silicon diimide | 17022-99-0

• 分子结构分类: 无机化合物 - 混合金属/非金属化合物 - 各种混合金属/非金属
• 英文名称: silicon diimide
• 英文别名: siladiimide；silicium diimide；Siliciumdiimid；Silanediimine；diiminosilane
• CAS: 17022-99-0
• 化学式: H₂N₂Si
• 分子量: 58.1148
• InChiKey: KWMDDBBXHRAYMB-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  0.22
• 重原子数：
  3
• 可旋转键数：
  0
• 环数：
  0.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.0
• 拓扑面积：
  47.7
• 氢给体数：
  2
• 氢受体数：
  2

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  silicon diimide 以 neat (no solvent) 为溶剂， 生成 silicon nitrogen imide
  参考文献：
  名称：

  Gmelin Handbuch der Anorganischen Chemie, Gmelin Handbook: Si: MVol.B, 222, page 609 - 611

  摘要：

  DOI：
• 作为产物：
  描述：

  diamino thiosilane 以 neat (no solvent) 为溶剂， 生成 silicon diimide
  参考文献：
  名称：

  Blix, M., Chemische Berichte, 1903, vol. 36, p. 4218 - 4220

  摘要：

  DOI：

文献信息

• Lanthanum (Oxo)nitridosilicates: From Ordered to Disordered Crystal Structures
  作者：Dajana Durach、Wolfgang Schnick

  DOI：10.1002/zaac.201500730

  日期：2016.1

  32[Si60N96]F6.32O5.68 were synthesized at high temperature (1600/1500 °C) in a radio-frequency furnace. The crystal structures [Im (no. 217), Z = 1, a = 13.3360(10)/13.3258(10) A and V = 2371.8(5)/2366.4(5) A3] were solved and refined on basis of single-crystal X-ray diffraction data and were corroborated by lattice-energy calculations (Madelung part of lattice energy, MAPLE) powder X-ray diffraction data and

  同型化合物La16.32Ba1.82Sr7.86[Si60N92.32O3.68]O12和La13.68Sr12.32[Si60N96]F6.32O5.68在射频炉中在高温（1600/1500℃）下合成. 晶体结构[Im (no. 217), Z = 1, a = 13.3360(10)/13.3258(10) A and V = 2371.8(5)/2366.4(5) A3] 在单-晶体 X 射线衍射数据，并通过晶格能计算（Madelung 部分晶格能，MAPLE）粉末 X 射线衍射数据和 FTIR 光谱证实。它们由共享 SiN4-xOx 四面体的所有边角的三维网络组成。该框架的特点是双干燥环。La16.32Ba1.82Sr7.86[Si60N92.32O3.68]O12代表氧氮硅酸盐氧化物，La13.68Sr12.32[Si60N96]F6.32O5.68代表氮硅酸盐氟化物氧化物，因为晶体结构包含非缩合的
• Single-Crystal X-ray Diffraction and Electron Microprobe Analysis of the Structurally related J-Phases Nd4[Si2O5N2]O2, Nd4[Si2−xAlxO5+xN2−x]O2 with x ≈ 0.4 and SrxHo4−x[Si2−yAlyO5+(x+y)N2−(x+y)]O2 with x ≈ 0.2 and y ≈ 0.4
  作者：Alexandra Lieb、Robert Kraut、Wolfgang Schnick

  DOI：10.1002/zaac.200600057

  日期：2006.7

  The oxonitridosilicate Nd4[Si2O5N2]O2, and the oxonitridoaluminosilicates Nd4[Si2−xAlxO5+xN2−x]O2 with x ≈ 0.4 and SrxHo4−x[Si2−yAlyO5+(x+y)N2−(x+y)]O2 with x ≈ 0.2 and y ≈ 0.4 were obtained by the reaction of the lanthanide metals, silicon diimide “Si(NH)2” and additional SiO2, AlN and SrCO3, respectively. The reactions were performed in a radio-frequency furnace at temperatures between 1800 and 2100

  氧氮硅酸盐 Nd4 [Si2O5N2] O2 和氧氮氮铝硅酸盐 Nd4 [Si2 − xAlxO5 + xN2 − x] O2，x ≈ 0.4 和 SrxHo4 − x [Si2 − yAlyO5 + (x + y) N2− (x2 + y)] x ≈ 0.2 和 y ≈ 0.4 分别通过镧系金属、二亚胺硅“Si (NH) 2”和额外的 SiO2、AlN 和 SrCO3 的反应获得。反应在射频炉中在 1800 至 2100°C 的温度下进行。三种化合物的晶体结构经单晶X射线衍射测定(P21/c, no.14, Z = 4; Nd4 [Si2O5N2] O2: a = 7.8577 (8) A, b = 10.7793 (12) A, c = 11.0163 (12) A, β = 110.759 (11) °, R1 = 0.0752; Nd4 [Si2 − xAlxO5 + xN2 − x]
• Orange-Emitting Li₄Sr₄[Si₄O₄N₆]O:Eu²⁺—a Layered Lithium Oxonitridosilicate Oxide
  作者：Robin Niklaus、Lukas Neudert、Juliane Stahl、Peter J. Schmidt、Wolfgang Schnick

