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Tetrakis-(dimethyl-chlor-silyl)-methan | 17082-83-6

中文名称
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中文别名
——
英文名称
Tetrakis-(dimethyl-chlor-silyl)-methan
英文别名
Tetrakis-(chlor-dimethyl-silyl)-methan;Chloro-dimethyl-[tris[chloro(dimethyl)silyl]methyl]silane
Tetrakis-(dimethyl-chlor-silyl)-methan化学式
CAS
17082-83-6
化学式
C9H24Cl4Si4
mdl
——
分子量
386.444
InChiKey
XPKYKZASXKIBOX-UHFFFAOYSA-N
BEILSTEIN
——
EINECS
——
  • 物化性质
  • 计算性质
  • ADMET
  • 安全信息
  • SDS
  • 制备方法与用途
  • 上下游信息
  • 反应信息
  • 文献信息
  • 表征谱图
  • 同类化合物
  • 相关功能分类
  • 相关结构分类

物化性质

  • 熔点:
    >320 °C
  • 沸点:
    293.5±35.0 °C(Predicted)
  • 密度:
    1.056±0.06 g/cm3(Predicted)

计算性质

  • 辛醇/水分配系数(LogP):
    6.12
  • 重原子数:
    17
  • 可旋转键数:
    4
  • 环数:
    0.0
  • sp3杂化的碳原子比例:
    1.0
  • 拓扑面积:
    0
  • 氢给体数:
    0
  • 氢受体数:
    0

上下游信息

  • 上游原料
    中文名称 英文名称 CAS号 化学式 分子量
  • 下游产品
    中文名称 英文名称 CAS号 化学式 分子量

反应信息

  • 作为反应物:
    描述:
    Tetrakis-(dimethyl-chlor-silyl)-methan 在 lithium aluminium tetrahydride 、 作用下, 以 四氢呋喃四氯化碳 为溶剂, 反应 5.0h, 生成 (Chloro-dimethyl-silanyl)-tris-dimethylsilanyl-methane
    参考文献:
    名称:
    一些四甲硅烷基甲烷衍生物
    摘要:
    描述了化合物的制备:(i)X = H,F,Cl,Br,I,OMe,OEt,OCOMe和OCOCF 3的C(SiMe 2 X)4;(ii)(HMe 2 Si)4 − n C(SiMe 2 X)n,其中X = Cl,Br,I,n = 1-3;X = OH,n = 1或2;X = OMe,n = 1;(iii)(Me 3 Si)4- n C(SiMe 2 X)n,其中X = H,Cl,Br,n = 1-3;X = I,n = 2或3;X = OCOMe,n = 2;(iv)(ClSiMe 2)3SiMe 2 OH和(ClMe 2 Si)3 C(SiMe 2 OCOMe)。(并非分离出所有产物。)(Me 3 Si)4 C和IX之间的反应为X = Cl或Br,提供了通往相应C(SiMe 2 X)4化合物的良好途径。
    DOI:
    10.1016/0022-328x(85)87445-3
  • 作为产物:
    描述:
    bisbis(trimethylsilyl)methane一氯化碘 作用下, 以 四氯化碳 为溶剂, 反应 72.0h, 以64%的产率得到Tetrakis-(dimethyl-chlor-silyl)-methan
    参考文献:
    名称:
    Ayoko, G. Adefikayo; Eaborn, Colin, Journal of the Chemical Society. Perkin transactions II, 1987, p. 381 - 384
    摘要:
    DOI:
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文献信息

  • Structures of Tetrasilylmethane Derivatives C(SiXMe<sub>2</sub>)<sub>4</sub> (X=H, F, Cl, Br) in the Gas Phase and their Dynamic Structures in Solution
    作者:Derek A. Wann、Stuart Young、Karin Bätz、Sarah L. Masters、Anthony G. Avent、David W. H. Rankin、Paul D. Lickiss
    DOI:10.5560/znb.2014-4147
    日期:2014.12.1
    Abstract

