calculations show, in accordance with experimental investigations, that transition metals in an H2–SiCl4 atmosphere in the temperature range 600–1200 K will react to form metal silicides. With rising temperature, stoichiometry will change in the direction of silicides with a higher silicon content. The silicides formed in situ act both as a catalyst and a silicon source for the hydrogenation reaction of SiCl4 to form silanes. On the basis of the formation enthalpy of the silicides, systematization of silicide formation is possible.

  热力学计算表明，与实验研究结果一致，过渡金属在 600-1200 K 的 H2-SiCl4 气氛中会发生反应，生成金属硅化物。随着温度的升高，化学计量学将向硅含量更高的硅化物方向变化。原位形成的硅化物既是催化剂，也是 SiCl4 加氢反应生成硅烷的硅源。根据硅化物的形成焓，可以将硅化物的形成系统化。
• A Co-reduction–Silicification Route to δ-Ni₂Si Nanowire
  作者：Baojun Yang、Hanmei Hu、Yucheng Wu、Tao Luo、Xiaogang Yang、Yitai Qian

  DOI：10.1246/cl.2005.326

  日期：2005.3

  δ-Ni2Si nanowires have been synthesized via a co-reduction–silicification route, using anhydrous NiCl2 and SiCl4 as nickel source and silicon source, respectively, and metallic Na as reductant in an autoclave at 600 °C for 16 h. Transmission electron microscopy (TEM) observations show that the diameters of nanowires ranged in 10–100 nm and lengths up to several tens micrometers. The possible formation mechanism is discussed.

  δ-Ni2Si纳米线是通过共还原-硅化途径合成的，分别使用无水NiCl2和SiCl4作为镍源和硅源，金属Na作为还原剂，在高压釜中在600℃下反应16小时。透射电子显微镜（TEM）观察表明，纳米线的直径在10-100 nm之间，长度可达数十微米。讨论了可能的形成机制。