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tetrabromocuprate(I) | 55319-08-9

中文名称
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中文别名
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英文名称
tetrabromocuprate(I)
英文别名
——
tetrabromocuprate(I)化学式
CAS
55319-08-9
化学式
Br4Cu
mdl
——
分子量
383.162
InChiKey
GSKZSYPFTIECAD-UHFFFAOYSA-J
BEILSTEIN
——
EINECS
——
  • 物化性质
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计算性质

  • 辛醇/水分配系数(LogP):
    3.38
  • 重原子数:
    5.0
  • 可旋转键数:
    0.0
  • 环数:
    0.0
  • sp3杂化的碳原子比例:
    0.0
  • 拓扑面积:
    0.0
  • 氢给体数:
    0.0
  • 氢受体数:
    0.0

反应信息

  • 作为产物:
    描述:
    tetrabromocuprate三氧化硫 在 sodium bromide 作用下, 以 为溶剂, 以>99的产率得到tetrabromocuprate(I)
    参考文献:
    名称:
    Maßanalytische Bestimmung von Kupfer(II)-Ionen mit Natriumthiosulfat unter Einsparung von Jod
    摘要:
    DOI:
    10.1007/bf00482029
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文献信息

  • <sup>63</sup>Cu High Resolution NMR of Cu(I) Halides in Aqueous Solution and Suspension
    作者:Kazunaka Endo、Kyonosuke Yamamoto、Kenzo Deguchi、Kazuhiro Matsushita
    DOI:10.1246/bcsj.60.2803
    日期:1987.8
    In an aqueous solution, 63Cu chemical shielding order ([CuCl4]3− \simeq[CuBr4]3−<[CuI4]3−) and line widths (10 to 30 kHz) for CuX–KX systems(where X=Cl, Br, I) have been obtained. The chemical shift(−694 ppm) between [CuCl4]3− and [Cu(CN)4]3− is interpreted by the paramagnetic term which depends mainly upon a 3d-hole on a Cu(I) atom by using perturbation theory with an average excitation energy approximation. The linebroadening of Cu(I) halide complexes in aqueous solution is explained dominantly by a Cu(I) nuclear quadrupole interaction with the electric field gradient which arises from a 3d-hole on a Cu atom. For the abnormal increasing metal shielding order of [MX4](4−i)−([MCl4](4−i)−≤[MBr4](4−i)−<[MI4](4−i)−), a possibility of the heavyatom effect in the metal shielding of [CuI4]3−(649 ppm, using the lowest excitation energy of the diatomic molecule) and [CdI4]3−(1941 ppm using the lowest excitation energy of the diatomic molecule), is evaluated.
    溶液中,获得了 CuX-KX 系统(其中 X=Cl、Br、I)的 63Cu 化学屏蔽顺序([CuCl4]3- (simeq[CuBr4]3-<[CuI4]3-)和线宽(10 至 30 kHz)。利用平均激发能量近似的扰动理论,[CuCl4]3- 和 [Cu(CN)4]3- 之间的化学位移(-694 ppm)可以用顺磁项来解释,该顺磁项主要取决于 Cu(I)原子上的 3d 空穴。在水溶液中,Cu(I) 卤化物配合物的线宽主要由 Cu(I) 核四极与电场梯度的相互作用来解释,而电场梯度是由 Cu 原子上的 3d 孔产生的。针对[MX4](4-i)-([MCl4](4-i)-≤[MBr4](4-i)-<[MI4](4-i)-)金属屏蔽顺序的异常递增,评估了重原子效应在[CuI4]3-(649 ppm,使用二原子分子的最低激发能)和[CdI4]3-(1941 ppm,使用二原子分子的最低激发能)属屏蔽中的可能性。
  • Gmelin Handbuch der Anorganischen Chemie, Gmelin Handbook: Cu: MVol.B3, 190, page 1411 - 1413
    作者:
    DOI:——
    日期:——
  • Gmelin Handbuch der Anorganischen Chemie, Gmelin Handbook: S: MVol.B2, 1.6.4, page 543 - 552
    作者:
    DOI:——
    日期:——
  • Creighton, J. A.; Lippincott, E., Journal of the Chemical Society
    作者:Creighton, J. A.、Lippincott, E.
    DOI:——
    日期:——
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