氯三氟硅烷 | 14049-36-6

• 分子结构分类: 无机化合物 - 混合金属/非金属化合物 - 类金属盐
• 中文名称: 氯三氟硅烷
• 英文名称: chlorotrifluorosilane
• 英文别名: trifluoro chlorosilane；chloro(trifluoro)silane
• CAS: 14049-36-6
• 化学式: ClF₃Si
• 分子量: 120.534
• InChiKey: WOLDFAYTXKMDAQ-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 熔点：
  -138°C
• 沸点：
  -70°C (estimate)
• 密度：
  1.099 (rough estimate)
• 溶解度：
  与H2O反应

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  1.57
• 重原子数：
  5
• 可旋转键数：
  0
• 环数：
  0.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.0
• 拓扑面积：
  0
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  3

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  氯三氟硅烷 、 lithium siloxide 以 乙醚 为溶剂， 生成 二硅氧烷 、 一氟硅烷
  参考文献：
  名称：

  硅烷醇，二甲硅烷基膦及其相关化合物的锂衍生物的某些反应的制备和光谱研究

  摘要：

  甲基锂与Y（SiH 3）2（Y = O，S或Se）或Z（SiH 3）3（Z = P或As）在乙醚中反应生成Li（YSiH 3）或Li [Z（ SiH 3）2 ]; 这些化合物已通过红外光谱，拉曼光谱和核磁共振光谱进行了表征，并研究了它们与卤化物的某些反应。三甲硅烷基胺不能与LiMe干净地反应形成类似的化合物。包含Li（YSiH 3）和Y（SiH 3）2的溶液的nmr光谱表明，除非Y = O，否则交换会在nmr时间尺度上快速发生。可以从Li（SeSiH 3）制备硒代乙酸硅酯）和MeCOCl，并确定了该物种中分子内交换的动力学参数。

  DOI：

  10.1039/dt9760001661
• 作为产物：
  描述：

  苯基三氟硅烷 在 盐酸 、 aluminum (III) chloride 作用下， 反应 27.0h， 以98%的产率得到氯三氟硅烷
  参考文献：
  名称：

  Preparation of mixed-halogen halo-silanes

  摘要：

  本文描述了制备具有混合卤素取代基的卤硅烷的方法，包括提供一个具有一个或多个第一卤素和一个或多个芳基的芳基卤硅烷，并用原子序数大于所述第一卤素的第二卤素取代所述芳基卤硅烷的一个或多个芳基基团。

  公开号：

  US20040019231A1
• 作为试剂：
  描述：

  Chlorine(I) trifluoromethanesulfonate 在 氯三氟硅烷 作用下， 生成 氟里昂-13
  参考文献：
  名称：

  氯（I）和溴（I）三氟甲磺酸盐和溴（I）氟硫酸盐的进一步反应

  摘要：

  据报道，CF 3 SO 2 OX（X = Cl，Br）与某些共价无机氯化物的取代亲电脱卤反应。这些反应导致以极高的收率形成XX'（X，X'Cl，Br）和几种新的三氟甲磺酸酯衍生物。氯（I）三氟甲磺酸盐也氧化添加到不饱和无机基质（如CO，SO 2和SF 4）中，形成新化合物。CF 3 SO 2 OCl的反应性与FSO 2 OBr相当，并且给出了两者之间的一些比较。

  DOI：

  10.1016/s0022-1139(00)83128-0

文献信息

• Laser induced dielectric breakdown for synthesis of chlorofluorosilanes
  作者：P.G. Sennikov、I.B. Gornushkin、A.A. Ermakov、R.A. Kornev、V.E. Shkrunin、V.S. Polyakov

  DOI：10.1016/j.jfluchem.2020.109692

  日期：2021.1

  of SiFxCl4-x (x = 1, 2, 3) from SiF4 and SiCl4 is thermodynamically forbidden under standard conditions. This restriction is removed in low-temperature plasmas studied in this work: a laser induced dielectric breakdown (LIDB) plasma and steady-state inductively-coupled plasma (ICP). The plasmas differ in many respects including energy content, temperature, and electron density that lead to different

  四氟硅烷（SF 4）和四氯硅烷（SiCl 4）等离子体已被广泛用作蚀刻硅的F或Cl源，或用于沉积Si基材料的硅源。在氯氟硅烷SiF x Cl y分子中使用F和Cl的不同组合会增加实现这些过程的灵活性。由SiF 4和SiCl 4直接合成SiF x Cl 4-x（x = 1，2，3）在标准条件下是热力学上禁止的。在这项工作中研究的低温等离子体中消除了这种限制：激光诱导介电击穿（LIDB）等离子体和稳态电感耦合等离子体（ICP）。等离子体在许多方面有所不同，包括能量含量，温度和电子密度，这导致等离子体物质的不同电离/激发态，这可从等离子体发射光谱中观察到。红外光谱和质谱证实了三种氯氟硅烷SiF 3 Cl，SiF 2 Cl 2和SiFCl 3的形成，在LIDB等离子体产品中约占60％，并且在SiF 3 Cl，SiFCl 3和SiF 2之间以50/50的比例分配Cl 2。通过吉布斯自由能的最小化进行
• Reaction of silicon difluoride with halogens: a reinvestigation
  作者：Bettadapura S. Suresh、James Charlton Thompson

  DOI：10.1039/dt9870001123

  日期：——

  Reactions of SiF2 with halogens have been reinvestigated by both co-condensation and gas-phase methods. The co-condensation method yields a number of fluorohalogenosilanes including mono-, di-, and higher silane derivatives. These compounds contain SiF, SiF2, and SiF3 units. The reactivity towards SiF2 decreases from chlorine through bromine to iodine. While chlorine and bromine give rise to a number

  SiF 2与卤素的反应已通过共缩合和气相方法进行了重新研究。该共缩合方法产生许多氟代卤代硅烷，包括单，二和高级硅烷衍生物。这些化合物包含SiF，SiF 2和SiF 3单元。对SiF 2的反应性从氯到溴再到碘。尽管氯和溴会生成许多氟代卤代硅烷，但碘只能生成甲硅烷衍生物。相反，气相反应没有进行到任何明显的程度。产品已通过质谱和19 F和29进行了表征Si nmr光谱。许多是第一次被发现。
• PROCESSES FOR PRODUCING HYDROHALOCARBON AND HALOCARBON COMPOUNDS USING SILICON TETRAFLUORIDE
  申请人：Omotowa Bamidele

  公开号：US20090069589A1

  公开（公告）日：2009-03-12

  Methods and systems for producing hydrohalocarbon and/or halocarbon compounds with an inorganic fluoride (e.g., silicon tetrafluoride (SiF 4 )) are disclosed herein.

  本文介绍了使用无机氟化物（例如四氟化硅（SiF4））生产氢卤烃和/或卤代烃化合物的方法和系统。
• D'Errico, John J.; Sharp, Kenneth G., Inorganic Chemistry, 1989, vol. 28, # 11, p. 2177 - 2180
  作者：D'Errico, John J.、Sharp, Kenneth G.

  DOI：——

  日期：——
• Gmelin Handbuch der Anorganischen Chemie, Gmelin Handbook: Si: MVol.B, 245, page 663 - 666
  作者：

  DOI：——

  日期：——