作者:Helmut Beckers、Hans Bürger
DOI:10.1002/1521-3749(200106)627:6<1217::aid-zaac1217>3.0.co;2-b
日期:2001.6
(F3SiS)2SiF2. Diese Fluorsilylsulfane haben eine bemerkenswert unterschiedliche thermische Stabilitat. Wahrend sich (F3SiS)2SiF2 bereits bei Raumtemperatur zersetzt, ist das bei dieser Temperatur stabile (F3Si)2S eine vielseitige Ausgangsverbindung zur Synthese von F3Si-Derivaten. Das Silylsulfan F3SiSH konnte neben F3SiBr durch selektive Spaltung einer SiS-Bindung von flussigem (F3Si)2S mit HBr in reiner
液态 F3SiI 与红色 HgS 之间的反应主要产生二甲硅烷基硫烷 (F3Si)2S,以及少量迄今未知的 (F3SiS)2SiF2。这些氟甲硅烷基硫烷具有不同的热稳定性。(F3Si)2S 是 F3Si 衍生物的通用前体,在环境温度下它是稳定的,而 (F3SiS)2SiF2 分解迅速。F3SiSH 与 F3SiBr 一起是通过在液相中用 HBr 选择性裂解 (F3Si)2S 中的一个 Si-S 键而获得的,并且首次得到明确表征。与之前的报道相反,当 SiF4 在石英管中以 1298 K 温度通过 SiS2 时,会形成 (F3Si)2O 而不是 (F2SiS)2。(F3Si)2S、F3SiSH 及其氘代衍生物 F3SiSD 的拉曼光谱和红外光谱已被测量并分配给振动基础。已记录多核核磁共振谱。F3SiSH 和 (F3Si)2S: Klarung widespruchlicher Beobachtungen