hexafluorodisilthiane | 41066-09-5

• 分子结构分类: 无机化合物 - 混合金属/非金属化合物 - 类金属盐
• 英文名称: hexafluorodisilthiane
• 英文别名: Hexafluorodisilathiane；trifluoro(trifluorosilylsulfanyl)silane
• CAS: 41066-09-5
• 化学式: F₆SSi₂
• 分子量: 202.227
• InChiKey: IDVBDTDEZCOVTJ-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 密度：
  1.378±0.06 g/cm3(Predicted)

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  2.41
• 重原子数：
  9
• 可旋转键数：
  0
• 环数：
  0.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.0
• 拓扑面积：
  25.3
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  7

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  hexafluorodisilthiane 、 溴化氘 以 neat (no solvent) 为溶剂， 生成
  参考文献：
  名称：

  F3SiSH 和 (F3Si)2S：通过明确综合解决的冲突观察

  摘要：

  液态 F3SiI 与红色 HgS 之间的反应主要产生二甲硅烷基硫烷 (F3Si)2S，以及少量迄今未知的 (F3SiS)2SiF2。这些氟甲硅烷基硫烷具有不同的热稳定性。(F3Si)2S 是 F3Si 衍生物的通用前体，在环境温度下它是稳定的，而 (F3SiS)2SiF2 分解迅速。F3SiSH 与 F3SiBr 一起是通过在液相中用 HBr 选择性裂解 (F3Si)2S 中的一个 Si-S 键而获得的，并且首次得到明确表征。与之前的报道相反，当 SiF4 在石英管中以 1298 K 温度通过 SiS2 时，会形成 (F3Si)2O 而不是 (F2SiS)2。(F3Si)2S、F3SiSH 及其氘代衍生物 F3SiSD 的拉曼光谱和红外光谱已被测量并分配给振动基础。已记录多核核磁共振谱。F3SiSH 和 (F3Si)2S： Klarung widespruchlicher Beobachtungen

  DOI：

  10.1002/1521-3749(200106)627:6<1217::aid-zaac1217>3.0.co;2-b
• 作为产物：
  描述：

  mercury sulfide 、 trifluoro-iodo-silane 以 neat (no solvent) 为溶剂， 生成 hexafluorodisilthiane 、 silicon tetrafluoride
  参考文献：
  名称：

  二氟硅烷硫酮 F2Si=S 通过 (F3Si)2S 的快速真空热解和 SiS 与 F2 的反应——基质研究和从头算计算

  摘要：

  二氟硅烷硫酮 F2Si=S (1) 已通过 (F3Si)2S 在 ≥ 500 °C 下的快速真空热解合成并被困在 Ar 基质中。此外，通过 SiS 和 F2/Ar 的共沉积以及在低温条件下热解基质分离的 SiS2-XeF2 复合物，已经获得了 1。在矩阵红外光谱中观察到 1 的所有六个振动基础。已经使用大型基组在 MP2 和 CCSD(T) 级别进行了从头算计算。这些计算指导了 1 的检测和振动分配。具有 C2v 对称性的 1 结构的最佳估计是：r(Si=S) 191.1(1) pm, r(SiF) 156.1(1) pm, ki(FSiF) 103.3(2)°。

  DOI：

  10.1002/(sici)1099-0682(199911)1999:11<2013::aid-ejic2013>3.0.co;2-k