antimonic acid | 13453-10-6

• 分子结构分类: 无机化合物 - 混合金属/非金属化合物 - 各种混合金属/非金属
• 英文名称: antimonic acid
• 英文别名: stiboric acid
• CAS: 13453-10-6
• 化学式: H₃O₄Sb
• 分子量: 188.771
• InChiKey: AQTIRDJOWSATJB-UHFFFAOYSA-K

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  -2.17
• 重原子数：
  5
• 可旋转键数：
  0
• 环数：
  0.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.0
• 拓扑面积：
  77.8
• 氢给体数：
  3
• 氢受体数：
  4

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  antimonic acid 、 二氧化硫 以 水 为溶剂， 生成 antimony(III) trioxide
  参考文献：
  名称：

  Rohmer, M., Chemische Berichte, 1901, vol. 34, p. 1565 - 1568

  摘要：

  DOI：
• 作为产物：
  描述：

  在 H₂O 作用下， 生成 antimonic acid
  参考文献：
  名称：

  Gmelin Handbuch der Anorganischen Chemie, Gmelin Handbook: Sb: MVol.B2, 12.4, page 482 - 486

  摘要：

  DOI：
• 作为试剂：
  描述：

  (-)-α-蒎烯 在 antimonic acid 作用下， 生成 dl-camphene 、 limonene.
  参考文献：
  名称：

  Guha; Roy, Journal of the Indian Institute of Science, Section A, 1941, vol. 23, p. 217

  摘要：

  DOI：

文献信息

• Monoclinic honeycomb-layered compound Li3Ni2SbO6: preparation, crystal structure and magnetic properties
  作者：Elena A. Zvereva、Maria A. Evstigneeva、Vladimir B. Nalbandyan、Olga A. Savelieva、Sergey A. Ibragimov、Olga S. Volkova、Larisa I. Medvedeva、Alexander N. Vasiliev、Ruediger Klingeler、Bernd Buechner

  DOI：10.1039/c1dt11322d

  日期：——

  Two synthetic routes—ion-exchange preparation from layered Na3Ni2SbO6 at 300 °C and direct solid-state synthesis at 1150 °C resulted in layered Li3Ni2SbO6, a cation-ordered derivative from the rocksalt type. The Fddd form reported earlier could not be reproduced. According to the XRD Rietveld analysis, Li3Ni2SbO6 is a pseudohexagonal monoclinic structure, C2/m, with a = 5.1828(2) Å, b = 8.9677(3) Å

  两种合成路线-从分层制备离子交换 Na 3 Ni 2 SbO 6 在300°C下进行直接固态合成，在1150°C下进行分层 Li 3 Ni 2 SbO 6，是来自岩盐类型的阳离子有序衍生物。先前报告的Fddd表格无法复制。根据XRD Rietveld分析，Li 3 Ni 2 SbO 6是准六边形单斜晶结构C 2 / m，a = 5.1828（2）Å，b = 8.9677（3）Å，c = 5.1577（2）Å，β = 109.696（2）°。不里/你检测到混合入住。在高温下，磁化率遵循居里-魏斯定律，魏斯温度为正值，约为8 K，表明铁磁相互作用占主导地位。然而，Li 3 Ni 2 SbO 6在反铁磁性订单Ť Ñ〜15 K的有效磁矩为4.3μ乙/复令人满意地与理论估计假设的高自旋结构一致镍2+（S = 1）。电子自旋共振（ESR）光谱显示归因于镍2+离子在八面体配位中。吸收的特征在于各向同性温度无关的有效g因子g
• Insulating protective material
  申请人：Toagosei Chemical Industry Co., Ltd.

  公开号：US04668719A1

  公开（公告）日：1987-05-26

  This invention provides an insulating protective material effective for protection of electronic and electric devices such as electronics elements. This insulating protective material contains at least one hydrous oxide of a metal which has ion exchange properties together with a fusion bonding component such as low-melting glass, epoxy resin, phenolic resin, silicone resin, etc. and a filler such as fused silica, .beta.-eucryptite, glass fiber, glass beads, etc. Said specific hydrous oxide can be used together with a sulfur-containing organic high molecular weight compound. The hydrous oxides used in protective materials as a sealing material for electronic and electric devices can capture an ionic impurity eluted from the components of the protective material and fix it therein thereby to provide stable electronic materials excellent in performance.

  本发明提供了一种绝缘保护材料，可有效保护电子和电气设备（如电子元件）。该绝缘保护材料含有至少一种具有离子交换性质的金属水合氧化物，以及熔合粘结成分，如低熔玻璃、环氧树脂、酚醛树脂、硅树脂等，以及填料，如熔融二氧化硅、β-欧克瑞普蒂特、玻璃纤维、玻璃珠等。所述特定的水合氧化物可以与含硫有机高分子化合物一起使用。用于电子和电气设备的保护材料中使用的水合氧化物可以捕获从保护材料组分中析出的离子杂质，并将其固定在其中，从而提供性能优异的稳定电子材料。
• Fichter, F.; Jenny, E., Helvetica Chimica Acta, 1923, vol. 6, p. 230
  作者：Fichter, F.、Jenny, E.

  DOI：——

  日期：——
• Gmelin Handbuch der Anorganischen Chemie, Gmelin Handbook: S: MVol.B2, 1.6.4, page 543 - 552
  作者：

  DOI：——

  日期：——
• Nekleevic, B. A., 1940, vol. 2, p. 13
  作者：Nekleevic, B. A.

  DOI：——

  日期：——