neopentasilane | 15947-57-6

• 分子结构分类: 无机化合物 - 混合金属/非金属化合物 - 各种混合金属/非金属
• 英文名称: neopentasilane
• 英文别名: 2,2-disilyltrisilane；2,2-Disilyltrisilane；tetrasilylsilane
• CAS: 15947-57-6
• 化学式: H₁₂Si₅
• 分子量: 152.523
• InChiKey: XFPJTCMBFSZPEX-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 沸点：
  132-134°C
• 溶解度：
  与H2O反应

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  -5.12
• 重原子数：
  5
• 可旋转键数：
  0
• 环数：
  0.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.0
• 拓扑面积：
  0
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  0

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  neopentasilane 以 gaseous matrix 为溶剂， 生成 硅烷
  参考文献：
  名称：

  新戊硅烷低温化学气相沉积获得超高生长率的外延硅

  摘要：

  前体新戊硅烷用于在 700°C 下通过化学气相沉积以非常高的增长率生产高质量的硅树脂。从二次离子质谱和横截面透射电子显微镜确定低背景掺杂浓度和优良的晶体质量。已实现在 600°C 下高达 130 nm ∕ min 的生长速率。新戊硅烷在氮气和氢气环境中的生长速率大致相等，这与低阶硅烷的生长速率不同。在吸附原子的同时产生开放位点的协同反应被认为是新戊硅烷的高生长速率以及氢和氮载体的相似速率的可能机制。

  DOI：

  10.1063/1.2897325
• 作为产物：
  描述：

  在 germyl triflate 作用下， 以 乙醚 为溶剂， 反应 1.0h， 生成 neopentasilane
  参考文献：
  名称：

  锗硅氢化物的选择性合成和衍生化

  摘要：

  Si / Ge混合氢化物Si x Ge y H z是用于沉积二元Si-Ge合金的有价值的前体。这项工作描述了以前未知的胚芽四硅烷Ph 3 GeSi（SiH 3）3（2）的合成和完整表征，该反应是通过硅烷化锂LiSi（SiH 3）3与Ph 3 GeCl的反应进行的。研究了Si-Ge键在2种亲电试剂和亲核试剂中的稳定性，其主要目的是开发新的混合硅-H-锗烷（H 3 Ge）x Si（SiH）的方法3）4– x。在1个当量的MeLi的作用下，2个在一个Si-Si键断裂的情况下干净地反应，得到Ph 3 GeSi（SiH 3）2 Li，这是进一步衍生化的有价值的合成子。相反，2与1或2当量的CF 3 SO 3 H / i Bu 2 AlH的脱苯反应进行的选择性降低得多，从而获得了所需的Ph / H-锗硅烷Ph 2 HGeSi（SiH 3）3和PhH 2 GeSi（ SiH 3）3 以及大量的Si-Ge分裂产物。

  DOI：

  10.1021/acs.inorgchem.6b00349
• 作为试剂：
  描述：

  对甲苯磺酸甲酯 在 isotetrasilanyllithium 、 neopentasilane 、 lithium diisopropyl amide 作用下， 以 乙醚 为溶剂， 以36%的产率得到2-Methylisotetrasilan
  参考文献：
  名称：

  碱金属硅化物MSi（SiH3）3的选择性合成和衍生化

  摘要：

  硅谷的问候：碱金属硅化物（H 3 Si）3 Si - M +通过新戊硅烷Si（SiH 3）4与t BuOM或i Pr 2 NLi的反应首次被选择性访问。该方法可以方便地将高级氢化硅衍生化，并为进行关于水基聚硅烷化学行为的前所未有的系统研究提供了简单的途径（请参阅方案）。

  DOI：

  10.1002/chem.201201253

文献信息

• Synthesis and Properties of Branched Hydrogenated Nonasilanes and Decasilanes
  作者：Viktor Christopoulos、Markus Rotzinger、Maik Gerwig、Jürgen Seidel、Edwin Kroke、Michael Holthausen、Odo Wunnicke、Ana Torvisco、Roland Fischer、Michael Haas、Harald Stueger

  DOI：10.1021/acs.inorgchem.9b01204

  日期：2019.7.1

  absorption compared to neopentasilane and the structurally related octasilane (H3Si)3SiSi(SiH3)3. TG–MS analysis elucidated increased decomposition temperatures and decreased ceramic yields for branched hydrosilanes relative to cyclopentasilane. Otherwise, very similar thermal properties were observed for hydrosilane oligomers with linear and branched structures.

  最近发现，n＞ 6的支化高级氢化硅Si n H 2 n +2是用于硅膜液相沉积的极好的前体。本文我们报告的新颖九-和decasilanes（H的克级合成3 Si）的3的Si硅烷（SiH 2）ñ的Si硅烷（SiH 3）3（2：Ñ = 1，5：Ñ = 2）从（H 3 Si）3 SiLi和Cl（SiPh 2）n通过组合的盐消除/脱苯/加氢方法制得Cl。通过NMR光谱和X射线晶体学进行靶分子的结构阐明。与新戊硅烷和结构上相关的八硅烷（H 3 Si）3 SiSi（SiH 3）3相比，图2和图5是非发火的，并且表现出红移的紫外吸收。TG-MS分析表明，相对于环戊硅烷，支链氢化硅烷的分解温度升高，陶瓷产率降低。否则，对于具有直链和支链结构的氢硅烷低聚物，观察到非常相似的热性能。
• [EN] 2,2,4,4- TETRASILYLPENTASILANE AND ITS COMPOSITIONS, METHODS AND USES<br/>[FR] 2,2,4,4-TÉTRASILYLPENTASILANE ET SES COMPOSITIONS, PROCÉDÉS ET UTILISATIONS
  申请人：DOW CORNING

