i-Si4Cl10 | 50683-29-9

• 英文名称: i-Si4Cl10
• 英文别名: trichloro-[chloro-bis(trichlorosilyl)silyl]silane
• CAS: 50683-29-9
• 化学式: Cl₁₀Si₄
• 分子量: 466.872
• InChiKey: CWUSHZRRNFYNMN-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  5.37
• 重原子数：
  14.0
• 可旋转键数：
  3.0
• 环数：
  0.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.0
• 拓扑面积：
  0.0
• 氢给体数：
  0.0
• 氢受体数：
  0.0

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  i-Si4Cl10 在 二异丁基氢化铝 作用下， 反应 9.0h， 生成 isotetrasilane
  参考文献：
  名称：

  液体发火氢化硅烷的合成和分子结构。

  摘要：

  丙硅烷、异四硅烷、新戊硅烷和环己硅烷已以克级制备。这些自燃液体在衍射仪上的密封毛细管中进行原位冷冻结晶，可以了解这些化合物的单晶结构。讨论了结构参数，并将其与文献中的气相电子衍射结构以及量子化学计算的结果进行了比较。与相应的烷烃相比，硅烷的堆积指数明显更高。紫外光（365 nm）辐射和平行ESR（EPR）测量表明，环己硅烷很容易分裂成自由基，从而导致支化和链状低聚物的形成。其他化合物在这些条件下不形成自由基。所有四种化合物的核磁共振谱均已记录。

  DOI：

  10.1002/open.202000152
• 作为产物：
  描述：

  八氯三硅烷 在 Na(Si-t-Bu₃) 作用下， 以 benzene 为溶剂， 生成 i-Si4Cl10 、 四(三氯甲硅烷基)硅烷 、 1,1,1,2,2,4,4,4-octachloro-3,3-bis(trichlorosilyl)tetrasilane 、 六氯乙硅烷
  参考文献：
  名称：

  维贝格的Tetrasilatetrahedrane合成（吨卜3 Si）的4的Si 4通过单罐方法

  摘要：

  通过HSiCl 3与Na [Si t Bu 3 ]的反应，可以一锅合成四硅四面体（t Bu 3 Si）4 Si 4。在该反应中，获得了硅烷t Bu 3 SiH以及（t Bu 3 Si）4 Si 4和t Bu 3 SiSi t Bu 3。四硅四面体（t Bu 3 Si）4 Si 4通过一锅法，用Na [Si t Bu 3 ]处理Cl 3 SiSiCl 3或Cl 3 SiSiCl 2 SiCl 3，也获得了一氧化碳。在HSiCl 3与Na [Si t Bu 3 ]的反应中，两分子四硅四面体（t Bu 3 Si）4 Si 4与一分子t Bu 3 SiSi t Bu 3和一分子苯一起结晶。适用于X-射线衍射的单晶组成的（一个分子的吨通过从苯重结晶获得Bu 3 Si）4 Si 4和两个苯分子。

  DOI：

  10.1021/om900763y
• 作为试剂：
  描述：

  四丁基氯化铵 在 i-Si4Cl10 作用下， 以 二氯甲烷 为溶剂， 以35%的产率得到bis(tetra-n-butylammonium) dodecachlorocyclohexasilane bis(chloride)
  参考文献：
  名称：

  液体发火氢化硅烷的合成和分子结构。

  摘要：

  丙硅烷、异四硅烷、新戊硅烷和环己硅烷已以克级制备。这些自燃液体在衍射仪上的密封毛细管中进行原位冷冻结晶，可以了解这些化合物的单晶结构。讨论了结构参数，并将其与文献中的气相电子衍射结构以及量子化学计算的结果进行了比较。与相应的烷烃相比，硅烷的堆积指数明显更高。紫外光（365 nm）辐射和平行ESR（EPR）测量表明，环己硅烷很容易分裂成自由基，从而导致支化和链状低聚物的形成。其他化合物在这些条件下不形成自由基。所有四种化合物的核磁共振谱均已记录。

  DOI：

  10.1002/open.202000152