二氯(二氟)硅烷 | 18356-71-3

• 分子结构分类: 无机化合物 - 混合金属/非金属化合物 - 类金属盐
• 中文名称: 二氯(二氟)硅烷
• 英文名称: difluoro dichlorosilane
• 英文别名: Dichlorodifluorosilane；dichloro(difluoro)silane
• CAS: 18356-71-3
• 化学式: Cl₂F₂Si
• 分子量: 136.988
• InChiKey: LNUZHCSQTRPPPK-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 熔点：
  -44°C
• 沸点：
  -32°C (estimate)
• 密度：
  1.305 (estimate)
• 溶解度：
  与H2O反应

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  1.84
• 重原子数：
  5
• 可旋转键数：
  0
• 环数：
  0.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.0
• 拓扑面积：
  0
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  2

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  二氯(二氟)硅烷 在 H₂O 作用下， 以 水 为溶剂， 生成 六氟合硅酸
  参考文献：
  名称：

  FLUOROCHLORIDES OF SILICON

  摘要：

  DOI：

  10.1021/ja01349a018
• 作为产物：
  描述：

  difluoro dibromosilane 在 Cl₂ 作用下， 以 neat (no solvent) 为溶剂， 生成 二氯(二氟)硅烷
  参考文献：
  名称：

  Fluorochlorobromides of Silicon

  摘要：

  DOI：

  10.1021/ja01283a016
• 作为试剂：
  描述：

  丙基溴化镁 在 二氯(二氟)硅烷 作用下， 生成 di-n-propyldifluorosilane 、 chloro-fluoro-dipropyl-silane
  参考文献：
  名称：

  Preparation and Reactions of Dichlorodifluorosilane^*

  摘要：

  DOI：

  10.1021/ja01145a125

文献信息

• A study of the reactions of chlorine and fluorine atoms with SiH2Cl2 and SiHCl3, with ultraviolet photoelectron spectroscopy
  作者：J.M. Dyke、E.P.F. Lee、A. Morris、L. Nyulászi

  DOI：10.1016/0368-2048(93)01836-4

  日期：1993.12

  SiCl4 are found to be stable products of the Cl + SiHCl3 reaction, and HCl, SiCl2 and SiCl4 are products of the Cl + SiH2Cl2 reaction sequence. Similar studies have been made for the F + SiH2Cl2 and F + SiHCl3 reactions. F + SiH2Cl2 is notable in that it produces SiF2, SiFCl, and SiCl2 as secondary reaction products. The assignment of a reaction product band at (10.57 ± 0.01) eV vertical ionization energy

  摘要 用紫外光电子能谱研究了 Cl + SiHCl3 和 Cl + SiH2Cl2 反应，并观察到了与主要反应产物 SiCl3 和 SiHCl2 相关的谱带。SiCl3 和 SiHCl2 的第一垂直电离能分别测量为 (9.24 ± 0.03) 和 (9.06 ± 0.02) eV。相应的波段起始值为 (8.45 ± 0.05) 和 (8.40 ± 0.05) eV。根据在 6-31G**/MP2 水平上从头算分子轨道计算的结果，提供了证据表明实验带起始点是绝热电离能的上限。对于每个自由基，通过将计算的垂直电离能与测量值进行比较，计算出的绝热电离能已被校正，以产生对实验绝热电离能的估计。使用这个程序，SiCl3 和 SiHCl2 的绝热电离能分别评估为 (8.05 ± 0.10) 和 (7.90 ± 0.10) eV。发现 HCl 和 SiCl4 是 Cl + SiHCl3 反应的稳定产物，而
• Laser induced dielectric breakdown for synthesis of chlorofluorosilanes
  作者：P.G. Sennikov、I.B. Gornushkin、A.A. Ermakov、R.A. Kornev、V.E. Shkrunin、V.S. Polyakov

  DOI：10.1016/j.jfluchem.2020.109692

  日期：2021.1

  of SiFxCl4-x (x = 1, 2, 3) from SiF4 and SiCl4 is thermodynamically forbidden under standard conditions. This restriction is removed in low-temperature plasmas studied in this work: a laser induced dielectric breakdown (LIDB) plasma and steady-state inductively-coupled plasma (ICP). The plasmas differ in many respects including energy content, temperature, and electron density that lead to different

  四氟硅烷（SF 4）和四氯硅烷（SiCl 4）等离子体已被广泛用作蚀刻硅的F或Cl源，或用于沉积Si基材料的硅源。在氯氟硅烷SiF x Cl y分子中使用F和Cl的不同组合会增加实现这些过程的灵活性。由SiF 4和SiCl 4直接合成SiF x Cl 4-x（x = 1，2，3）在标准条件下是热力学上禁止的。在这项工作中研究的低温等离子体中消除了这种限制：激光诱导介电击穿（LIDB）等离子体和稳态电感耦合等离子体（ICP）。等离子体在许多方面有所不同，包括能量含量，温度和电子密度，这导致等离子体物质的不同电离/激发态，这可从等离子体发射光谱中观察到。红外光谱和质谱证实了三种氯氟硅烷SiF 3 Cl，SiF 2 Cl 2和SiFCl 3的形成，在LIDB等离子体产品中约占60％，并且在SiF 3 Cl，SiFCl 3和SiF 2之间以50/50的比例分配Cl 2。通过吉布斯自由能的最小化进行
• Reaction of silicon difluoride with halogens: a reinvestigation
  作者：Bettadapura S. Suresh、James Charlton Thompson

  DOI：10.1039/dt9870001123

  日期：——

  Reactions of SiF2 with halogens have been reinvestigated by both co-condensation and gas-phase methods. The co-condensation method yields a number of fluorohalogenosilanes including mono-, di-, and higher silane derivatives. These compounds contain SiF, SiF2, and SiF3 units. The reactivity towards SiF2 decreases from chlorine through bromine to iodine. While chlorine and bromine give rise to a number

  SiF 2与卤素的反应已通过共缩合和气相方法进行了重新研究。该共缩合方法产生许多氟代卤代硅烷，包括单，二和高级硅烷衍生物。这些化合物包含SiF，SiF 2和SiF 3单元。对SiF 2的反应性从氯到溴再到碘。尽管氯和溴会生成许多氟代卤代硅烷，但碘只能生成甲硅烷衍生物。相反，气相反应没有进行到任何明显的程度。产品已通过质谱和19 F和29进行了表征Si nmr光谱。许多是第一次被发现。
• PROCESSES FOR PRODUCING HYDROHALOCARBON AND HALOCARBON COMPOUNDS USING SILICON TETRAFLUORIDE
  申请人：Omotowa Bamidele

  公开号：US20090069589A1

  公开（公告）日：2009-03-12

  Methods and systems for producing hydrohalocarbon and/or halocarbon compounds with an inorganic fluoride (e.g., silicon tetrafluoride (SiF 4 )) are disclosed herein.

  本文介绍了使用无机氟化物（例如四氟化硅（SiF4））生产氢卤烃和/或卤代烃化合物的方法和系统。
• He(I) photoelectron spectroscopy of SiF2Cl2 and SiFCl3
  作者：O. Grabandt、C.A. de Lange、R. Mooyman、P. Vernooijs

  DOI：10.1016/0009-2614(91)87191-d

  日期：1991.9

  The He(I) photoelectron spectra of the unstable compounds SiFCl3 and SiF2Cl2 are presented. The interpretation of the spectra is mainly based on Hartree—Fock—Slater calculations.

  给出了不稳定化合物SiFCl 3和SiF 2 Cl 2的He（I）光电子能谱。光谱的解释主要基于Hartree-Fock-Slater计算。