| 189813-31-8

• CAS: 189813-31-8
• 化学式: C₁₅H₂₁Cl₃N₃Nb
• 分子量: 442.617
• InChiKey: LDGFATRWOJSMDJ-UHFFFAOYSA-K

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  None
• 重原子数：
  None
• 可旋转键数：
  None
• 环数：
  None
• sp3杂化的碳原子比例：
  None
• 拓扑面积：
  None
• 氢给体数：
  None
• 氢受体数：
  None

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  、 二甲胺 在 正丁基锂 作用下， 以 甲苯 为溶剂， 反应 6.0h， 生成
  参考文献：
  名称：

  유기금속화합물 및 이를 이용한 박막

  摘要：

  本发明的有机金属化合物及其用于薄膜的，具有高挥发性、优异的化学和热稳定性，同时在低温下也具有明显提高的薄膜沉积速度。此外，通过副产物的特性改善，具有优秀的平整覆盖性，并具有高介电常数，电学上等效氧化膜厚度（EOT），同时可以实现物理上不会发生隧道现象的薄膜厚度。

  公开号：

  KR102015283B1
• 作为产物：
  描述：

  吡啶 、 叔戊基胺 、 五氯化铌 在 三甲基氯硅烷 作用下， 以 甲苯 为溶剂， 反应 13.25h， 生成
  参考文献：
  名称：

  ORGANOMETALLIC COMPOUNDS AND THIN FILM USING SAME

  摘要：

  根据本发明的有机金属化合物和使用该化合物制造的薄膜，可以满足高挥发性和优异的化学/热稳定性要求，即使在低温下也表现出显著提高的薄膜沉积速率。此外，由副产物引起的性能退化可以得到改善，可以实现优异的阶梯覆盖，并且可以实现具有高介电常数的薄膜，电学上满足等效氧化物厚度（EOT）要求，同时具有不会发生隧穿的厚度。

  公开号：

  US20200407380A1

文献信息

• NIOBIUM-CONTAINING FILM FORMING COMPOSITIONS AND VAPOR DEPOSITION OF NIOBIUM-CONTAINING FILMS
  申请人：L'Air Liquide, Société Anonyme pour I'Etude et I'Exploitation des Procédés Georges Claude

  公开号：US20170298511A1

  公开（公告）日：2017-10-19

  Disclosed are Niobium-containing film forming compositions, methods of synthesizing the same, and methods of forming Niobium-containing films on one or more substrates via atomic layer deposition processes using the Niobium-containing film forming compositions.

  本文披露了含铌薄膜形成组合物、合成方法以及利用含铌薄膜形成组合物通过原子层沉积过程在一个或多个基板上形成含铌薄膜的方法。
• A General Route to Labile Niobium and Tantalum d⁰ Monoimides. Discussion of Metal−Nitrogen Vibrational Modes
  作者：Andrey V. Korolev、Arnold L. Rheingold、Darryl S. Williams

  DOI：10.1021/ic961360j

  日期：1997.6.1

  Reaction of TaCl5 with 2 equiv of an amine in the presence of sodium silicate and pyridine affords Ta(NR)Cl-3(py)(2) in good yield. Reaction of NbCl5 with ZnCl2 followed by addition of an amine RNH2 and pyridine affords M(NR)Cl-3(dme) (dme is 1,2-dimethoxyethane). For niobium this reaction proceeds smoothly regardless of the amine but is ineffective with tantalum and alkylamines. An alternative route involves reaction of TaCl5 with 3 equiv of RNH2 to form [RNH3](2)[Ta(NR)Cl-5], followed by reaction of this salt with ZnCl2 in the presence of dme. The molecular structure of Nb((NBu)-Bu-t)Cl-3(dme) (formula C8H19Cl3NNbO2) was determined by X-ray crystallography (monoclinic space group Cc with a 30.565(4) Angstrom, b = 7.2406(13) Angstrom, c = 13.915(2) Angstrom, beta = 90.626(7)degrees, V = 3079.4(8) Angstrom(3), Z = 8). The Nb-N bond length is 1.72 Angstrom with a Nb-N-C bond angle of 177 degrees in a distorted octahedral structure. In order to characterize the M-N stretching frequencies in these compounds, IR data for each compound are compared with calculated stretching frequencies using the commercially available Spartan calculation package. These experiments reveal that there is no real M-N stretching frequency in these imidos. Rather, the M-N modes are strongly coupled to N-C and C-H or C-C modes in these imidos. LR active modes are observed at similar to 1260 cm(-1) for tantalum alkyl imidos and similar to 1350 cm(-1) for tantalum aryl imidos. These correspond to a Ta-(N-C) stretch coupled to the CR3 umbrella deformation.