| 875479-73-5

• CAS: 875479-73-5
• 化学式: C₁₃H₂₅CuN₂Si
• 分子量: 300.986
• InChiKey: RJPAXMXOGNUBKL-AQTVDGORSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  None
• 重原子数：
  None
• 可旋转键数：
  None
• 环数：
  None
• sp3杂化的碳原子比例：
  None
• 拓扑面积：
  None
• 氢给体数：
  None
• 氢受体数：
  None

反应信息

• 作为产物：
  描述：

  四(乙腈)三氟甲磺酸铜(I) 、 乙烯基三甲基硅烷 、 ((1Z)-1-methyl-2-(1-pyrrolin-2-yl)vinyl)methylamine 在 叔丁基锂 作用下， 以 not given 为溶剂， 以90%的产率得到
  参考文献：
  名称：

  Nonfluorinated Volatile Copper(I) 1,3-Diketiminates as Precursors for Cu Metal Deposition via Atomic Layer Deposition

  摘要：

  Novel nonfluorinated Cu(diketiminate) L complexes with L = neutral olefinic ligand have been prepared as stable, volatile Cu( I) precursors for the deposition of copper films by an atomic layer deposition (ALD) process. Among them, the complexes of 4-a and 5-a are the most volatile and stable at low temperature (55 degrees C). A clean, conformal copper film was deposited at 120 degrees C in an ALD process. These Cu(I) complexes are the first examples of nonfluorinated copper(I) diketiminates that can be readily applied to an industrial microelectronic fabrication process.

  DOI：

  10.1021/ic061016e