  DOI：10.1021/acs.inorgchem.8b02391

  日期：2018.11.19

  We report on the structure and properties of the lithium oxonitridosilicate oxide Li4Sr4[Si4O4N6]O:Eu2+ obtained from solid-state metathesis. The crystal structure was solved and refined from single-crystal X-ray data in the space group P42/nmc (No. 137) [Z = 2, a = 7.4833(6), c = 9.8365(9) Å, and R1(obs) = 0.0477]. The structure of Li4Sr4[Si4O4N6]O:Eu2+ is built up from a layered 2D network of SiN3O

  我们报告了从固态复分解获得的氧代三三氧化硅锂Li 4 Sr 4 [Si 4 O 4 N 6 ] O：Eu 2+的结构和性能。从空间组P 4 2 / nmc（No. 137）中的单晶X射线数据解析并精炼了晶体结构[ Z = 2，a = 7.4833（6），c = 9.8365（9）Å，和R 1（obs）= 0.0477]。Li 4 Sr 4 [Si 4 O 4 N 6 ] O：Eu 2+的结构由SiN 3 O四面体的2D分层网络构成，并显示出堆垛无序。透射电子显微镜和能量色散X射线光谱以及晶格能量，电荷分布和密度泛函理论（DFT）计算支持了该结果。光学测量表明，间接带隙约为3.6 eV，而在没有堆垛层错的模型上进行DFT计算得出的理论电子带隙为4.4 eV。掺杂有Eu样品2+在橙色光谱范围内表现出致发光（λ EM ≈625纳米;在一半最大值处≈4164厘米全宽-1; 室温下的内部量子效率=
• Das reduzierte Nitridosilicat BaSi6N8
  作者：Florian Stadler、Wolfgang Schnick

  DOI：10.1002/zaac.200600356

  日期：2007.4

  Z = 2, wRp = 0.0353, Rp = 0.0238, RF2 = 0.0660, 452 observed reflections, 42 parameters). BaSi6N8 crystallizes isotypically with SrSi6N8. The three-dimensional Si-N-network consists of corner-sharing SiN4 tetrahedra and single bonds Si-Si forming N3Si-SiN3 building units. 29Si solid-state NMR spectra of BaSi6N8 resemble those of SrSi6N8 exhibiting two resonances at δ = −54.3 and −28.0 ppm. Their observed

  还原型氮化硅酸盐 BaSi6N8 还原型氮化硅酸盐 BaSi6N8 已在约 1650 °C 的射频炉中以氮化钡和二亚胺硅为原料合成。结构已从 X 射线粉末衍射数据确定，并通过 Rietveld 方法（Imm2 (no. 44), a = 793.16(1), b = 934.37(2), c = 483.57(1) pm, V = 358.38(1) ·106 pm3, Z = 2, wRp = 0.0353, Rp = 0.0238, RF2 = 0.0660, 452 个观测反射，42 个参数）。BaSi6N8 与 SrSi6N8 同型结晶。三维 Si-N 网络由共享角的 SiN4 四面体和单键 Si-Si 组成，形成 N3Si-SiN3 构建单元。BaSi6N8 的 29Si 固态 NMR 光谱类似于 SrSi6N8 的那些，在 δ = -54.3 和 -28.0 ppm 处表现出两个共振。他们观察到的强度比约为
• HP‐CaSiN ₂ – A New High‐Pressure Modification
  作者：Cordula Braun、Helmut Ehrenberg、Wolfgang Schnick

  DOI：10.1002/ejic.201701397

  日期：2018.3.7

  phase CaSiN2. Structure solution and Rietveld refinement were started with the cell parameters of HP-CaSiN2 determined by selected area electron diffraction (SAED). The crystal structure of the high-pressure phase was refined in space group Pbca (no. 61) with a = 5.1296(2), b = 10.2993(2), c = 14.5442(3) angstrom, V = 768.39 angstrom(3), Z = 16, R-Bragg = 0.0484, R-w = 0.0256 and GoF = 1.0. HP-CaSiN2

  HP-CaSiN2 是从环境压力相 CaSiN2 开始，利用多砧技术（4.5 至 18 GPa，900 至 1200 摄氏度）通过 HP/HT（高压/高温）合成获得的。结构求解和 Rietveld 精修从通过选区电子衍射 (SAED) 确定的 HP-CaSiN2 的电池参数开始。高压相的晶体结构在空间群 Pbca (no. 61) 中精修，a = 5.1296(2), b = 10.2993(2), c = 14.5442(3) 埃, V = 768.39 埃(3) , Z = 16, R-Bragg = 0.0484, Rw = 0.0256 和 GoF = 1.0。HP-CaSiN2 由具有 N 桥接的顶点共享 SiN4-四面体的三维氮化硅酸盐网络构成。HP-CaSiN2 中顶点连接的四面体的排列，与 KGaO2 同构，是填充方石英型框架的倾斜变形。由于高压，SiN4-四面体的倾斜角变