三碘硅烷 | 13465-72-0

• 分子结构分类: 无机化合物 - 混合金属/非金属化合物 - 类金属盐
• 中文名称: 三碘硅烷
• 英文名称: triiodo silane
• 英文别名: Triiodosilane
• CAS: 13465-72-0
• 化学式: HI₃Si
• 分子量: 409.807
• InChiKey: DNAPJAGHXMPFLD-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 熔点：
  8°C
• 沸点：
  decomposes at 220℃ [CIC73]
• 密度：
  3.314 (20°C) [CRC10]

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  2.01
• 重原子数：
  4
• 可旋转键数：
  0
• 环数：
  0.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.0
• 拓扑面积：
  0
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  0

制备方法与用途

制备方法

SiH₄ + HI → SiHI₃ + SiH₂I₂ + SiH₃I + SiI₄ 在AlI₃存在下，将SiH₄和HI加热至80℃，可以制得SiHI₃、SiH₂I₂、SiH₃I和SiI₄。

合成制备方法

SiH₄ + HI → SiHI₃ + SiH₂I₂ + SiH₃I + SiI₄ 在AlI₃存在下，将SiH₄和HI加热至80℃，可以制得SiHI₃、SiH₂I₂、SiH₃I和SiI₄。

用途简介

（此处为空，没有具体内容）

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  三碘硅烷 以 neat (no solvent) 为溶剂， 生成 silica gel
  参考文献：
  名称：

  Ruff, O., Chemische Berichte, 1908, vol. 41, p. 3738 - 3744

  摘要：

  DOI：
• 作为产物：
  描述：

  氢碘酸 、 硅烷 以 neat (no solvent) 为溶剂， 生成 三碘硅烷
  参考文献：
  名称：

  Buff, H.; Woehler, F., Annales de Chimie et de Physique, 1858, vol. 52, p. 257 - 285

  摘要：

  DOI：
• 作为试剂：
  描述：

  silver thiocyanate 在 三碘硅烷 作用下， 以 苯 为溶剂， 生成 Silizium-tri-isothiocyanat
  参考文献：
  名称：

  New isocyanato- and isothiocyanatosilanes

  摘要：

  DOI：

  10.1007/bf00912606

文献信息

• New Iodine and Fluorine Derivatives of Monosilane
  作者：A. G. MADDOCK、C. REID、H. J. EMELUS

  DOI：10.1038/144328a0

  日期：1939.8

  WE have recently investigated the reaction between monosilane, SiH1, and hydrogen iodide at 80° in the presenco of aluminium iodide, and have isolated from the products two stable iodides of the formulæ SiH2I2 and SiH3I, which are formed together with silico-iodoform and silicon tetraiodide. the former is a heavy colourless liquid of low volatility (vapour pressure 2–3 mm. at 0°), while the monoiodido

  我们最近研究了甲硅烷、SiH1 和碘化氢在 80° 碘化铝中的反应，并从产物中分离出两种稳定的碘化物，形式为 SiH2I2 和 SiH3I，它们与碘化硅和硅一起形成四碘化物。前者是一种低挥发性的重无色液体（0°时蒸气压2-3mm），而一碘化物是沸点45.8°，熔点-56.5°的液体，外观类似于碘甲烷。
• PREPARATION OF TRIIODOSILANES
  申请人：ENTEGRIS, INC.

  公开号：US20200181178A1

  公开（公告）日：2020-06-11

  Provided is a process for preparing certain silane precursor compounds, e.g., triiodosilane from trichlorosilane utilizing lithium iodide in powder form and catalyzed by tertiary amines. The process provides triiodosilane in high yields and high purity. Triiodosilane is a precursor compound useful in the atomic layer deposition of silicon onto various microelectronic device structures.

  提供了一种制备某些硅烷前体化合物的过程，例如，利用粉末状的碘化锂催化三氯硅烷制备三碘硅烷。该过程提供高产率和高纯度的三碘硅烷。三碘硅烷是一种有用的前体化合物，可用于在各种微电子器件结构上进行原子层沉积硅。
• Gmelin Handbuch der Anorganischen Chemie, Gmelin Handbook: Co: Org.Verb.1, 1.1.4.5.2.1.1, page 115 - 118
  作者：

  DOI：——

  日期：——
• Gmelin Handbuch der Anorganischen Chemie, Gmelin Handbook: F: PerFHalOrg.SVol.3, 6.3.2, page 215 - 245
  作者：

  DOI：——

  日期：——
• 68. Derivatives of monosilane. Part II. The iodo-compounds
  作者：H. J. Emeléus、A. G. Maddock、C. Reid

  DOI：10.1039/jr9410000353

  日期：——