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六氯二硅氧烷 | 14986-21-1

中文名称
六氯二硅氧烷
中文别名
——
英文名称
hexachlorodisiloxane
英文别名
trichloro(trichlorosilyloxy)silane
六氯二硅氧烷化学式
CAS
14986-21-1
化学式
Cl6OSi2
mdl
——
分子量
284.888
InChiKey
QHAHOIWVGZZELU-UHFFFAOYSA-N
BEILSTEIN
——
EINECS
——
  • 物化性质
  • 计算性质
  • ADMET
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  • SDS
  • 制备方法与用途
  • 上下游信息
  • 反应信息
  • 文献信息
  • 表征谱图
  • 同类化合物
  • 相关功能分类
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物化性质

  • 熔点:
    <0°C
  • 沸点:
    137 °C(lit.)
  • 密度:
    1.575 g/mL at 25 °C(lit.)
  • 闪点:
    18 °C

计算性质

  • 辛醇/水分配系数(LogP):
    3.17
  • 重原子数:
    9
  • 可旋转键数:
    0
  • 环数:
    0.0
  • sp3杂化的碳原子比例:
    -2147483.648
  • 拓扑面积:
    9.2
  • 氢给体数:
    0
  • 氢受体数:
    1

安全信息

  • TSCA:
    Yes
  • 危险等级:
    8
  • 危险品标志:
    F,C
  • 安全说明:
    S16,S26,S36/37/39,S45
  • 危险类别码:
    R34,R11,R37
  • WGK Germany:
    3
  • 危险品运输编号:
    UN 2985 3/PG 2
  • 海关编码:
    2934999090
  • 包装等级:
    III
  • 危险类别:
    8
  • 储存条件:
    存储条件:2~8℃,避光,密封。

SDS

SDS:d1ece4fc7243d2873612806f38e433f9
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反应信息

