概述
硅化物是制备大规模集成电路的关键材料,可以用它来制作电路的欧姆接触、肖特基势垒和电极引线。超大规模集成电路的结深非常浅,如64兆位的超大规模集成电路中的PN结深度只有200nm,在如此浅的结表面使用常规方法制备电极引线常常会导致PN结穿通,使电路失效。因此,需要制备薄层硅化物,其中硅化钒是一种最佳选择。
用途
硅化物是制备大规模集成电路的关键材料,可以用它来制作电路的欧姆接触、肖特基势垒和电极引线。硅化钒的主要用途如下:
- 制备硅化钒薄膜。
- 制备一种吸声陶瓷材料。
生产方法
在直流等离子电弧炉中,加热V和Si的单质粉末以制备硅化物。