二氯三氟化锑 | 7791-16-4

• 分子结构分类: 无机化合物 - 混合金属/非金属化合物 - 类金属盐
• 中文名称: 二氯三氟化锑
• 中文别名: 三氟二氯化锑(Ⅴ)
• 英文名称: antimony dichloride trifluoride
• 英文别名: SbCl2F3；SbF3Cl2；Antimony(5+);dichloride;trifluoride；antimony(5+);dichloride;trifluoride
• CAS: 7791-16-4
• 化学式: Cl₂F₃Sb
• 分子量: 249.651
• InChiKey: NBTDHPWTBVPOSY-UHFFFAOYSA-I

物化性质

• 溶解度：
  与H2O反应
• 稳定性/保质期：

  黏稠的液体。

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  2.26
• 重原子数：
  6
• 可旋转键数：
  0
• 环数：
  0.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.0
• 拓扑面积：
  0
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  3

安全信息

• 危险品标志：
  Xi
• 安全说明：
  S26,S36/37/39,S45
• 危险类别码：
  R20/21/22,R34
• 危险品运输编号：
  UN 3265

制备方法与用途

制备方法

制备 SbF₃ + Cl₂ → SbCl₂F₃，首先将一定重量的SbF₃装入一个附带压力计和轴式活门的钢瓶中。接着抽空容器，关闭活门并称量其重量。然后用一根钢制毛细管将此容器与盛有氯气的钢瓶相连，打开活门让氯气流入反应器内。氯气迅速被SbF₃吸收，并释放出热量。不时拆下反应器与氯气钢瓶分离，摇动反应器后再重新连接通入氯气。当反应物吸收了计算所需的氯气量后，制备过程即告完成。SbCl₂F₃应储存在铁制容器中。

合成制备方法

同样地，SbF₃ + Cl₂ → SbCl₂F₃的合成步骤如下：将一定重量的SbF₃装入一个带有压力计和轴式活门的钢瓶中。抽空容器后关闭活门并称量其重量。使用一根钢制毛细管连接该容器与含有氯气的钢瓶，打开活门让氯气流入反应器内。氯气迅速被SbF₃吸收，并释放出热量。不时拆下反应器与氯气钢瓶分离，摇动反应器后再重新连接通入氯气。当反应物吸收了计算所需的氯气量后，制备过程即告完成。SbCl₂F₃应储存在铁制容器中。

用途简介

在许多有机氟化物的制备过程中，SbCl₂F₃可作为催化剂使用。

用途

在众多有机氟化物的合成过程中，SbCl₂F₃同样可用作高效的催化剂。

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  二氯三氟化锑 、 氯氟磺酰 以 neat (no solvent) 为溶剂， 生成 硫酰氟
  参考文献：
  名称：

  442.羰基和硫酰氟与氯氟化物的制备和反应

  摘要：

  DOI：

  10.1039/jr9480002183
• 作为产物：
  描述：

  六氯化钨 、 五氟化锑 以60-80的产率得到tungsten(VI) fluoride
  参考文献：
  名称：

  Ruff, O.; Eisner, F.; Heller, W., Zeitschrift fur anorganische Chemie, 1907, vol. 52, p. 260

  摘要：

  DOI：

文献信息

• Gas for plasma reaction, process for producing the same, and use
  申请人：Sugawara Mitsuru

  公开号：US20050092240A1

  公开（公告）日：2005-05-05

  A gas for plasma reaction comprising a chainlike perfluoroalkyne having 5 or 6 carbon atoms, preferably perfluoro-2-pentyne. This plasma reaction gas is suitable for dry etching for formation of a fine pattern, for plasma CVD for formation of a thin film, and for plasma ashing. The plasma reaction gas is synthesized by contacting a dihydrofluoroalkane compound or a monohydrofluoroalkene compound with a basic compound.

  一种用于等离子反应的气体，包括一种具有5或6个碳原子的链状全氟烷基炔烃，最好是全氟-2-戊炔。该等离子反应气体适用于干法刻蚀以形成精细图案，用于等离子CVD以形成薄膜，以及用于等离子灰化。该等离子反应气体通过将二氢氟烷化合物或单氢氟烯化合物与碱性化合物接触而合成。
• Gas for plasma reaction, process for producing the same, and use thereof
  申请人：Sugawara Mitsuru

  公开号：US20080139855A1

  公开（公告）日：2008-06-12

  A gas for plasma reaction comprising a chainlike perfluoroalkyne having 5 or 6 carbon atoms, preferably perfluoro-2-pentyne. This plasma reaction gas is suitable for dry etching for formation of a fine pattern, for plasma CVD for formation of a thin film, and for plasma ashing. The plasma reaction gas is synthesized by contacting a dihydrofluoroalkane compound or a monohydrofluoroalkene compound with a basic compound.

  一种用于等离子反应的气体，包括具有5或6个碳原子的链状全氟炔烃，优选全氟-2-戊炔。该等离子反应气体适用于干法刻蚀以形成精细图案，用于等离子CVD以形成薄膜，以及用于等离子灰化。该等离子反应气体通过将二氢氟烷化合物或单氢氟烯化合物与碱性化合物接触而合成。
• Gmelin Handbuch der Anorganischen Chemie, Gmelin Handbook: S: MVol.B3, 91, page 1729 - 1730
  作者：

  DOI：——

  日期：——
• Gmelin Handbuch der Anorganischen Chemie, Gmelin Handbook: W: MVol., 2.5, page 155 - 158
  作者：

  DOI：——

  日期：——