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文献信息

  • Preparation of Hexafluorodisilane and Reactions of Hexafluorodisilane and Hexachlorodisilane with Sulfur Trioxide
    作者:Bettadapura Srinivasaiah Suresh、Doddaballapur Krishnamurthy Padma
    DOI:10.1246/bcsj.58.1867
    日期:1985.6
    infrared spectral data, vapour density measurements and analytical data. Both hexafluorodisilane and hexachlorodisilane are found to react with sulfur trioxide when heated to 400°C for 12 h. The products of reaction are silicon tetrafluoride, silica and sulfur dioxide with hexafluorodisilane while hexachlorodisilane in addition gives rise to hexachlorodisiloxane.
    六氟乙硅烷是通过氟化钾在沸腾的乙腈中氟化六氯乙硅烷或六溴乙硅烷制备的,产率分别接近 45% 和 60%。六氟乙硅烷的特征在于红外光谱数据、蒸汽密度测量和分析数据。当加热到 400°C 12 小时时,发现六氟乙硅烷和六氯乙硅烷都与三氧化硫反应。与六氟乙硅烷反应的产物是四氟化硅、二氧化硅和二氧化硫,而六氯乙硅烷还生成六氯二硅氧烷。
  • Ether-like Si–Ge hydrides for applications in synthesis of nanostructured semiconductors and dielectrics
    作者:Jesse B. Tice、Change Weng、John Tolle、Vijay R. D'Costa、Rachna Singh、Jose Menendez、John Kouvetakis、Andrew V. G. Chizmeshya
    DOI:10.1039/b908280h
    日期:——
    triflates are used to produce ether-like Si-Ge hydride compounds including H(3)SiOSiH(3) and the previously unknown O(SiH(2)GeH(3))(2). The structural, energetic and vibrational properties of the latter were investigated by experimental and quantum chemical simulation methods. A combined Raman, infrared and theoretical analysis indicated that the compound consists of an equal mixture of linear and gauche
    甲硅烷基萌芽基三氟甲磺酸酯的水解反应用于生产包括H(3)SiOSiH(3)和以前未知的O(SiH(2)GeH(3))(2)的醚状Si-Ge氢化物。通过实验和量子化学模拟方法研究了后者的结构,能量和振动特性。结合拉曼光谱,红外光谱和理论分析表明,该化合物由线性和gauche异构体的均等混合物组成,类似于类似丁烷的H(3)GeSiH(2)SiH(2)GeH(3)且扭转力极小约0.2 kcal mol(-1)的势垒。热化学模拟也证实了这一点,热化学模拟表明异构体之间的能量差小于1 kcal mol(-1)。O(SiH(2)GeH(3))(2)在Si(100)上在500摄氏度下的原理证明沉积产生了接近化学计量的Si(2)Ge(2)O材料,紧密反映了硅的组成。分子核心。通过RBS,XTEM,拉曼和红外椭圆光度法对薄膜进行了完整的表征,揭示了嵌入Si-Ge-O低氧化物非晶基质中的Si(0.30)Ge(0
  • Formation of unexpected silicon- and disiloxane-bridged multiferrocenyl derivatives bearing Si–O–CHCH<sub>2</sub> and Si–(CH<sub>2</sub>)<sub>2</sub>C(CH<sub>3</sub>)<sub>3</sub> substituents <i>via</i> cleavage of tetrahydrofuran and trapping of its ring fragments
    作者:Sonia Bruña、Ana Mª González-Vadillo、Marta Ferrández、Josefina Perles、M. Merced Montero-Campillo、Otilia Mó、Isabel Cuadrado
    DOI:10.1039/c7dt02286g
    日期:——
    formation of a family of silicon- and siloxane-bridged multiferrocenyl derivatives carrying different functional groups attached to silicon, including Fc2(CH3)3C(CH2)2SiCH=CH2 (5), Fc2(CH2=CH-O)SiCH=CH2 (6), Fc2(OH)SiCH=CH2 (7), Fc2(CH2=CH-O)Si-O-Si(O-CH=CH2)Fc2 (8) and Fc2(CH2=CH-O)Si-O-SiFc3 (9) is described. Silyl vinyl ether molecules 6, 8 and 9 and the heteroleptic vinylsilane 5 resulted from the competing
    形成带有硅上连接的不同官能团的硅和硅氧烷桥连的多二茂铁基衍生物家族,包括Fc 2(CH 3)3 C(CH 2)2 SiCH = CH 2(5),Fc 2(CH 2 = CH-O)SiCH = CH 2(6),Fc 2(OH)SiCH = CH 2(7),Fc 2(CH 2 = CH-O)Si-O-Si(O-CH = CH 2)Fc 2(8)和Fc 2(CH 2 = CH-O)Si-O-SiFc 3(描述9)。甲硅烷基的乙烯基醚的分子6,8和9和杂乙烯基硅烷5源于lithioferrocene的(FcLi),CH竞争复分解反应2 = CH-OLI或(CH 3)3 C(CH 2)2锂与相应的多官能氯硅烷,Cl 3 SiCH = CH 2或Cl 3 Si-O-SiCl 3。最后两种有机锂物质可能是通过四氢呋喃溶剂的裂解原位形成的。二茂铁基乙烯基氧基乙烯基硅烷6值得注意的是,由于代表了氧化还原活性
  • [EN] METHOD OF MAKING A HALOSILOXANE<br/>[FR] PROCÉDÉ DE FABRICATION D'UN HALOSILOXANE
    申请人:DOW SILICONES CORP
    公开号:WO2018226420A1
    公开(公告)日:2018-12-13
    A method of producing a halosiloxane, the method comprising: i) combining water, a halosilane, and a first solvent to form a reaction mixture, ii) partially hydrolyzing and condensing the halosilane to form a reaction product mixture comprising the halosiloxane, the solvent, unreacted halosilane, and hydrogen halide, iii) adding a second solent, where the second solent has a boiling point the boiling point of the halosiloxane, to the reaction mixture in i) or to the reaction product mixture in ii), and iv) recovering the halosiloxane from the reaction product mixture.
    一种制备卤代硅氧烷的方法,该方法包括:i)将水、卤代硅烷和第一种溶剂混合形成反应混合物,ii)部分水解和缩合卤代硅烷以形成反应产物混合物,包括卤代硅氧烷、溶剂、未反应的卤代硅烷和氢卤酸,iii)添加第二种溶剂,其中第二种溶剂具有卤代硅氧烷的沸点,加入到i)中的反应混合物或ii)中的反应产物混合物中,iv)从反应产物混合物中回收卤代硅氧烷。
  • [EN] METHOD OF MAKING HALOSILOXANE<br/>[FR] PROCÉDÉ DE FABRICATION D'HALOSILOXANE
    申请人:DOW SILICONES CORP
    公开号:WO2018226425A1
    公开(公告)日:2018-12-13
    A method of producing a halosiloxane, the method comprising: combining water, a halosilane, and first solvent, where the first solvent has a water solubility of > 1.5 grams in 100 ml of solvent, to form a reaction mixture having a temperature above the melting point temperature of the solvent, partially hydrolyzing and condensing the halosilane to form a reaction product mixture comprising the halosiloxane, the solvent, a hydrogen halide and unreacted halosilane, and, optionally, adding a second solvent with a boiling point the boiling point of the halosloxane to the reaction mixture or the reaction product mixture.
    一种制备卤代硅氧烷的方法,该方法包括以下步骤:将水、卤代硅烷和第一溶剂混合,其中第一溶剂在100毫升溶剂中的水溶性大于1.5克,形成具有高于该溶剂熔点温度的反应混合物,部分水解和缩合卤代硅烷以形成含有卤代硅氧烷、溶剂、氢卤酸和未反应的卤代硅烷的反应产物混合物,并且可选择将沸点与卤代硅氧烷相同的第二溶剂加入到反应混合物或反应产物混合物中。
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