copper silicide | 12134-36-0

• 分子结构分类: 无机化合物 - 混合金属/非金属化合物 - 各种混合金属/非金属
• 英文名称: copper silicide
• CAS: 12134-36-0
• 化学式: Cu₃Si
• 分子量: 218.724
• InChiKey: UTRAPUHQWZJEGP-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  -1.46
• 重原子数：
  4.0
• 可旋转键数：
  0.0
• 环数：
  0.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.0
• 拓扑面积：
  0.0
• 氢给体数：
  0.0
• 氢受体数：
  0.0

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  盐酸 、 copper silicide 以 neat (no solvent) 为溶剂， 生成 三氯硅烷
  参考文献：
  名称：

  Compensation effect in trichlorosilane synthesis

  摘要：

  In a recent publication [J. Acker, K. Bohmhammel, J. Phys. Chem. B 106 (2002) 5105], the reactions between transition metal silicides and hydrogen chloride were studied by isothermal calorimetric measurements. The obtained apparent activation energies and pre-exponential factors show clearly a linear dependence that is attributed to the compensation effect. An isokinetic temperature of 696.9 +/- 22.1 K was determined. According to Larsson's model of selective energy transfer, a characteristic frequency of 969.3 +/- 46.5 cm(-1) is calculated. The occurrence of the compensation effect is discussed in terms of chemisorption, precursor formation, and the involvement of surface species in essential reaction steps. (C) 2003 Elsevier B.V. All rights reserved.

  DOI：

  10.1016/s0022-328x(03)00610-7
• 作为产物：
  描述：

  copper(II) oxide 、 硅烷 在 甲烷 作用下， 以 neat (no solvent) 为溶剂， 生成 copper silicide
  参考文献：
  名称：

  自对准硅化铜纳米梁上的碳纳米管悬臂

  摘要：

  在这封信中，作者描述了自对准硅化铜 (Cu3Si) 纳米束的生长方法及其作为通过化学气相沉积合成碳纳米管 (CNT) 的活性催化剂的用途。在这些有用结构的独特几何形状中，CNT 悬臂牢固地固定在 Cu3Si 纳米梁上。由此产生的 CNT-Cu3Si 结构可以提高纳米机电系统中 CNT 应用的准确性和可靠性。

  DOI：

  10.1063/1.2730578

文献信息

• Reactivity of Intermetallic Compounds:  A Solid State Approach to Direct Reactions of Silicon
  作者：Jörg Acker、Klaus Bohmhammel

  DOI：10.1021/jp0130315

  日期：2002.5.1

  work is focused on a new approach to describe, quantify, and compare the reactivity of various transition metal silicide phases toward hydrogen chloride. Thermodynamic and kinetic parameters are obtained from isothermal calorimetric studies of these reactions. The reactivity of the silicide phases is discussed in terms of reaction start temperatures, rate constants, and apparent activation energies. Negative

  目前的工作重点是描述、量化和比较各种过渡金属硅化物相对氯化氢的反应性的新方法。从这些反应的等温量热研究中获得热力学和动力学参数。硅化物相的反应性根据反应起始温度、速率常数和表观活化能进行了讨论。在低温下观察到负的表观活化能，这归因于反应的初始阶段，氯被化学吸附，然后结合到表面附近的硅化物晶格中。稍后，形成具有与本体相显着不同的组成和反应性的含氯反应层。在固态调查的基础上，提出了这些层的微观结构的扩散模型，其中镍原子发生置换，随后氯占据镍位点。一个模型是建议...
• Kinetic study of the reaction between copper(I) chloride and commercial silicon or silicides
  作者：B. Gillot、H. Souha、D. Viale

  DOI：10.1007/bf01142049

  日期：——

  The reaction of CuCl with silicon containing as impurities Al, Fe, Ca and Ti or with some silicides (Si2Ca, Si2Fe, Si2Ti) has been investigated in the temperature range 250–310 °C. For the reaction between CuCl and commercial Si, it has been found that at 282 °C, the aluminium promotes the reaction between Cu3Si and CuCl while its rate of consumption is greatly decreased by the presence of iron impurity

