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Bis(2-butoxyethyl) propyl phosphate

中文名称
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中文别名
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英文名称
Bis(2-butoxyethyl) propyl phosphate
英文别名
bis(2-butoxyethyl) propyl phosphate
Bis(2-butoxyethyl) propyl phosphate化学式
CAS
——
化学式
C15H33O6P
mdl
——
分子量
340.39
InChiKey
FQLAYGXKODORBO-UHFFFAOYSA-N
BEILSTEIN
——
EINECS
——
  • 物化性质
  • 计算性质
  • ADMET
  • 安全信息
  • SDS
  • 制备方法与用途
  • 上下游信息
  • 反应信息
  • 文献信息
  • 表征谱图
  • 同类化合物
  • 相关功能分类
  • 相关结构分类

计算性质

  • 辛醇/水分配系数(LogP):
    2.6
  • 重原子数:
    22
  • 可旋转键数:
    17
  • 环数:
    0.0
  • sp3杂化的碳原子比例:
    1.0
  • 拓扑面积:
    63.2
  • 氢给体数:
    0
  • 氢受体数:
    6

文献信息

  • COMPOSITION FOR LASER ENGRAVING, RELIEF PRINTING PLATE PRECURSOR FOR LASER ENGRAVING AND PROCESS FOR PRODUCING SAME, PROCESS FOR MAKING RELIEF PRINTING PLATE, AND RELIEF PRINTING PLATE
    申请人:FUJIFILM CORPORATION
    公开号:US20140130692A1
    公开(公告)日:2014-05-15
    To provide a composition for laser engraving that can give a relief printing plate having excellent ink laydown and that has excellent rinsing properties after laser engraving. A composition for laser engraving, the composition that comprises (Component A) an acrylate oligomer; (Component B) a thermopolymerization initiator; and (Component C) at least one of the compounds represented by Formula (1) to Formula (7); the composition not comprising or comprising at more than 0 mass % but less than 2 mass % relative to the total mass of the composition (Component D) a resin having a weight-average molecular weight of at least 10,000, wherein R 1 to R 18 independently denote a hydrogen atom, an alkyl group, a substituted alkyl group, an aryl group, a substituted aryl group, a heterocyclic group, or a substituted heterocyclic group, L 2 denotes a divalent organic group, L 3 denotes a trivalent organic group, and L 4 denotes a tetravalent organic group.
    提供一种用于激光雕刻的组合物,可提供具有出色油墨覆盖和激光雕刻后具有出色冲洗性能的浮雕印刷版。该组合物包括(组分A)丙烯酸酯低聚物;(组分B)热聚合引发剂;以及(组分C)由式(1)至式(7)表示的至少一种化合物,该组合物不含有或相对于组合物的总质量含有不到2质量%但超过0质量%的树脂(组分D),其具有至少10,000的重均分子量,其中R1至R18独立地表示氢原子,烷基,取代烷基,芳基,取代芳基,杂环基或取代杂环基,L2表示二价有机基团,L3表示三价有机基团,L4表示四价有机基团。
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