trifluoro-iodo-silane | 16865-60-4

• 分子结构分类: 无机化合物 - 混合金属/非金属化合物 - 类金属盐
• 英文名称: trifluoro-iodo-silane
• 英文别名: iodo-trifluoro-silane；Trifluoroiodosilane；trifluoro(iodo)silane
• CAS: 16865-60-4
• 化学式: F₃ISi
• 分子量: 211.985
• InChiKey: XKYJNVLOULBJMB-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 密度：
  2.131±0.06 g/cm3(Predicted)

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  1.77
• 重原子数：
  5
• 可旋转键数：
  0
• 环数：
  0.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.0
• 拓扑面积：
  0
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  3

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  trifluoro-iodo-silane 、 silver cyanide 以 not given 为溶剂， 生成 trifluorosilyl cyanide 、 trifluorosilyl isocyanide
  参考文献：
  名称：

  SiF 3 CN和SiF 3 NC的微波检测，结构和偶极矩

  摘要：

  已测量了SiF 3 X（X = I，Br）与AgCN反应生成的气体混合物中的SiF 3 CN和SiF 3 NC的微波光谱。该物种已通过详细的同位素取代通过完整的结构确定进行了鉴定。SiF 3 CN的零点平均结构确定为：SiC = 1.828（3），CN= 1.152（1），SiF = 1.551（3），FSiF = 109.8（1）°。对于SiF 3 NC，平均结构为：SiN = 1.707（3），NC= 1.168（1），SiF = 1.548（3），FSiF = 109.7（1）°。偶极矩已通过Stark测量确定为μ（SiF 3 CN）= 1.620（4）D和μ（SiF 3 NC）= 1.13（3）D.

  DOI：

  10.1016/0009-2614(89)87285-9
• 作为产物：
  描述：

  苯基三氟硅烷 在 aluminium(III) iodide 、 氢碘酸 作用下， 反应 3.25h， 以49%的产率得到trifluoro-iodo-silane
  参考文献：
  名称：

  Preparation of mixed-halogen halo-silanes

  摘要：

  本文描述了制备具有混合卤素取代基的卤硅烷的方法，包括提供一个具有一个或多个第一卤素和一个或多个芳基的芳基卤硅烷，并用原子序数大于所述第一卤素的第二卤素取代所述芳基卤硅烷的一个或多个芳基基团。

  公开号：

  US20040019231A1

文献信息

• F3SiSH and (F3Si)2S: Conflicting Observations Resolved by Unambiguous Syntheses
  作者：Helmut Beckers、Hans Bürger

  DOI：10.1002/1521-3749(200106)627:6<1217::aid-zaac1217>3.0.co;2-b

  日期：2001.6

  (F3SiS)2SiF2. Diese Fluorsilylsulfane haben eine bemerkenswert unterschiedliche thermische Stabilitat. Wahrend sich (F3SiS)2SiF2 bereits bei Raumtemperatur zersetzt, ist das bei dieser Temperatur stabile (F3Si)2S eine vielseitige Ausgangsverbindung zur Synthese von F3Si-Derivaten. Das Silylsulfan F3SiSH konnte neben F3SiBr durch selektive Spaltung einer SiS-Bindung von flussigem (F3Si)2S mit HBr in reiner

  液态 F3SiI 与红色 HgS 之间的反应主要产生二甲硅烷基硫烷 (F3Si)2S，以及少量迄今未知的 (F3SiS)2SiF2。这些氟甲硅烷基硫烷具有不同的热稳定性。(F3Si)2S 是 F3Si 衍生物的通用前体，在环境温度下它是稳定的，而 (F3SiS)2SiF2 分解迅速。F3SiSH 与 F3SiBr 一起是通过在液相中用 HBr 选择性裂解 (F3Si)2S 中的一个 Si-S 键而获得的，并且首次得到明确表征。与之前的报道相反，当 SiF4 在石英管中以 1298 K 温度通过 SiS2 时，会形成 (F3Si)2O 而不是 (F2SiS)2。(F3Si)2S、F3SiSH 及其氘代衍生物 F3SiSD 的拉曼光谱和红外光谱已被测量并分配给振动基础。已记录多核核磁共振谱。F3SiSH 和 (F3Si)2S： Klarung widespruchlicher Beobachtungen
• Difluorosilanethione F2Si=S by Flash Vacuum Thermolysis of (F3Si)2S and by Reaction of SiS with F2 – Matrix Studies and Ab initio Calculations
  作者：Helmut Beckers、Jürgen Breidung、Hans Bürger、Ralf Köppe、Carsten Kötting、Wolfram Sander、Hansgeorg Schnöckel、Walter Thiel