    The structures of the molecules C(SiXMe2)4 (X=H, F, Cl, Br) have been determined by gas electron diffraction (GED). Ab initio calculations revealed nine potential minima for each species, with significant ranges of energies. For the H, F, Cl, and Br derivatives nine, seven, two, and two conformers were modelled, respectively, as they were quantum-chemically predicted to be present in measurable quantities. Variable-temperature 1H and 29Si solution-phase NMR studies and, where applicable, 13C NMR, 1H/29Si NMR shift-correlation, and 1H NMR saturation-transfer experiments are reported for C(SiXMe2)4 (X=H, Cl, Br, and also I). At low temperature in solution two conformers (one C1-symmetric and one C2-symmetric) are observed for each of C(SiXMe2)4 (X=Cl, Br, I), in agreement with the isolated molecule ab initio calculations carried out as part of this work for X=Cl, Br. C(SiHMe2)4 is present as a single C1-symmetric conformer in solution at the temperatures at which the NMR experiments were performed.

    摘要 通过气体电子衍射(GED)确定了 C(SiXMe2)4(X=H、F、Cl、Br)分子的结构。Ab initio 计算揭示了每个物种的九个潜在最小值,其能量范围很大。对于 H、F、Cl 和 Br 衍生物,分别模拟了九种、七种、两种和两种构象,因为根据量子化学预测,这些构象的数量是可以测量的。报告了 C(SiXMe2)4(X=H、Cl、Br 和 I)的变温 1H 和 29Si 溶液相核磁共振研究,以及 13C 核磁共振、1H/29Si 核磁共振位移相关性和 1H 核磁共振饱和转移实验。在溶液中的低温条件下,C(SiXMe2)4(X=Cl、Br、I)各有两种构象(一种是 C1 对称构象,一种是 C2 对称构象),这与作为本研究的一部分对 X=Cl、Br 进行的孤立分子 ab initio 计算结果一致。
  • Reactions of (Me3Si)3CSiMe2R compounds (R = CHCH2 CH2CHCH2, CCPh, Ph, and CH2Ph) with electrophiles
    作者:Ramadan I. Damja、Colin Eaborn、Wing-Cheong Sham
    DOI:10.1016/0022-328x(85)80199-6
    日期:1985.8
    No products of addition to the multiple bond are formed in reactions of TsiSiMe2R species (Tsi = (Me3Si)3C; R = CHCH2, CH2CHCH2, or (CCPh) with halogens or hydrogen halides. TsiSiMe2CHCH2 gave (a) TsiSiMe2Cl on treatment with ICl in CCl4; (b) TsiSiMe2Br on treatment with Br2 in CCl4; (c) TsiSiMe2I (slowly) on treatment with I2 in CCl4 and (d) TsiSiMe2OCOCF3 on treatment with neat CF3CO2H. TsiSiMe2CH2CHCH2
    形成在TSiSiMe的反应除了多重键的没有产品2 - [R物种(TSI =(ME 3 Si)的3 C; R 1 =CHCH 2,CH 2 CHCH 2,或(CCPh)用卤素TSiSiMe 2 CH = CH 2产生(a)在CCl 4中用ICl处理的TSiSiMe 2 Cl ;(b)在CCl 4中用Br 2处理的TSiSiMe 2 Br ;(c)在TclSiMe 2 I(缓慢)用I 2在CCl 4和(d)TSiSiMe 2 OCOCF 3中进行处理上用纯CF治疗3 CO 2 H. TSiSiMe 2 CH 2 CHCH 2,得到:(1)TSiSiMe 2 Cl和TSiSiMe 2我与ICl的四氯化碳中处理4 ; (b)在CCl 4中用Br 2处理的TSiSiMe 2 Br ;(c)用CCl 2中的I 2处理的TSiSiMe 2 I ;及(d)TSiSiMe 2 OCOCF 3迅速上用纯CF治疗3
  • EABORN, C.;LICKISS, P. D., J. ORGANOMET. CHEM., 1985, 294, N 3, 305-313
    作者:EABORN, C.、LICKISS, P. D.
    DOI:——
    日期:——
  • DAMJA, R. I.;EABORN, C.;SHAM, WING-CHEONG, J. ORGANOMET. CHEM., 1985, 291, N 1, 25-33
    作者:DAMJA, R. I.、EABORN, C.、SHAM, WING-CHEONG
    DOI:——
    日期:——
  • AYOKO G. ADEFIKAYO; EABORN C., J. CHEM. SOC. PERKIN TRANS.,(1987) N 3, 381-383
    作者:AYOKO G. ADEFIKAYO、 EABORN C.
    DOI:——
    日期:——
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