  CuCl 与含有杂质 Al、Fe、Ca 和 Ti 的硅或与一些硅化物（Si2Ca、Si2Fe、Si2Ti）在 250-310°C 的温度范围内的反应已经进行了研究。对于CuCl和商品Si的反应，发现在282°C时，铝促进了Cu3Si和CuCl之间的反应，而铁杂质的存在会大大降低其消耗率。这两种杂质的共同作用提高了形成的铜硅合金的数量。在硅化物存在下，与 CuCl 的反应导致形成高度分散的铜。
• Reaction Pathway of Combustion Synthesis of Ti₅ Si₃ in Cu-Ti-Si System
  作者：Hui-Yuan Wang、Si-Jie Lü、Wei Xiao、Guo-Jun Liu、Jin-Guo Wang、Qi-Chuan Jiang

  DOI：10.1111/jace.12079

  日期：2013.3

  The reaction pathway of combustion synthesis (CS) of Ti5Si3 in Cu–Ti–Si system was explored through a delicate microstructure and phase analysis on the resultant products during differential thermal analysis (DTA). The formation of Cu–Si eutectic liquids plays a key role in the reaction pathway, which provides easy route for reactant transfer and accelerates the occurrence of complete reaction. Cu

  通过在差热分析 (DTA) 过程中对所得产物进行精细的微观结构和相分析，探索了 Cu-Ti-Si 系统中 Ti5Si3 燃烧合成 (CS) 的反应途径。Cu-Si共晶液体的形成在反应途径中起着关键作用，为反应物转移提供了简便的途径，加速了完全反应的发生。Cu 最初通过固态扩散反应与 Si 反应形成 Cu3Si，然后在~802°C 的共晶点进一步与 Cu 反应形成 Cu-Si 液体；然后 Ti 溶解到周围的 Cu-Si 液体中并导致形成 Cu-Ti-Si 三元液体；最后，Ti5Si3 通过溶液-反应-沉淀机制从饱和液体中沉淀出来。
• Active site formation in the direct process for methylchlorosilanes
  作者：W BANHOLZER

  DOI：10.1016/0021-9517(86)90268-x

  日期：1986.10

  The direct process for methylchlorosilane production was studied in a laboratory-scale fluidized bed reactor. The silicon was found to have discrete sites at which silanes were produced. The density of sites was controlled by the nature of the native oxide layer over the silicon. The active sites displayed regular geometry, indicating an anisotropic silicon reaction which preferentially leaves (111)

  在实验室规模的流化床反应器中研究了直接生产甲基氯硅烷的方法。发现硅具有离散的位置，在该位置上产生硅烷。位置的密度由硅上的天然氧化物层的性质控制。活性位点显示规则的几何形状，表明各向异性的硅反应，随着反应的进行，优先使（111）平面暴露。200埃厚的碳和SiO 2层阻止了活性部位的形成。
• Reactivity of Cu3Si of different genesis towards copper(I) chloride
  作者：H Souha、F Bernard、E Gaffet、B Gillot

  DOI：10.1016/s0040-6031(00)00365-8

  日期：2000.6

  Abstract A comparative study of the reactivity between copper(I) chloride and three types of Cu 3 Si obtained in a molten medium (Cu 3 Si-Ref) and from mechanical activation following an annealing process (Cu 3 Si-M2AP) or a self-propagating high-temperature synthesis (Cu 3 Si-MASHS) was performed by thermogravimetry under vacuum using non-isothermal and isothermal methods of kinetic measurement. It

  摘要 对氯化铜 (I) 与在熔融介质中获得的三种类型 Cu 3 Si (Cu 3 Si-Ref) 和退火过程后的机械活化 (Cu 3 Si-M2AP) 或自-传播高温合成（Cu 3 Si-MASHS）是在真空下使用非等温和等温动力学测量方法通过热重法进行的。已经确定，对于三个 Cu 3 Si/CuCl 系统，在 145-215°C 温度范围内的加速和衰减阶段非常接近于 Prout-Tompkins 类型的方程，其中提出了自催化过程。Cu 3 Si-MASHS/CuCl 系统获得的表观活化能较低（63 kJ mol -1 对 68 和 78 kJ mol -1 Cu 3 Si-M2AP 和 Cu 3 Si-Ref，