六氟二硅氧烷 | 14515-39-0

• 分子结构分类: 无机化合物 - 混合金属/非金属化合物 - 类金属盐
• 中文名称: 六氟二硅氧烷
• 英文名称: hexafluorodisiloxane
• 英文别名: trifluoro(trifluorosilyloxy)silane
• CAS: 14515-39-0
• 化学式: F₆OSi₂
• 分子量: 186.161
• InChiKey: ARBIYISMVFAYHV-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 沸点：
  -23.3 °C
• 密度：
  1.338±0.06 g/cm3(Predicted)

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  1.69
• 重原子数：
  9
• 可旋转键数：
  0
• 环数：
  0.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.0
• 拓扑面积：
  9.2
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  7

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  六氟二硅氧烷 在 H₂O 作用下， 以 水 为溶剂， 生成 silica gel
  参考文献：
  名称：

  Gmelin Handbuch der Anorganischen Chemie, Gmelin Handbook: Si: MVol.B, 240, page 652 - 654

  摘要：

  DOI：
• 作为产物：
  描述：

  三氟化锑 、 六氯二硅氧烷 以 neat (no solvent) 为溶剂， 生成 六氟二硅氧烷
  参考文献：
  名称：

  Gmelin Handbuch der Anorganischen Chemie, Gmelin Handbook: Si: MVol.B, 240, page 652 - 654

  摘要：

  DOI：

文献信息

• IR spectroscopic andab initio quantum-chemical study of the products of hydrolysis of silicon tetrafluoride at low water concentrations
  作者：P. G. Sennikov、M. A. Ikrin、S. K. Ignatov、A. A. Bagatur'yants、E. Yu. Klimov

  DOI：10.1007/bf02494407

  日期：1999.1

  According to the results of IR spectroscopic study and quantum-chemical calculations, hydroxo derivatives SiF4-x(OH)x are formed in the course of hydrolysis of silicon tetrafluoride in the presence of small amount of water along with hexafluorodisiloxane.

  根据红外光谱研究和量子化学计算结果，四氟化硅与六氟二硅氧烷一起在少量水存在下水解，生成羟基衍生物SiF4-x(OH)x。
• F3SiSH and (F3Si)2S: Conflicting Observations Resolved by Unambiguous Syntheses
  作者：Helmut Beckers、Hans Bürger

  DOI：10.1002/1521-3749(200106)627:6<1217::aid-zaac1217>3.0.co;2-b

  日期：2001.6

  (F3SiS)2SiF2. Diese Fluorsilylsulfane haben eine bemerkenswert unterschiedliche thermische Stabilitat. Wahrend sich (F3SiS)2SiF2 bereits bei Raumtemperatur zersetzt, ist das bei dieser Temperatur stabile (F3Si)2S eine vielseitige Ausgangsverbindung zur Synthese von F3Si-Derivaten. Das Silylsulfan F3SiSH konnte neben F3SiBr durch selektive Spaltung einer SiS-Bindung von flussigem (F3Si)2S mit HBr in reiner

  液态 F3SiI 与红色 HgS 之间的反应主要产生二甲硅烷基硫烷 (F3Si)2S，以及少量迄今未知的 (F3SiS)2SiF2。这些氟甲硅烷基硫烷具有不同的热稳定性。(F3Si)2S 是 F3Si 衍生物的通用前体，在环境温度下它是稳定的，而 (F3SiS)2SiF2 分解迅速。F3SiSH 与 F3SiBr 一起是通过在液相中用 HBr 选择性裂解 (F3Si)2S 中的一个 Si-S 键而获得的，并且首次得到明确表征。与之前的报道相反，当 SiF4 在石英管中以 1298 K 温度通过 SiS2 时，会形成 (F3Si)2O 而不是 (F2SiS)2。(F3Si)2S、F3SiSH 及其氘代衍生物 F3SiSD 的拉曼光谱和红外光谱已被测量并分配给振动基础。已记录多核核磁共振谱。F3SiSH 和 (F3Si)2S： Klarung widespruchlicher Beobachtungen
• Unstable intermediates. Part 167. Electron spin resonance studies of trifluorosilyl and related radicals
  作者：Martyn C. R. Symons

  DOI：10.1039/dt9760001568

  日期：——

  not obtained from O(SiF3)2 or SiF3(NMe2), but species similar to A containing two strongly coupled 19F nuclei have been detected. These are identified as F2SiOSiF3 and SiF2(NMe2) respeclively. The radical O(SiF3) is obtained in certain samples of SiF4.

