| 177577-56-9

• 分子结构分类: 无机化合物 - 混合金属/非金属化合物 - 各种混合金属/非金属
• CAS: 177577-56-9
• 化学式: NSi₂
• 分子量: 70.1777
• InChiKey: ZEOKOZHVWNEEKS-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  -1.24
• 重原子数：
  3
• 可旋转键数：
  0
• 环数：
  0.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.0
• 拓扑面积：
  1
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  0

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  、 C13取代的一氧化碳 以 neat (no solvent) 为溶剂， 生成
  参考文献：
  名称：

  Nitrogen-Containing Paramagnetic Centers in Vitreous Silica

  摘要：

  本文介绍了玻璃态二氧化硅中含氮顺磁缺陷的结构和光谱特性的研究结果。利用等离子体化学 SPCVD 技术合成的掺氮玻璃态二氧化硅通过紫外辐照、γ 辐照和机械破坏生成了顺磁中心。另一种生成含氮顺磁中心的技术是利用 NH3（ND3）分子对二氧化硅表面缺陷进行靶向化学修饰。检测到了硅自由价[(≡Si-O-)2Si- (-NH2) 和 (≡Si-O-)2Si- -N(-Si≡)2]和氮原子[≡Si-N- -H和≡Si-N- -Si≡]的顺磁中心。研究了氮中心自由基对 H2 和 CO 分子的反应性。在解释实验数据时采用了模型系统的量子化学计算。比较了玻璃硅石中 Si-O 和 Si-N 键的强度。

  DOI：

  10.1007/s10975-005-0112-x
• 作为产物：
  描述：

  silicon nitride 、 氮化硼 以 gaseous matrix 为溶剂， 生成 Azane;silane 、 、
  参考文献：
  名称：

  Si 2 N和BNSi分子的FTIR基质分离和从头算研究

  摘要：

  通过FTIR矩阵隔离技术分析了氮化硅在氮化硼（BN）Knudsen电池中在1500–2300 K的温度范围内加热时产生的平衡蒸气。吸收率被指定为对称线性分子SiNSi的反对称拉伸模式，与从头算相符。根据同位素特征的相对强度，在线性和BNSi分子的和拉伸模式下，在和处的吸收光谱中有一对双峰。同样，这些振动频率与从头算结果非常吻合。

  DOI：

  10.1016/s0009-2614(01)00663-7

文献信息

• FTIR matrix isolation and ab initio investigations of the Si2N and BNSi molecules
  作者：G Meloni、S Nunziante Cesaro、N Sanna

  DOI：10.1016/s0009-2614(01)00663-7

  日期：2001.7

  were analyzed by FTIR matrix isolation technique. An absorption at is assigned as the antisymmetric stretching mode of the symmetric linear molecule SiNSi, in good agreement with ab initio calculations. A pair of doublets in the absorption spectrum at and are assigned to the and stretching modes of the linear BNSi molecule, on the basis of the relative intensities of the isotopic features. Again, these

  通过FTIR矩阵隔离技术分析了氮化硅在氮化硼（BN）Knudsen电池中在1500–2300 K的温度范围内加热时产生的平衡蒸气。吸收率被指定为对称线性分子SiNSi的反对称拉伸模式，与从头算相符。根据同位素特征的相对强度，在线性和BNSi分子的和拉伸模式下，在和处的吸收光谱中有一对双峰。同样，这些振动频率与从头算结果非常吻合。
• Nitrogen-Containing Paramagnetic Centers in Vitreous Silica
  作者：V. A. Radtsig

  DOI：10.1007/s10975-005-0112-x

  日期：2005.7

  The results of a study on the structure and spectral characteristics of nitrogen-containing paramagnetic defects in vitreous silicas are presented. The UV irradiation, γ-irradiation, and mechanical destruction of nitrogen-doped vitreous silicas, which were synthesized using a plasma-chemical SPCVD technology, were used for the generation of paramagnetic centers. Another technique for producing nitrogen-containing paramagnetic centers was the target-oriented chemical modification of the surface defects of silica with the use of NH3 (ND3) molecules. Paramagnetic centers with free valences at silicon [(≡Si-O-)2Si· (-NH2) and (≡Si-O-)2Si· -N(-Si≡)2] and nitrogen atoms [≡Si-N· -H and ≡Si-N· -Si≡] were detected. The reactivity of nitrogen-centered radicals toward H2 and CO molecules was studied. Quantum-chemical calculations of model systems were employed in the interpretation of the experimental data. The strengths of Si-O and Si-N bonds in vitreous silica were compared.

  本文介绍了玻璃态二氧化硅中含氮顺磁缺陷的结构和光谱特性的研究结果。利用等离子体化学 SPCVD 技术合成的掺氮玻璃态二氧化硅通过紫外辐照、γ 辐照和机械破坏生成了顺磁中心。另一种生成含氮顺磁中心的技术是利用 NH3（ND3）分子对二氧化硅表面缺陷进行靶向化学修饰。检测到了硅自由价[(≡Si-O-)2Si- (-NH2) 和 (≡Si-O-)2Si- -N(-Si≡)2]和氮原子[≡Si-N- -H和≡Si-N- -Si≡]的顺磁中心。研究了氮中心自由基对 H2 和 CO 分子的反应性。在解释实验数据时采用了模型系统的量子化学计算。比较了玻璃硅石中 Si-O 和 Si-N 键的强度。