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5,6-Dibutyloctadecan-5-ylphosphanium;chloride

中文名称
——
中文别名
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英文名称
5,6-Dibutyloctadecan-5-ylphosphanium;chloride
英文别名
——
5,6-Dibutyloctadecan-5-ylphosphanium;chloride化学式
CAS
——
化学式
C26H56ClP
mdl
——
分子量
435.1
InChiKey
CFOMZAAERAKKKC-UHFFFAOYSA-N
BEILSTEIN
——
EINECS
——
  • 物化性质
  • 计算性质
  • ADMET
  • 安全信息
  • SDS
  • 制备方法与用途
  • 上下游信息
  • 反应信息
  • 文献信息
  • 表征谱图
  • 同类化合物
  • 相关功能分类
  • 相关结构分类

计算性质

  • 辛醇/水分配系数(LogP):
    6.83
  • 重原子数:
    28
  • 可旋转键数:
    21
  • 环数:
    0.0
  • sp3杂化的碳原子比例:
    1.0
  • 拓扑面积:
    0
  • 氢给体数:
    0
  • 氢受体数:
    1

文献信息

  • PROCESS FOR THE PRODUCTION OF TRIARYL ORGANOBORATES
    申请人:Covestro Deutschland AG
    公开号:US20190276479A1
    公开(公告)日:2019-09-12
    The invention relates to a process for preparing triaryl organoborates proceeding from alkyl or cycloalkyl boronates in the presence of an n-valent cation 1/n K n+ and to the use of these substances as co-initiator in photopolymer formulations.
    这项发明涉及一种制备三芳基有机硼酸盐的过程,该过程从烷基或环烷基硼酸盐在n价阳离子1/n Kn+存在下进行,并将这些物质用作光聚合物配方中的协同引发剂。
  • METHOD FOR PRODUCING TRIARYLORGANOBORATES
    申请人:Covestro Deutschland AG
    公开号:US20190263838A1
    公开(公告)日:2019-08-29
    The invention relates to a process for preparing triaryl organoborates proceeding from organoboronic esters in the presence of an n-valent cation 1/n K n+ , comprising the anhydrous workup of the reaction mixture and the use of the triaryl organoborates obtained as co-initiator in photopolymer formulations, holographic media and holograms.
    该发明涉及一种从有机硼酸酯出发制备三芳基有机硼酸酯的方法,该方法在n价阳离子1/n Kn+存在下进行,包括对反应混合物进行无水处理和使用所得的三芳基有机硼酸酯作为光聚合物配方、全息介质和全息图中的共同引发剂。
  • METHOD FOR SYNTHESIZING 2-ALKYL-4-TRIFLUOROMETHYL-3-ALKYLSULFONYLBENZOIC ACIDS
    申请人:Bayer CropScience Aktiengesellschaft
    公开号:US20180305302A1
    公开(公告)日:2018-10-25
    A process for preparing 2-alkyl-4-trifluoromethyl-3-alkylsulfonylbenzoic acids of the formula (I) is described. Here, the substituents are radicals such as alkyl and substituted phenyl.
    描述了一种制备式(I)的2-烷基-4-三氟甲基-3-烷基磺酰基苯甲酸的方法。这里,取代基是烷基和取代苯基等自由基。
  • Organic salt conditioner, organic salt-containing composition, and uses thereof
    申请人:L'OREAL
    公开号:US20040005286A1
    公开(公告)日:2004-01-08
    The present invention relates to the use of, and a composition containing, at least one non-polymeric organic salt with a melting point of less than 60° C. These organic salts may be imidazolium, pyrazolium, pyridinium, pyrimidinium or tetraalkylphosphonium salts. The inventinon composition may be used for washing (cleaning) and/or conditioning keratin materials, and especially the hair.
    本发明涉及使用至少一种熔点低于60°C的非聚合有机盐的用途和组合物。这些有机盐可以是咪唑盐、吡唑盐、吡啶盐、嘧啶盐或四烷基磷酸铵盐。该发明的组合物可用于洗涤(清洁)和/或调理角蛋白材料,特别是头发。
  • [EN] DISILANE-, CARBODISILANE-AND OLIGOSILANE CLEAVAGE WITH CLEAVAGE COMPOUND ACTING AS CATALYST AND HYDROGENATION SOURCE<br/>[FR] CLIVAGE DE DISILANE, DE CARBODISILANE ET D'OLIGOSILANE AVEC UN COMPOSÉ DE CLIVAGE AGISSANT EN TANT QUE CATALYSEUR ET SOURCE D'HYDROGÉNATION
    申请人:MOMENTIVE PERFORMANCE MAT INC
    公开号:WO2019060481A1
    公开(公告)日:2019-03-28
    The invention relates to a process for the manufacture of monosilanes of formula (I): MexSiHyClz (I), comprising: the step of subjecting a silane substrate (methyldisilanes, methyloligosilanes, or carbodisilanes) to a cleavage reaction of the silicon-silicon bond(s) or the silicon- carbon bonds in silane substrates the reaction involving a cleavage compound selected from a quaternary Group 15 onium compound R4 QX, a heterocyclic amine, a heterocyclic ammonium halide, or a mixture of R3P and RX. The starting material disilanes to be cleaved has the formula (II): MemSi2HnClo (II) The starting material oligosilanes to be cleaved have the general formula (III): MepSiqHrCIs (II I), The starting material carbodisilanes to be cleaved have the general formula (IV): (MeaSiHbCle)-CH2-(MecSiHdClf) (IV)
    本发明涉及一种制备式(I)的单硅烷的过程:MexSiHyClz (I),包括以下步骤:将硅烷底物(甲基二硅烷、甲基寡硅烷或碳二硅烷)经过硅-硅键或硅-碳键的断裂反应,反应涉及选择自第15族季铵化合物R4QX、杂环胺、杂环铵卤化物或R3P和RX混合物的断裂化合物。待裂解的起始材料二硅烷的化学式为(II):MemSi2HnClo (II)。待裂解的起始材料寡硅烷的通式为(III):MepSiqHrCIs (III)。待裂解的起始材料碳二硅烷的通式为(IV):(MeaSiHbCle)-CH2-(MecSiHdClf) (IV)。
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