二氯(二碘)硅烷 | 13977-54-3

• 分子结构分类: 无机化合物 - 混合金属/非金属化合物 - 类金属盐
• 中文名称: 二氯(二碘)硅烷
• 英文名称: diiododichlorosilane
• 英文别名: Dichloro(diiodo)silane
• CAS: 13977-54-3
• 化学式: Cl₂I₂Si
• 分子量: 352.801
• InChiKey: KXDPGULGDXGELM-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 密度：
  2.829±0.06 g/cm3(Predicted)

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  2.77
• 重原子数：
  5
• 可旋转键数：
  0
• 环数：
  0.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.0
• 拓扑面积：
  0
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  0

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  二氯(二碘)硅烷 在 吡啶 作用下， 以 氯仿 为溶剂， 以10%的产率得到碘化硅(IV)
  参考文献：
  名称：

  Hass, D.; Bechstein, O., Zeitschrift fur Anorganische und Allgemeine Chemie

  摘要：

  DOI：
• 作为产物：
  描述：

  iodo trichloro silane 、 氢碘酸 以 neat (no solvent) 为溶剂， 生成 二氯(二碘)硅烷
  参考文献：
  名称：

  Besson, A., Comptes Rendus Hebdomadaires des Seances de l'Academie des Sciences, 1891, vol. 112, p. 611 - 614

  摘要：

  DOI：

文献信息

• Kinetics and mechanism of the gas phase thermal decomposition of hexachlorodisilane in the presence of iodine
  作者：Alan M. Doncaster、Robin Walsh

  DOI：10.1039/f19807600272

  日期：——

  The gas phase thermal reaction of Si2Cl6 with I2 has been investigated. Product analysisreveals the formation of SiCl4 and SiCl2I2. The reaction rate was found to obey the rate equation –d[I2]//dt=k[Si2Cl6] and values of k were insensitive to changes in surface-to-volume ratio. This evidence suggests the following two step mechanism Si2Cl6→ SiCl2+ SiCl4 slow (1), SiCl2+ I2→ SiCl2I2 fast. (2) From rate

  已经研究了Si 2 Cl 6与I 2的气相热反应。产物分析揭示了SiCl 4和SiCl 2 I 2的形成。发现反应速率服从速率方程式–d [I 2 ] // d t＝k [Si 2 Cl 6 ]，k的值对表面体积比的变化不敏感。该证据表明以下两步机理为Si 2 Cl 6 →SiCl 2 + SiCl 4慢（1），SiCl 2 + I 2 →SiCl 2 I 2快。（2）根据在596–655 K温度范围内的速率测量得出的Arrhenius方程。log（k 1 / s –1）=（13.49±0.12）–（205.9±1.4 kJ mol –1）/ R T获得ln 10。这些数字与在没有清除剂的情况下对该反应的早期流动研究一致。已对其他清除剂的作用进行了简要调查。
• Gmelin Handbuch der Anorganischen Chemie, Gmelin Handbook: I: MVol.2, 20, page 288 - 291
  作者：

  DOI：——

  日期：——
• Gmelin Handbuch der Anorganischen Chemie, Gmelin Handbook: Si: MVol.B, 275, page 742 - 743
  作者：

  DOI：——

  日期：——
• Besson, A., Comptes Rendus Hebdomadaires des Seances de l'Academie des Sciences, 1891, vol. 112, p. 1314 - 1316
  作者：Besson, A.

  DOI：——

  日期：——
• Redistribution Reactions in the Halides of Carbon, Silicon, Germanium and Tin
  作者：George S. Forbes、Herbert H. Anderson

  DOI：10.1021/ja01234a027

  日期：1944.6