| 204975-00-8

• CAS: 204975-00-8
• 化学式: C₇H₈*C₂₇H₄₃ClP₃RhSi
• 分子量: 719.144
• InChiKey: TWKUHYPWGJQFLW-UHFFFAOYSA-M

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  None
• 重原子数：
  None
• 可旋转键数：
  None
• 环数：
  None
• sp3杂化的碳原子比例：
  None
• 拓扑面积：
  None
• 氢给体数：
  None
• 氢受体数：
  None

反应信息

• 作为产物：
  描述：

  [Rh(trimethylphosphine)3]Cl 、 甲苯 、 三苯基硅烷 以 正戊烷 为溶剂， 以21%的产率得到
  参考文献：
  名称：

  氯（三芳基甲硅烷基）氢化铑（III）配合物的异构体，mer -RhCl（H）（SiAr 3）（PMe 3）3。它们的结构与ClSiAr 3还原消除的相关性

  摘要：

  的RhCl（PME 3）3层发生反应以HSiPh 3，得到聚体-RhCl（H）（SIPH 3）（PME 3）3（1），其X射线结构显示八面体配位与周围反式氯上的Rh（III）中心，并三苯基甲硅烷基配体。HSi（C 6 H 4 CF 3 - p）3与RhCl（PMe 3）3反应，得到Rh（III）配合物mer -RhCl（H）{Si（C 6 H 4 CF 3 - p）3的混合物}（PMe 3）3（2），fac -RhH 2 {Si（C 6 H 4 CF 3 - p）3 }（PMe 3）3（3）和顺式，mer -RhCl 2（H）（PMe 3）3（4）的相对量取决于具体的反应条件。X射线晶体学分析表明2（Si 6 C 4 H 4 CF 3 - p）3配体对于H和Cl配体都是顺式的。2和1的不同化学反应性表明，顺式构型对于从配合物中还原消除HSiAr 3和ClSiAr 3至关重要。

  DOI：

  10.1021/om970846k