PhC(NtBu)22(Cl)Si*W(CO)5 | 1356004-93-7

• 英文名称: PhC(NtBu)22(Cl)Si*W(CO)5
• CAS: 1356004-93-7
• 化学式: C₂₀H₂₃ClN₂O₅SiW
• 分子量: 618.802
• InChiKey: HBXODZYLNFTRKA-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  None
• 重原子数：
  None
• 可旋转键数：
  None
• 环数：
  None
• sp3杂化的碳原子比例：
  None
• 拓扑面积：
  None
• 氢给体数：
  None
• 氢受体数：
  None

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  PhC(NtBu)22(Cl)Si*W(CO)5 、 三甲基氟锡烷 以 四氢呋喃 为溶剂， 以87.5%的产率得到PhC(NtBu)22(F)Si*W(CO)5
  参考文献：
  名称：

  低价氟化硅在过渡金属配位球中的稳定性

  摘要：

  氟化硅（II）不稳定；因此，稳定物种的分离极具挑战性，并且在过去 45 年中并未成功。SiF(2) 通常在非常高的温度 (~1100-1200 °C) 和低压下在气相中生成，并且容易歧化或聚合。我们通过硅 (II) 与过渡金属羰基化合物的配位完成了稳定的氟化硅 (II) 物种的合成。制备了氟化硅 (II) 化合物 L(F)Si·M(CO)(5) {M = Cr (4), Mo (5), W(6)} (L = PhC(NtBu)(2))通过相应氯化物与 Me(3)SnF 的复分解反应。然而，氯化物衍生物 L(Cl)Si·M(CO)(5) {M = Cr (1), Mo (2), W(3)} (L = PhC(NtBu)(2)) 是通过以下方法制备的用 L(Cl)Si 处理过渡金属羰基化合物。L(Cl)Si 与 Me(3)SnF 的直接氟化导致氧化加成产物。化合物4-6在氮气惰性气氛下在环境温

  DOI：

  10.1021/ja210697p
• 作为产物：
  描述：

  四氢呋喃 、 N,N′-di-tertbutyl(phenylamidinato)chlorosilylene 、 六羰基钨 以 四氢呋喃 为溶剂， 以85.2%的产率得到PhC(NtBu)22(Cl)Si*W(CO)5
  参考文献：
  名称：

  低价氟化硅在过渡金属配位球中的稳定性

  摘要：

  氟化硅（II）不稳定；因此，稳定物种的分离极具挑战性，并且在过去 45 年中并未成功。SiF(2) 通常在非常高的温度 (~1100-1200 °C) 和低压下在气相中生成，并且容易歧化或聚合。我们通过硅 (II) 与过渡金属羰基化合物的配位完成了稳定的氟化硅 (II) 物种的合成。制备了氟化硅 (II) 化合物 L(F)Si·M(CO)(5) {M = Cr (4), Mo (5), W(6)} (L = PhC(NtBu)(2))通过相应氯化物与 Me(3)SnF 的复分解反应。然而，氯化物衍生物 L(Cl)Si·M(CO)(5) {M = Cr (1), Mo (2), W(3)} (L = PhC(NtBu)(2)) 是通过以下方法制备的用 L(Cl)Si 处理过渡金属羰基化合物。L(Cl)Si 与 Me(3)SnF 的直接氟化导致氧化加成产物。化合物4-6在氮气惰性气氛下在环境温

  DOI：

  10.1021/ja210697p