我们报告了使用改良的Bridgman方法避免使用卤素转运剂的高质量的ReS 2和ReSe 2过渡
金属二卤化物单晶的合成。使用X射线衍射和电子显微镜进行的全面结构表征证实了两种晶体的三斜晶系1 T '结构均发生了扭曲,并揭示了ReS 2中缺少Bernal堆积。在ReS 2上的光致发光(PL)测量表明,与层无关的带隙为1.51 eV,来自较厚薄片的PL强度增加,证实层间耦合在该材料中可忽略不计。对于ReSe 2,带隙对层的依赖性很弱,从薄层的1.31 eV降低到厚片的1.29 eV。两种
硫族化物都显示了特征丰富的拉曼光谱,并对其激发能量依赖性进行了研究。从剥落薄片制成的FET结构中提取出来的晶体生长过程固有的较低背景掺杂导致ReS 2和ReSe 2的场效应迁移率值分别为79和0.8 cm 2 /(V s)。我们的工作表明,ReX 2
硫族化物有望成为2D材料的候选材料,尤其是对于光电器件,而无需具有单层薄薄片即可实现直接带隙的要求。