chloro(l2-germyl)silane | 945268-09-7

• 分子结构分类: 无机化合物 - 混合金属/非金属化合物 - 类金属盐
• 英文名称: chloro(l2-germyl)silane
• CAS: 945268-09-7
• 化学式: ClGeH₅Si
• 分子量: 141.168
• InChiKey: VVQSDWXZOFPUID-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  -1.41
• 重原子数：
  3.0
• 可旋转键数：
  0.0
• 环数：
  0.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.0
• 拓扑面积：
  0.0
• 氢给体数：
  0.0
• 氢受体数：
  0.0

反应信息

• 作为产物：
  描述：

  germylsilyl trifluoromethanesulfonate 、 cesium chloride 以 癸烷 为溶剂， 以56%的产率得到chloro(l2-germyl)silane
  参考文献：
  名称：

  用于 CMOS 兼容半导体应用的 ClnH6-nSiGe 化合物：合成和基础研究

  摘要：

  我们描述了基于化学式 ClnH6-nSiGe 的新型氯化硅锗氢化物家族的合成。H3SiGeH3 的选择性受控氯化是通过与 BCl3 反应生成 ClH2SiGeH3 (1) 和 Cl2HSiGeH3 (2) 来实现的。这代表了一种可行的单步路线，以用于半导体应用的商业产量获得目标化合物。内置的 Cl 功能专门设计用于促进与 CMOS 处理兼容的选择性生长。更高级的多氯化衍生物，如 Cl2SiHGeH2Cl (3)、Cl2SiHGeHCl2 (4)、ClSiH2GeH2Cl (5) 和 ClSiH2GeHCl2 (6) 也首次被生产，导致了一类新的高反应性 Si-Ge 化合物和实际利益。化合物 1-6 通过物理和光谱方法表征，包括 NMR、FTIR、和质谱。结果与第一性原理密度泛函理论相结合，用于阐明 ClnH6-nSiGe 整个序列的结构、热化学和振动趋势，并深入了解反应动力学对产物中 Cl

  DOI：

  10.1021/ja0713680

文献信息

• Cl<i>_n</i>H_6-<i>_n</i>SiGe Compounds for CMOS Compatible Semiconductor Applications:  Synthesis and Fundamental Studies
  作者：Jesse B. Tice、Andrew V. G. Chizmeshya、Radek Roucka、John Tolle、Brian R. Cherry、John Kouvetakis

  DOI：10.1021/ja0713680

  日期：2007.6.1

  derivatives such as Cl2SiHGeH2Cl (3), Cl2SiHGeHCl2 (4), ClSiH2GeH2Cl (5), and ClSiH2GeHCl2 (6) have also been produced for the first time leading to a new class of highly reactive Si-Ge compounds that are of fundamental and practical interest. Compounds 1-6 are characterized by physical and spectroscopic methods including NMR, FTIR, and mass spectroscopy. The results combined with first principles density

  我们描述了基于化学式 ClnH6-nSiGe 的新型氯化硅锗氢化物家族的合成。H3SiGeH3 的选择性受控氯化是通过与 BCl3 反应生成 ClH2SiGeH3 (1) 和 Cl2HSiGeH3 (2) 来实现的。这代表了一种可行的单步路线，以用于半导体应用的商业产量获得目标化合物。内置的 Cl 功能专门设计用于促进与 CMOS 处理兼容的选择性生长。更高级的多氯化衍生物，如 Cl2SiHGeH2Cl (3)、Cl2SiHGeHCl2 (4)、ClSiH2GeH2Cl (5) 和 ClSiH2GeHCl2 (6) 也首次被生产，导致了一类新的高反应性 Si-Ge 化合物和实际利益。化合物 1-6 通过物理和光谱方法表征，包括 NMR、FTIR、和质谱。结果与第一性原理密度泛函理论相结合，用于阐明 ClnH6-nSiGe 整个序列的结构、热化学和振动趋势，并深入了解反应动力学对产物中 Cl