  的SiF暴露4至60条钴γ在77K射线给出显示强超精细耦合到一个物种（A）29 Si和三个19与弱耦合˚F核，一起到四个其它等效19 ˚F核。该物种暂定为与邻近的SiF 4分子弱相互作用的SiF 3 ,，但讨论了其他可能性，从Si 2 F 6和SiF 3 H一起获得了与A非常相似但具有不同亚结构的物种。在后一种情况下用SiF 2 H 3。物种A不是从O（SiF 3）2或SiF 3（NMe 2），但已检测到类似于A的物种，其中包含两个强耦合的19 F核。这些分别被明确地标识为F 2 SiOSiF 3和SiF 2（NMe 2）。在某些SiF 4样品中获得了基团O（SiF 3）。
• Kinetics and mechanism of the gas-phase pyrolysis of hexafluorodisilane in the presence of iodine and some reactions of silicon difluoride
  作者：Swroop K. Bains、Paul N. Noble、Robin Walsh

  DOI：10.1039/f29868200837

  日期：——

  gas-phase thermal decomposition of Si2F6 in the presence of I2 has been found to follow first-order kinetics with the formation of SiF4, SiF2I2 and SiF3I. The reactions appear to be homogeneous and consistent with the mechanism: Si2F6→ SiF2+ SiF4(slow)(1), SiF2+ I2→ SiF2I2(fast).(2) SiF3I is a minor product and its mechanism of formation is uncertain. Rate measurements over the temperature range 603–652

  Si的气相热分解2 ˚F 6中的我的存在2已发现遵循一级动力学与的SiF的形成4，的SiF 2我2和SIF 3 I.反应似乎是均匀的，一致的其机理为：Si 2 F 6 →SiF 2 + SiF 4（慢）（1），SiF 2 + I 2 →SiF 2 I 2（快速）。（2）SiF 3我是次要产品，其形成机理尚不确定。在603–652 K温度范围内的速率测量符合Arrhenius方程：log（k 1 / s –1）=（12.41±0.24）–（193.5±2.9 kJ mol –1）/ R T ln 10。在630 K下，发现SiF 2与I 2的反应比与O 2的反应快3.6倍，比HI快17倍。SiF 2与I 2的反应也比与HBr或苯的反应至少快10 2倍，比SiF 4的反应快10 4倍以上。缺少I原子位移过程是一致d（F 3的Si-的SiF 3）337千焦耳摩尔-1，这导致值Δ ħ ⊖ ˚F（SI
• Gas-phase oxidation of vinyltrifluorosilane with nitrogen dioxide under the action of a pulse CO2 laser
  作者：P. S. Dement’ev、P. V. Koshlyakov、E. N. Chesnokov

  DOI：10.1134/s0023158410050022

  日期：2010.10

  A chemical reaction between C2H3SiF3 and NO2 induced by radiation from a pulse CO2 laser was studied by mass spectrometry and IR spectroscopy. The composition of gaseous products was determined. A macrokinetic approach was developed to study bimolecular reactions initiated by pulsed IR radiation. The procedure developed allowed us to answer the question of whether the test reaction occurs under conditions

  通过质谱和红外光谱研究了脉冲CO 2激光辐射引起的C 2 H 3 SiF 3和NO 2之间的化学反应。确定了气态产物的组成。开发了一种宏观动力学方法来研究由脉冲红外辐射引发的双分子反应。开发的程序使我们能够回答测试反应是在仅一种反应物的分子被振动激发的条件下还是在相等振动温度的条件下发生的问题。这种方法在C 2 H 3 SiF 3和NO 2之间反应的应用 证明了它的加速是由于系统的平衡加热。