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Silane, [(fluoromethylphenylsilyl)methylidyne]tris[trimethyl- | 72190-81-9

中文名称
——
中文别名
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英文名称
Silane, [(fluoromethylphenylsilyl)methylidyne]tris[trimethyl-
英文别名
fluoro-methyl-phenyl-[tris(trimethylsilyl)methyl]silane
Silane, [(fluoromethylphenylsilyl)methylidyne]tris[trimethyl-化学式
CAS
72190-81-9
化学式
C17H35FSi4
mdl
——
分子量
370.805
InChiKey
YXDIMEHJUKQQRJ-UHFFFAOYSA-N
BEILSTEIN
——
EINECS
——
  • 物化性质
  • 计算性质
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  • SDS
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  • 反应信息
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  • 相关功能分类
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物化性质

  • 熔点:
    98 °C(Solv: ethanol (64-17-5))
  • 沸点:
    343.0±42.0 °C(Predicted)
  • 密度:
    0.88±0.1 g/cm3(Predicted)

计算性质

  • 辛醇/水分配系数(LogP):
    5.81
  • 重原子数:
    22
  • 可旋转键数:
    5
  • 环数:
    1.0
  • sp3杂化的碳原子比例:
    0.65
  • 拓扑面积:
    0
  • 氢给体数:
    0
  • 氢受体数:
    1

SDS

SDS:c57dcdfb12cdaa9ed6d4fd415adf628a
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反应信息

  • 作为反应物:
    描述:
    甲醇Silane, [(fluoromethylphenylsilyl)methylidyne]tris[trimethyl-sodium methylate 作用下, 反应 16.0h, 以26%的产率得到bis(trimethylsilyl)methyl-methoxy-methyl-phenylsilane
    参考文献:
    名称:
    三(三甲基甲硅烷基)甲基硅卤化物与甲醇甲醇钠的反应。硅烯烃中间体的概率
    摘要:
    化合物TsiSiR 2 X [Tsi = Me 3 Si)3 C; R = Me,X = Cl,Br,I,或R = Ph,X = F,Cl,Br,I)]与沸腾的2 M MeONa-MeOH反应,得到(Me 3 Si)2 CHSiR 2类型的产物OMe。有人建议,通过消除,类似于该反应进行ë 2所抵销烷基卤化物,涉及的MeO的同步攻击-在我3的Si基团,X的解放- ,和形成(ME 3 Si)的2 CSiR 2。化合物TsiSiPhMeF TsiSiPhCl 2类似地反应,得到(Me 3 Si)2 CHSiPhMe(OMe)和(Me 3 Si)2 CHSiPh(OMe)2 [后者可能是通过溶剂化最初形成的(Me 3 Si)2 CHSiPhCl(OMe)]。化合物TsiSiMe 2 OMe和TsiSiMe 3不反应,而TsiSiMe 2 H给出TsiH。化合物TsiSiCl 3与0.1 M M
    DOI:
    10.1016/s0022-328x(00)81064-5
  • 作为产物:
    参考文献:
    名称:
    硅的三(三甲基硅烷基)甲基(“三烷基”)衍生物的制备
    摘要:
    用适当的卤化硅处理(Me 3 Si)3 CLi(“三基”锂,TsiLi)产生了一系列类型为(Me 3 Si)3 CSiRR'X的化合物。例如,TsiSiCl 3,TsiSiMeCl 2,TsiSiMe 2 X(X = Cl,OMe),TsiSiPh 2 X(X = F,Cl,OMe)和TsiSiPhMeH。三基对与其连接的硅的亲核位移造成很大的空间位阻,因此(除非存在一个或多个氢化物配体)在硅上不会发生大多数常见的位移。但是,LiAlH 4可以将卤化物还原为氢化物,并且氢化物可以通过致电子剂在亲电置换中转化为卤化物。甚至一种氢化物配体的存在也显着降低了阻碍,因此,例如,TsiSiPhHI与回流的甲醇反应生成TsiSiPhH(OMe)。
    DOI:
    10.1016/s0022-328x(00)87861-4
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文献信息

  • Eaborn, Colin; Lickiss, Paul D.; Ramadan, Nazmi A., Journal of the Chemical Society. Perkin transactions II, 1984, # 2, p. 267 - 270
    作者:Eaborn, Colin、Lickiss, Paul D.、Ramadan, Nazmi A.
    DOI:——
    日期:——
  • DUA S. S.; EABORN C.; HAPPER D. A. R.; HOPPER S. P.; SAFA K. D.; WALTON D+, J. ORGANOMETAL. CHEM., 1979, 178, NO 1, 75-82
    作者:DUA S. S.、 EABORN C.、 HAPPER D. A. R.、 HOPPER S. P.、 SAFA K. D.、 WALTON D+
    DOI:——
    日期:——
  • EABORN C.; HAPPER D. A. R.; SAFA K. D., J. ORGANOMETAL. CHEM., 1980, 191, NO 2, 355-362
    作者:EABORN C.、 HAPPER D. A. R.、 SAFA K. D.
    DOI:——
    日期:——
  • EABORN, C.;LICKISS, P. D.;RAMADAN, NAZMI, A., J. CHEM. SOC. PERKIN TRANS., 1984, N 2, 267-270
    作者:EABORN, C.、LICKISS, P. D.、RAMADAN, NAZMI, A.
    DOI:——
    日期:——
  • Preparation of tris(trimethylsilyl)methyl (“trisyl”) derivatives of silicon
    作者:Sujan S. Dua、Colin Eaborn、Duncan A.R. Harper、Steven P. Hopper、Kazem D. Safa、David R.M. Walton
    DOI:10.1016/s0022-328x(00)87861-4
    日期:1979.9
    Treatment of (Me3Si)3CLi (“trisyl”lithium, TsiLi) with appropriate silicon halides has given a range of compounds of the type (Me3Si)3CSiRR′X; e.g., TsiSiCl3, TsiSiMeCl2, TsiSiMe2X (X = Cl, OMe), TsiSiPh2X (X = F, Cl, OMe), and TsiSiPhMeH. The trisyl group causes very large steric hindrance to nucleophilic displacements at the silicon to which it is attached, so that (unless one or more hydride ligands
    用适当的卤化硅处理(Me 3 Si)3 CLi(“三基”锂,TsiLi)产生了一系列类型为(Me 3 Si)3 CSiRR'X的化合物。例如,TsiSiCl 3,TsiSiMeCl 2,TsiSiMe 2 X(X = Cl,OMe),TsiSiPh 2 X(X = F,Cl,OMe)和TsiSiPhMeH。三基对与其连接的硅的亲核位移造成很大的空间位阻,因此(除非存在一个或多个氢化物配体)在硅上不会发生大多数常见的位移。但是,LiAlH 4可以将卤化物还原为氢化物,并且氢化物可以通过致电子剂在亲电置换中转化为卤化物。甚至一种氢化物配体的存在也显着降低了阻碍,因此,例如,TsiSiPhHI与回流的甲醇反应生成TsiSiPhH(OMe)。
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