difluoro dibromosilane | 14188-35-3

• 分子结构分类: 无机化合物 - 混合金属/非金属化合物 - 类金属盐
• 英文名称: difluoro dibromosilane
• 英文别名: Dibromo(difluoro)silane
• CAS: 14188-35-3
• 化学式: Br₂F₂Si
• 分子量: 225.89
• InChiKey: GRQCZRXBNBNXHM-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 熔点：
  -66.9 °C
• 沸点：
  13.7 °C
• 密度：
  2.224±0.06 g/cm3(Predicted)

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  2.15
• 重原子数：
  5
• 可旋转键数：
  0
• 环数：
  0.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.0
• 拓扑面积：
  0
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  2

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  difluoro dibromosilane 在 Cl₂ 作用下， 以 neat (no solvent) 为溶剂， 生成 二氯(二氟)硅烷
  参考文献：
  名称：

  Fluorochlorobromides of Silicon

  摘要：

  DOI：

  10.1021/ja01283a016
• 作为产物：
  描述：

  三氟化锑 、 溴化硅(IV) 以 neat (no solvent) 为溶剂， 生成 三氟溴硅烷 、 difluoro dibromosilane 、 三溴(氟)硅烷
  参考文献：
  名称：

  Fluorobromides of Silicon

  摘要：

  DOI：

  10.1021/ja01297a045

文献信息

• Reaction of silicon difluoride with halogens: a reinvestigation
  作者：Bettadapura S. Suresh、James Charlton Thompson

  DOI：10.1039/dt9870001123

  日期：——

  Reactions of SiF2 with halogens have been reinvestigated by both co-condensation and gas-phase methods. The co-condensation method yields a number of fluorohalogenosilanes including mono-, di-, and higher silane derivatives. These compounds contain SiF, SiF2, and SiF3 units. The reactivity towards SiF2 decreases from chlorine through bromine to iodine. While chlorine and bromine give rise to a number

  SiF 2与卤素的反应已通过共缩合和气相方法进行了重新研究。该共缩合方法产生许多氟代卤代硅烷，包括单，二和高级硅烷衍生物。这些化合物包含SiF，SiF 2和SiF 3单元。对SiF 2的反应性从氯到溴再到碘。尽管氯和溴会生成许多氟代卤代硅烷，但碘只能生成甲硅烷衍生物。相反，气相反应没有进行到任何明显的程度。产品已通过质谱和19 F和29进行了表征Si nmr光谱。许多是第一次被发现。
• D'Errico, John J.; Sharp, Kenneth G., Inorganic Chemistry, 1989, vol. 28, # 11, p. 2177 - 2180
  作者：D'Errico, John J.、Sharp, Kenneth G.

  DOI：——

  日期：——
• Gmelin Handbuch der Anorganischen Chemie, Gmelin Handbook: Si: MVol.B, 262, page 708 - 710
  作者：

  DOI：——

  日期：——
• Gmelin Handbuch der Anorganischen Chemie, Gmelin Handbook: Si: MVol.B, 271, page 730 - 732
  作者：

  DOI：——

  日期：——
• Gmelin Handbuch der Anorganischen Chemie, Gmelin Handbook: Si: MVol.B, 272, page 732 - 735
  作者：

  DOI：——

  日期：——