  DOI：10.1002/(sici)1099-0682(199911)1999:11<2013::aid-ejic2013>3.0.co;2-k

  日期：1999.11

  in an Ar matrix. Furthermore, 1 has been obtained by co-deposition of SiS and F2/Ar and by pyrolysis of a matrix-isolated SiS2–XeF2 complex under cryogenic conditions. All six vibrational fundamentals of 1 have been observed in the matrix IR spectrum. Ab initio calculations at the MP2 and CCSD(T) levels using large basis sets have been performed. These calculations have guided the detection of 1 and

  二氟硅烷硫酮 F2Si=S (1) 已通过 (F3Si)2S 在 ≥ 500 °C 下的快速真空热解合成并被困在 Ar 基质中。此外，通过 SiS 和 F2/Ar 的共沉积以及在低温条件下热解基质分离的 SiS2-XeF2 复合物，已经获得了 1。在矩阵红外光谱中观察到 1 的所有六个振动基础。已经使用大型基组在 MP2 和 CCSD(T) 级别进行了从头算计算。这些计算指导了 1 的检测和振动分配。具有 C2v 对称性的 1 结构的最佳估计是：r(Si=S) 191.1(1) pm, r(SiF) 156.1(1) pm, ki(FSiF) 103.3(2)°。
• Silicon-fluorine chemistry—IX
  作者：J.L. Margrave、K.G. Sharp、P.W. Wilson

  DOI：10.1016/0022-1902(70)80587-5

  日期：1970.6

  Silicon difluoride reacts with CF3I to give mainly CF3SiF2I. Other products are CF3SiF2SiF2I, SiF3SiF2I, SiF3SiF2SiF2I, SiF2ISiF2I and SiF2ISiF2SiF2I. The mass spectra and NMR spectra of these compounds are described and also the i.r. spectrum of CF3SiF2I is reported. A reaction mechanism which accounts for these products is proposed.

  与CF二氟化硅发生反应3我主要给CF 3的SiF 2个I.其他产品是CF 3的SiF 2的SiF 2我的SiF 3的SiF 2我的SiF 3的SiF 2的SiF 2我的SiF 2 ISIF 2我和SIF 2 ISIF 2的SiF 2 I.质谱和这些化合物的NMR谱中描述，并且还CF的IR光谱3的SiF 2我被报告。提出了解释这些产物的反应机理。
• Reaction of silicon difluoride with halogens: a reinvestigation
  作者：Bettadapura S. Suresh、James Charlton Thompson

  DOI：10.1039/dt9870001123

  日期：——

  Reactions of SiF2 with halogens have been reinvestigated by both co-condensation and gas-phase methods. The co-condensation method yields a number of fluorohalogenosilanes including mono-, di-, and higher silane derivatives. These compounds contain SiF, SiF2, and SiF3 units. The reactivity towards SiF2 decreases from chlorine through bromine to iodine. While chlorine and bromine give rise to a number

  SiF 2与卤素的反应已通过共缩合和气相方法进行了重新研究。该共缩合方法产生许多氟代卤代硅烷，包括单，二和高级硅烷衍生物。这些化合物包含SiF，SiF 2和SiF 3单元。对SiF 2的反应性从氯到溴再到碘。尽管氯和溴会生成许多氟代卤代硅烷，但碘只能生成甲硅烷衍生物。相反，气相反应没有进行到任何明显的程度。产品已通过质谱和19 F和29进行了表征Si nmr光谱。许多是第一次被发现。
• Gmelin Handbuch der Anorganischen Chemie, Gmelin Handbook: F: PerFHalOrg.SVol.1, 5.2.7.1, page 104 - 132
  作者：

  DOI：——

  日期：——