n-pentasilane | 14868-53-2

• 分子结构分类: 无机化合物 - 混合金属/非金属化合物 - 各种混合金属/非金属
• 英文名称: n-pentasilane
• 英文别名: pentasilane；bis(disilanyl)silane
• CAS: 14868-53-2
• 化学式: H₁₂Si₅
• 分子量: 152.523
• InChiKey: LUXIMSHPDKSEDK-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 溶解度：
  与H2O反应

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  -5.12
• 重原子数：
  5
• 可旋转键数：
  2
• 环数：
  0.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.0
• 拓扑面积：
  0
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  0

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  n-pentasilane 以 further solvent(s) 为溶剂， 以20%的产率得到3-silylhexasilane
  参考文献：
  名称：

  Feher, F.; Fischer, I., Zeitschrift fur Anorganische und Allgemeine Chemie

  摘要：

  DOI：
• 作为产物：
  描述：

  正四硅烷 、 二乙胺 、 sodium 以30%的产率得到
  参考文献：
  名称：

  SCHMIDBAUR, HUBERT;SCHUH, HEINZ, Z. NATURFORSCH. B, 45,(1990) N2, C. 1679-1683

  摘要：

  DOI：

文献信息

• The 147-nm photolysis of disilane
  作者：G. G. A. Perkins、F. W. Lampe

  DOI：10.1021/ja00531a017

  日期：1980.5

  photodecomposition of Si/sub 2/H/sub 6/ at 147 nm results in the formation of H/sub 2/, SiH/sub 4/, Si/sub 3/H/sub 8/, Si/sub 4/H/sub 10/, Si/sub 5/H/sub 12/, and a solid film of amorphous silicon hydride (a-Si:H). Three primary processes are proposed to account for the results, namely, (a) Si/sub 2/H/sub 6/ + h..nu.. ..-->.. SiH/sub 2/ + SiH/sub 3/ + H (phi/sub a/ = 0.61); (b) Si/sub 2/H/sub 6/ + h..nu.. ..-->

  Si/sub 2/H/sub 6/ 在 147 nm 处的光分解导致形成 H/sub 2/、SiH/sub 4/、Si/sub 3/H/sub 8/、Si/sub 4/H /sub 10/、Si/sub 5/H/sub 12/，以及非晶氢化硅（a-Si:H）的固体膜。提出了三个主要过程来解释结果，即 (a) Si/sub 2/H/sub 6/ + h..nu.. ..-->.. SiH/sub 2/ + SiH/sub 3 / + H (phi/sub a/ = 0.61); (b) Si/sub 2/H/sub 6/ + h..nu.. ..-->.. SiH/sub 3/SiH + 2H (phi/sub b/ = 0.18)；(c) Si/sub 2/H/sub 6/ + h..nu.. ..-->.. Si/sub 2/H/sub 5/ + H (phi/sub c/ = 0.21)。总量子产率取决于压力，但在
• Synthesis of Polysilanes by Tunneling Reactions of H Atoms with Solid Si₂H₆at 10 K
  作者：Norihito Sogoshi、Shoji Sato、Hideaki Takashima、Tetsuya Sato、Kenzo Hiraoka

  DOI：10.1246/cl.2009.986

  日期：2009.10.5

  Tunneling reactions of H atoms with solid Si 2 H 6 at 10 K were investigated. The in situ and real-time reactions H + Si 2 H 6 to form silane and polysilanes were monitored using FT-IR. Quantitative analysis of gaseous products was made by thermal desorption spectrometry. Monosilane and polysilanes were detected as major reaction products. The intermediate product SiH 2 was suggested to play an important

  研究了 H 原子与固体 Si 2 H 6 在 10 K 下的隧道反应。使用 FT-IR 监测 H + Si 2 H 6 形成硅烷和聚硅烷的原位和实时反应。通过热解吸光谱法对气态产物进行定量分析。甲硅烷和聚硅烷被检测为主要反应产物。建议中间产物SiH 2 对固体产物的Si-Si网络的生长起重要作用。
• Diagnostics of the gas-phase thermal decomposition of Si2H6 using vacuum ultraviolet photoionization
  作者：Kenichi Tonokura、Tetsuya Murasaki、Mitsuo Koshi

  DOI：10.1016/s0009-2614(00)00165-2

  日期：2000.3

  Vacuum ultraviolet (VUV) photoionization at 10.2 eV was employed for the detection of gas-phase molecules formed after thermal decomposition of disilane at a total pressure of 30 Torr and in the temperature range of 298–740 K. The SinH2(n+1) (n=3–5) and SinH2n (n=2–5) species resulting from disilane pyrolysis in a flow reactor were directly observed using time-of-flight mass spectrometry. Unlike multiphoton

  在10.2 eV的真空紫外（VUV）光电离被用于检测乙硅烷在30 Torr的总压力和298–740 K的温度范围内热分解后形成的气相分子。Si n H 2（n使用飞行时间质谱法直接观察到在流动反应器中乙硅烷热解产生的+1）（n = 3-5）和Si n H 2 n（n = 2-5）物质。与在6.4 eV光子下的多光子电离不同，在10.2 eV的VUV单光子电离没有观察到碎片。
• Gmelin Handbuch der Anorganischen Chemie, Gmelin Handbook: Mg: MVol.A3, 1.2, page 388 - 405
  作者：

  DOI：——

  日期：——
• Gmelin Handbuch der Anorganischen Chemie, Gmelin Handbook: F: SVol.3, 2.1.13.8.5, page 296 - 298
  作者：

  DOI：——

  日期：——