  公开号：WO2015034855A1

  公开（公告）日：2015-03-12

  A compound that is 2,2,4,4-tetrasilylpentasilane, chemical compositions comprising same, methods of making and purifying 2,2,4,4-tetrasilylpentasilane, the purified 2,2,4,4- tetrasilylpentasilane prepared thereby, and methods of forming silicon-containing materials using 2,2,4,4-tetrasilylpentasilane as a precursor.

  这是一种化合物，即2,2,4,4-四硅基戊硅烷，包括该化合物的化学成分，制备和纯化2,2,4,4-四硅基戊硅烷的方法，由此制备的纯化2,2,4,4-四硅基戊硅烷，以及使用2,2,4,4-四硅基戊硅烷作为前体制备含硅材料的方法。
• Selective Synthesis of 2,2,4,4-Tetrasilylpentasilane
  作者：Xiaobing Zhou、Noel Chang、Jeanette Young、Xianghuai Wang

  DOI：10.1021/acs.inorgchem.9b01960

  日期：2019.10.7

  (H3Si)3SiSiH2Si(SiH3)3, is formed in disproportionational condensation of neopentasilane. This reaction can be catalyzed by a freshly cleaned borosilicate surface, and the catalyzed reaction can have over 85% selectivity for this branched nonasilane near 100 °C. A synthetic method has been developed from this catalytic reaction for making 98 wt % 2,2,4,4-tetrasilylpentasilane. The high-purity 2,2,4,4-tetrasilylpentasilane

  在新戊硅烷不成比例的缩合反应中，形成了一种新的壬硅烷结构异构体，即2,2,4,4-四甲硅烷基五硅烷或（H 3 Si）3 SiSiH 2 Si（SiH 3）3。该反应可以通过新近清洁的硼硅酸盐表面进行催化，并且在接近100°C时，该催化反应对于该支链九烷基硅烷的选择性可超过85％。从该催化反应中已经开发出一种合成方法，用于制备98重量％的2,2,4,4-四甲硅烷基五硅烷。高纯度的2,2,4,4-四甲硅烷基五硅烷在316不锈钢容器中的货架寿命很长。
• Branched Hydrosilane Oligomers as Ideal Precursors for Liquid-Based Silicon-Film Deposition
  作者：Michael Haas、Viktor Christopoulos、Judith Radebner、Michael Holthausen、Thomas Lainer、Lukas Schuh、Harald Fitzek、Gerald Kothleitner、Ana Torvisco、Roland Fischer、Odo Wunnicke、Harald Stueger

  DOI：10.1002/anie.201707525

  日期：2017.11.6

  Proton‐coupled 29Si NMR spectroscopy and single‐crystal X‐ray crystallography enabled unequivocal structural assignment. Owing to their unique properties, which are reflected in their nonpyrophoric character on contact with air and their enhanced light absorption above 250 nm, 3 and 4 are valuable precursors for liquid‐phase deposition (LPD) and the processing of thin silicon films. Amorphous silicon (a‐Si:H) films

  本文提出了一种方便的合成方法，以克为单位获得2,2,3,3-四甲硅烷基四硅烷3和2,2,3,3,3,4,4-六甲硅烷基五硅烷4。质子耦合的29 Si NMR光谱和单晶X射线晶体学使得结构明确。由于其独特的性能，反映在与空气接触时的非发火特性和250 nm以上的增强的光吸收性能，使3和4成为液相沉积（LPD）和处理硅薄膜的宝贵前体。从3开始沉积高质量的非晶硅（a-Si：H）膜 并通过电导率测量，椭偏，光学显微镜和拉曼光谱进行表征。
• Syntheses and Molecular Structures of Liquid Pyrophoric Hydridosilanes
  作者：Maik Gerwig、Uwe Böhme、Mike Friebel、Franziska Gründler、Georg Franze、Marco Rosenkranz、Horst Schmidt、Edwin Kroke

  DOI：10.1002/open.202000152

  日期：2020.7

  the silanes compared to the corresponding alkanes. Radiation with ultraviolet light (365 nm) and parallel ESR (EPR) measurement shows that cyclohexasilane is easily split into radicals, which subsequently leads to the formation of branched and chain‐like oligomers. The other compounds form no radicals under these conditions. NMR spectra of all four compounds have been recorded.

  丙硅烷、异四硅烷、新戊硅烷和环己硅烷已以克级制备。这些自燃液体在衍射仪上的密封毛细管中进行原位冷冻结晶，可以了解这些化合物的单晶结构。讨论了结构参数，并将其与文献中的气相电子衍射结构以及量子化学计算的结果进行了比较。与相应的烷烃相比，硅烷的堆积指数明显更高。紫外光（365 nm）辐射和平行ESR（EPR）测量表明，环己硅烷很容易分裂成自由基，从而导致支化和链状低聚物的形成。其他化合物在这些条件下不形成自由基。所有四种化合物的核磁共振谱均已记录。