五氯二硅烷 | 31411-98-0

• 分子结构分类: 无机化合物 - 混合金属/非金属化合物 - 类金属盐
• 中文名称: 五氯二硅烷
• 英文名称: 1,1,1,2,2-pentachlorodisilane
• 英文别名: pentachlorodisilane；Trichloro(dichlorosilyl)silane
• CAS: 31411-98-0
• 化学式: Cl₅HSi₂
• 分子量: 234.444
• InChiKey: RNQFIQRKAYTMLC-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  2.42
• 重原子数：
  7
• 可旋转键数：
  0
• 环数：
  0.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.0
• 拓扑面积：
  0
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  0

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  五氯二硅烷 、 三氯化硼 反应 22.0h， 以27%的产率得到Bochmann’s acid
  参考文献：
  名称：

  意外形成高度对称的硼酸盐离子 [B(SiCl3)4]-

  摘要：

  氯硅烷化合物在三氯化硼存在下的歧化反应产生化合物 H[B(SiCl 3 ) 4 ]。用红外光谱、拉曼光谱和核磁共振光谱 ( 29 Si, 11 B)对黄白色固体的光谱分析表明存在高度对称的含硼阴离子，它与硅四重配位。由于高对称性1 J( 11 B, 29 Si) 甚至1 J ( 10 B, 29Si) 耦合可以在溶解的化合物的 NMR 光谱中观察到。对从甲苯溶液中获得的晶体进行的晶体结构分析证明存在高度对称的硼酸盐阴离子，该阴离子由四个三氯甲硅烷基团稳定。分子结构由对质子化的甲苯阳离子和弱配位的硼酸盐阴离子[B(SiCl 3 ) 4 ] - 组成。四（三氯甲硅烷基）硼酸盐离子的量子化学分析显示带负电荷的硼原子以及极性 Si-Cl 和 Si-B 键的存在。高活性化合物 [E(SiCl 3 ) n ] -近年来已制备了仅由三氯甲硅烷基团稳定的 E=C、Si、Ge、P、S。超强酸 H[B(SiCl

  DOI：

  10.1002/ejic.202100246
• 作为产物：
  描述：

  tris(trichlorosilyl)silane 在 盐酸 、 lithium aluminium tetrahydride 作用下， 以 苯 为溶剂， 生成 五氯二硅烷 、 三氯硅烷
  参考文献：
  名称：

  Zum aminkatalysierten Abbau von Oligochlorsilan mit HCl

  摘要：

  DOI：

  10.1007/bf00938714
• 作为试剂：
  描述：

  二异丙胺 在 五氯二硅烷 作用下， 以 正己烷 为溶剂， 反应 2.0h， 生成 bis(diisopropylamino)trichlorodisilane 、 Diisopropylaminotetrachlorodisilane
  参考文献：
  名称：

  [EN] AMINOCHLOROHYDRIDODISILANES
  [FR] AMINOCHLOROHYDRURODISILANES

  摘要：

  揭露了一种用于沉积的硅前体化合物，该硅前体化合物包括一种二硅烷化合物，其中至少包括一个氯基团、至少一个二烷基胺基团和至少一个氢基团；一种用于薄膜形成的组合物，该组合物包括硅前体化合物和至少一种惰性气体、分子氢、碳前体、氮前体和氧前体中的至少一种；一种合成硅前体化合物的方法；一种使用硅前体化合物在基板上形成含硅膜的方法；由此形成的含硅膜；以及一种形成硅前体化合物的方法。

  公开号：

  WO2017200908A1

文献信息

• Pyrolysis of trichlorosilane in the presence of chloroform
  作者：T. L. Krasnova、E. S. Abramova、N. V. Alekseev、E. A. Chernyshev

  DOI：10.1007/bf02494755

  日期：1999.10

  The pyrolysis of trichlorosilane in the presence of different amounts of chloroform and the copyrolysis of HSiCl3 with buta-1,3-diene in the presence of 1 mol.% chloroform were studied. The enthalpies of formation of products resulting from the pyrolysis of HSiCl3 in the presence of chloroform were calculated by the quantum chemical method. Based on the thermochemical data as well as data from GLC

  研究了三氯硅烷在不同量氯仿存在下的热解和 HSiCl3 与丁-1,3-二烯在 1 mol.% 氯仿存在下的共热解。用量子化学方法计算了 HSiCl3 在氯仿存在下热解产物的生成焓。基于热化学数据以及来自 GLC 和质谱的数据，从冷凝物组成得出结论，将氯仿引入 HSiCl3 热解区有利于生成甲硅烷。
• ABRAMOVA, E. S., EHLEMENTOORGAN. SOED. (SINTEZ, SVOJSTVA, TEXNOL. POLUCH., PRIMENENIE), M.+
  作者：ABRAMOVA, E. S.

  DOI：——

  日期：——
• Zum aminkatalysierten Abbau von Oligochlorsilan mit HCl
  作者：Walter Raml、Edwin Hengge

  DOI：10.1007/bf00938714

  日期：——
• Unexpected Formation of the Highly Symmetric Borate Ion [B(SiCl ₃ ) ₄ ] ⁻
  作者：Sebastian Bochmann、Uwe Böhme、Erica Brendler、Mike Friebel、Maik Gerwig、Franziska Gründler、Betty Günther、Edwin Kroke、Robert Lehnert、Lars Ruppel

  DOI：10.1002/ejic.202100246

  日期：2021.7.15

  couplings can be observed in the NMR spectra of the dissolved compound. The crystal structure analysis with a crystal obtained from toluene solution proves the existence of a highly symmetric borate anion, which is stabilized by four trichlorosilyl groups. The molecular structure consists of a para-protonated toluene cation and the weakly coordinating borate anion [B(SiCl3)4]−. Quantum chemical analysis

  氯硅烷化合物在三氯化硼存在下的歧化反应产生化合物 H[B(SiCl 3 ) 4 ]。用红外光谱、拉曼光谱和核磁共振光谱 ( 29 Si, 11 B)对黄白色固体的光谱分析表明存在高度对称的含硼阴离子，它与硅四重配位。由于高对称性1 J( 11 B, 29 Si) 甚至1 J ( 10 B, 29Si) 耦合可以在溶解的化合物的 NMR 光谱中观察到。对从甲苯溶液中获得的晶体进行的晶体结构分析证明存在高度对称的硼酸盐阴离子，该阴离子由四个三氯甲硅烷基团稳定。分子结构由对质子化的甲苯阳离子和弱配位的硼酸盐阴离子[B(SiCl 3 ) 4 ] - 组成。四（三氯甲硅烷基）硼酸盐离子的量子化学分析显示带负电荷的硼原子以及极性 Si-Cl 和 Si-B 键的存在。高活性化合物 [E(SiCl 3 ) n ] -近年来已制备了仅由三氯甲硅烷基团稳定的 E=C、Si、Ge、P、S。超强酸 H[B(SiCl