1-Ethoxysulfanylbutane

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机硫化合物 - 有机硫过氧化物
• 英文名称: 1-Ethoxysulfanylbutane
• 英文别名: 1-ethoxysulfanylbutane
• 化学式: C₆H₁₄OS
• 分子量: 134.24
• InChiKey: GHUQKOJGIFIGOO-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  2.1
• 重原子数：
  8
• 可旋转键数：
  5
• 环数：
  0.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  1.0
• 拓扑面积：
  34.5
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  2

文献信息

• [EN] COMPOSITION FOR FORMING SILICON-CONTAINING FILM AND PATTERN FORMING METHOD USING SAID COMPOSITION<br/>[FR] COMPOSITION POUR FORMER UN FILM CONTENANT DU SILICIUM ET PROCÉDÉ DE FORMATION DE MOTIF UTILISANT LADITE COMPOSITION<br/>[JA] シリコン含有膜形成用組成物及び該組成物を用いたパターン形成方法
  申请人：JSR CORP

  公开号：WO2016111210A1

  公开（公告）日：2016-07-14

  　塩基性液を用いてウェット剥離を行う際の剥離性が良好な、新規なシリコン含有膜形成用組成物及び該組成物を用いたパターン形成方法を提供すること。　レジスト下層膜表面にシリコン含有膜を形成し、該シリコン含有膜を塩基性液によって剥離する工程を含む多層レジストプロセスに用いるシリコン含有膜形成用組成物であって、下記一般式（１）で表される部分構造及び下記一般式（２）で表される部分構造からなる群より選ばれる一種以上を有する化合物を含むことを特徴とする、シリコン含有膜形成用組成物を提供する。（式（１）中、Ｌ，－ＳＯ２－Ｏ－＊及びＸ１が環を構成しない場合、Ｌは単結合又は２価の有機基であり、Ｘ１は水素原子又は１価の有機基である。 Ｌ，－ＳＯ２－Ｏ－＊及びＸが環を構成する場合、Ｌは３価の有機基であり、Ｘ１は２価の有機基である。（なお、＊はＯとＸ１との結合位置を示す。）） （式（２）中、Ｘ２は水素原子又は１価の有機基である。）