the visible region. 4 Various techniques developed for the deposition of these films include chemical vapor deposition (CVD), 6 spray pyrolytic process, 7,8 reactive evaporation, 9 and reactive sputtering. 1~ This paper reports a method for the preparation of photoconductive SnO2 films by a two-step process: (i) deposition of a thin film of SnS from a chemical bath 'I and (if) conversion of these films
描述了一种将
玻璃基板上
化学沉积的 SnS 薄膜转化为 SnO2 的方法。该方法包括在空气中在 400℃下加热 1 小时。SnS 薄膜的厚度为 -0.7 微米,在反射日光下呈黑色,但在透射下呈深红色。它们是通过在 60° 下经过 7 小时 30 小时的
化学沉积从均匀溶液中
化学沉积制备的,它们向 SnO2 的转化是通过测量光学透射率和 X 射线衍射图来确定的。SnS 和 SnO2 薄膜都显示出光电导特性。后者的暗度和光电导率可以通过在 200~ 下真空退火 1 小时后在空气中热分解而增加~104(至~1~2 -~ cm -~)。增加的光电导率归因于从晶界解吸氧和真空退火过程中带来的非
化学计量。之所以提供这种解释,是因为随后在 200 ℃下进行空气退火伴随着导电率的降低。未掺杂形式的氧化
锡 (SnO2) 薄膜是具有宽带隙 (Eg)、3.5-4 eV、1-3 和大约 1.92 的折射率的半导体
氟、
氯或
锑掺杂的