disilicon hexabromide | 13517-13-0

• 分子结构分类: 无机化合物 - 混合金属/非金属化合物 - 类金属盐
• 英文名称: disilicon hexabromide
• 英文别名: Hexabromodisilane；tribromo(tribromosilyl)silane
• CAS: 13517-13-0
• 化学式: Br₆Si₂
• 分子量: 535.595
• InChiKey: ASWZNPOTXAXUPB-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 熔点：
  95 °C
• 沸点：
  265 °C
• 密度：
  2.990±0.06 g/cm3(Predicted)

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  4.31
• 重原子数：
  8
• 可旋转键数：
  0
• 环数：
  0.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.0
• 拓扑面积：
  0
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  0

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  disilicon hexabromide 在 氨 作用下， 以 not given 为溶剂， 生成 silica gel
  参考文献：
  名称：

  Schumb, W. C., Fernelius, W. C., Inorganic syntheses, Bd. 2, New York-London 1946, S. 101

  摘要：

  DOI：
• 作为产物：
  描述：

  calcium silicide 、 溴 在 O₂ 作用下， 以 neat (no solvent) 为溶剂， 生成 disilicon hexabromide
  参考文献：
  名称：

  Gmelin Handbuch der Anorganischen Chemie, Gmelin Handbook: Ca: MVol.B3, 171, page 1033 - 1036

  摘要：

  DOI：
• 作为试剂：
  描述：

  silver cyanate 在 disilicon hexabromide 作用下， 以 甲苯 为溶剂， 生成 hexaisocyanato disilane
  参考文献：
  名称：

  Hoefler,F.; Peter,W., Zeitschrift fur Naturforschung, Teil B: Anorganische Chemie, Organische Chemie, 1975, vol. 30, p. 282 - 283

  摘要：

  DOI：

文献信息

• Preparation of Hexafluorodisilane and Reactions of Hexafluorodisilane and Hexachlorodisilane with Sulfur Trioxide
  作者：Bettadapura Srinivasaiah Suresh、Doddaballapur Krishnamurthy Padma

  DOI：10.1246/bcsj.58.1867

  日期：1985.6

  infrared spectral data, vapour density measurements and analytical data. Both hexafluorodisilane and hexachlorodisilane are found to react with sulfur trioxide when heated to 400°C for 12 h. The products of reaction are silicon tetrafluoride, silica and sulfur dioxide with hexafluorodisilane while hexachlorodisilane in addition gives rise to hexachlorodisiloxane.

  六氟乙硅烷是通过氟化钾在沸腾的乙腈中氟化六氯乙硅烷或六溴乙硅烷制备的，产率分别接近 45% 和 60%。六氟乙硅烷的特征在于红外光谱数据、蒸汽密度测量和分析数据。当加热到 400°C 12 小时时，发现六氟乙硅烷和六氯乙硅烷都与三氧化硫反应。与六氟乙硅烷反应的产物是四氟化硅、二氧化硅和二氧化硫，而六氯乙硅烷还生成六氯二硅氧烷。
• Reaction of silicon difluoride with halogens: a reinvestigation
  作者：Bettadapura S. Suresh、James Charlton Thompson

  DOI：10.1039/dt9870001123

  日期：——

  Reactions of SiF2 with halogens have been reinvestigated by both co-condensation and gas-phase methods. The co-condensation method yields a number of fluorohalogenosilanes including mono-, di-, and higher silane derivatives. These compounds contain SiF, SiF2, and SiF3 units. The reactivity towards SiF2 decreases from chlorine through bromine to iodine. While chlorine and bromine give rise to a number

  SiF 2与卤素的反应已通过共缩合和气相方法进行了重新研究。该共缩合方法产生许多氟代卤代硅烷，包括单，二和高级硅烷衍生物。这些化合物包含SiF，SiF 2和SiF 3单元。对SiF 2的反应性从氯到溴再到碘。尽管氯和溴会生成许多氟代卤代硅烷，但碘只能生成甲硅烷衍生物。相反，气相反应没有进行到任何明显的程度。产品已通过质谱和19 F和29进行了表征Si nmr光谱。许多是第一次被发现。
• Reactions of Si₂Br₆with N-Heterocyclic Carbenes
  作者：Julia I. Schweizer、Alexander G. Sturm、Timo Porsch、Matthias Berger、Michael Bolte、Norbert Auner、Max C. Holthausen

  DOI：10.1002/zaac.201800163

  日期：2018.9.17

  A combined experimental and theoretical study on the reaction of Si2Br6 with N‐heterocyclic carbenes is reported. Employment of an imidazole‐2‐ylidene with methyl groups in C4‐ and C5‐position results in the disproportionation of Si2Br6 into the adducts NHC→SiBr2 and NHC→SiBr4. According to expectation, the hydrogenated derivative 1,3‐bis(2,6‐diisopropylphenyl)imidazol‐2‐ylidene forms analogous disproportionation

  报道了Si 2 Br 6与N-杂环卡宾反应的组合实验和理论研究。在C 4和C 5位上使用带有甲基的咪唑-2-亚烷基会导致Si 2 Br 6歧化成加合物NHC→SiBr 2和NHC→SiBr 4。根据预期，氢化衍生物1,3-双（2,6-二异丙基苯基）咪唑-2-亚甲基在低温下形成Si 2 Br 6的类似歧化产物，而在较高温度下的反应则提供4-SiBr 3取代的NHC。通过密度泛函理论计算探索的下层形成机理具有异常的卡宾中间体。
• A novel synthetic procedure for the preparation of silicon sesquioxide at room temperature
  作者：Bettadapura Srinivasaiah Suresh、Doddaballapur Krishnamurthy Padma

  DOI：10.1039/dt9840001779

  日期：——

  Hexabromodisilane reacts with sulphur trioxide at room temperature to give pure silicon sesquioxide in almost quantitative yield, together with bromine and sulphur dioxide as the only by-products.

  六溴二硅烷在室温下与三氧化硫反应，以几乎定量的收率得到纯的倍半氧化硅，而溴和二氧化硫是唯一的副产物。
• Flash photolysis of SiBr4: the UV spectrum of SiBr2
  作者：B. Ruzsicska、A. Jodhan、I. Safarik、O.P. Strausz、T.N. Bell

  DOI：10.1016/0009-2614(87)80153-7

  日期：1987.8

  flash photolysis of SiBr4 both the absorption and the emission spectra corresponding to the B̃2Σ−X̃2Π transition of SiBr have been observed. A broad, structureless absorption band has also been detected in the 340–400 nm region which could be assigned to the hitherto unreported à 1B1−x̃ 1A1 transition of SiBr2. The decay of both absorption spectra followed first-order kinetics yielding the pseudo-first-order

  在SIBR的闪光光解4二者的吸收和对应于B的发射光谱2 Σ-X 2 ΠSIBR的过渡已经观察到。一个广泛的，无结构的吸收带也已在340-400纳米的区域，该区域可以被分配给迄今未报告检测到的1乙1 -x 1阿1个SIBR的过渡2。两个吸收光谱的衰减均遵循一级动力学，从而得出伪一级速率常数：k（SiBr）= 2.6×10 4 s -1和k（SiBr 2）= 8.9×10 3 -1。假设消费这些中间体的主要反应是SIBR + SIBR 4 →的Si 2溴5和SIBR 2 + SIBR 4 →的Si 2溴6，二阶速率常数具有值ķ（SIBR）= 9.7×10 9中号- 1 s -1和k（SiBr 2）= 3.3×10 8 M -1 s -1。