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difluoro chlorosilane | 80003-43-6

中文名称
——
中文别名
——
英文名称
difluoro chlorosilane
英文别名
Chloro(difluoro)silane;chloro(difluoro)silane
difluoro chlorosilane化学式
CAS
80003-43-6
化学式
ClF2HSi
mdl
——
分子量
102.543
InChiKey
KYTKSXHWSWXEGA-UHFFFAOYSA-N
BEILSTEIN
——
EINECS
——
  • 物化性质
  • 计算性质
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  • 制备方法与用途
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  • 反应信息
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计算性质

  • 辛醇/水分配系数(LogP):
    0.88
  • 重原子数:
    4
  • 可旋转键数:
    0
  • 环数:
    0.0
  • sp3杂化的碳原子比例:
    0.0
  • 拓扑面积:
    0
  • 氢给体数:
    0
  • 氢受体数:
    2

SDS

SDS:493c813bb4de42d0e9632968d7fc4d1d
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上下游信息

  • 上游原料
    中文名称 英文名称 CAS号 化学式 分子量

反应信息

  • 作为反应物:
    描述:
    difluoro chlorosilane 、 sulfur 以 neat (no solvent) 为溶剂, 生成
    参考文献:
    名称:
    F3SiSH 和 (F3Si)2S:通过明确综合解决的冲突观察
    摘要:
    液态 F3SiI 与红色 HgS 之间的反应主要产生二甲硅烷基硫烷 (F3Si)2S,以及少量迄今未知的 (F3SiS)2SiF2。这些氟甲硅烷基硫烷具有不同的热稳定性。(F3Si)2S 是 F3Si 衍生物的通用前体,在环境温度下它是稳定的,而 (F3SiS)2SiF2 分解迅速。F3SiSH 与 F3SiBr 一起是通过在液相中用 HBr 选择性裂解 (F3Si)2S 中的一个 Si-S 键而获得的,并且首次得到明确表征。与之前的报道相反,当 SiF4 在石英管中以 1298 K 温度通过 SiS2 时,会形成 (F3Si)2O 而不是 (F2SiS)2。(F3Si)2S、F3SiSH 及其氘代衍生物 F3SiSD 的拉曼光谱和红外光谱已被测量并分配给振动基础。已记录多核核磁共振谱。F3SiSH 和 (F3Si)2S: Klarung widespruchlicher Beobachtungen
    DOI:
    10.1002/1521-3749(200106)627:6<1217::aid-zaac1217>3.0.co;2-b
  • 作为产物:
    描述:
    三氯硅烷三氟化锑氯化锑(V) 作用下, 以 neat (no solvent) 为溶剂, 生成 difluoro chlorosilanefluoro dichlorosilane三氟-硅烷
    参考文献:
    名称:
    Lin; Groshens; Klabunde, Inorganic Chemistry, 1984, vol. 23, # 1, p. 1 - 1
    摘要:
    DOI:
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文献信息

  • D'Errico, John J.; Sharp, Kenneth G., Inorganic Chemistry, 1989, vol. 28, # 11, p. 2177 - 2180
    作者:D'Errico, John J.、Sharp, Kenneth G.
    DOI:——
    日期:——
  • Gmelin Handbuch der Anorganischen Chemie, Gmelin Handbook: Si: MVol.B, 233, page 635 - 638
    作者:
    DOI:——
    日期:——
  • Fluorination of Trichlorosilane<sup>1</sup>
    作者:Harold Simmons Booth、William D. Stillwell
    DOI:10.1021/ja01322a024
    日期:1934.7
  • F3SiSH and (F3Si)2S: Conflicting Observations Resolved by Unambiguous Syntheses
    作者:Helmut Beckers、Hans Bürger
    DOI:10.1002/1521-3749(200106)627:6<1217::aid-zaac1217>3.0.co;2-b
    日期:2001.6
    (F3SiS)2SiF2. Diese Fluorsilylsulfane haben eine bemerkenswert unterschiedliche thermische Stabilitat. Wahrend sich (F3SiS)2SiF2 bereits bei Raumtemperatur zersetzt, ist das bei dieser Temperatur stabile (F3Si)2S eine vielseitige Ausgangsverbindung zur Synthese von F3Si-Derivaten. Das Silylsulfan F3SiSH konnte neben F3SiBr durch selektive Spaltung einer SiS-Bindung von flussigem (F3Si)2S mit HBr in reiner
    液态 F3SiI 与红色 HgS 之间的反应主要产生二甲硅烷基硫烷 (F3Si)2S,以及少量迄今未知的 (F3SiS)2SiF2。这些氟甲硅烷基硫烷具有不同的热稳定性。(F3Si)2S 是 F3Si 衍生物的通用前体,在环境温度下它是稳定的,而 (F3SiS)2SiF2 分解迅速。F3SiSH 与 F3SiBr 一起是通过在液相中用 HBr 选择性裂解 (F3Si)2S 中的一个 Si-S 键而获得的,并且首次得到明确表征。与之前的报道相反,当 SiF4 在石英管中以 1298 K 温度通过 SiS2 时,会形成 (F3Si)2O 而不是 (F2SiS)2。(F3Si)2S、F3SiSH 及其氘代衍生物 F3SiSD 的拉曼光谱和红外光谱已被测量并分配给振动基础。已记录多核核磁共振谱。F3SiSH 和 (F3Si)2S: Klarung widespruchlicher Beobachtungen
  • Lin; Groshens; Klabunde, Inorganic Chemistry, 1984, vol. 23, # 1, p. 1 - 1
    作者:Lin、Groshens、Klabunde
    DOI:——
    日期:——
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