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[(eta.5-C5Me5)(η5-C5H2-1,2,4-(SiMe3)3)ZrCl2] | 503440-09-3

中文名称
——
中文别名
——
英文名称
[(eta.5-C5Me5)(η5-C5H2-1,2,4-(SiMe3)3)ZrCl2]
英文别名
Cp*Cp'''ZrCl2;(η5-C5Me5)(η5-C5H2-1,2,4-(SiMe3)3)ZrCl2
[(eta.5-C5Me5)(η5-C5H2-1,2,4-(SiMe3)3)ZrCl2]化学式
CAS
503440-09-3
化学式
C24H44Cl2Si3Zr
mdl
——
分子量
579.0
InChiKey
WFGDRXYYNLXRGI-UHFFFAOYSA-L
BEILSTEIN
——
EINECS
——
  • 物化性质
  • 计算性质
  • ADMET
  • 安全信息
  • SDS
  • 制备方法与用途
  • 上下游信息
  • 反应信息
  • 文献信息
  • 表征谱图
  • 同类化合物
  • 相关功能分类
  • 相关结构分类

计算性质

  • 辛醇/水分配系数(LogP):
    None
  • 重原子数:
    None
  • 可旋转键数:
    None
  • 环数:
    None
  • sp3杂化的碳原子比例:
    None
  • 拓扑面积:
    None
  • 氢给体数:
    None
  • 氢受体数:
    None

反应信息

  • 作为反应物:
    描述:
    [(eta.5-C5Me5)(η5-C5H2-1,2,4-(SiMe3)3)ZrCl2]叔丁基锂 作用下, 以 甲苯 为溶剂, 以63%的产率得到(η5-C5Me5)(η5-C5H2-1,2,4-(SiMe3)3)Zr(H)Cl
    参考文献:
    名称:
    氧化锆锆氢化物络合物中烷基取代基对还原消除反应的影响。烷基立体环境的操纵允许锆茂二氮配合物的合成
    摘要:
    还原消除如烷基配体的功能的速度已经进行了一系列锆烷基氢化物络合物中,Cp * Cp的“被测量“的Zr(R)H(CP * =η 5 -C 5我5中,Cp” =η 5 -C 5 H 3 -1,3-(SiMe 3)2,R = CH 3,CH 2(CH 2)2 CH 3,CH 2(CH 2)6 CH 3,CH 2 cC 6 H 11,CH 2 CHMe 2,CH 2 CMe 3),其中烷基配体的空间位置已被系统地改变。还原消除的速率随着烷基配体的空间体积的增加而适度地增加。该趋势归因于烷基配体与环戊二烯基取代基之间不利的空间相互作用而引起的基态不稳定。当更多量的环戊二烯基配体被结合到茂金属骨架中时,该效果被放大。因此,在CP * CP ' ''的Zr(R)H(CP' ''=η 5 -C 5 H ^ 2 -1,2,4-(森达3)3,R = CH 3,CH 2(CH 2)2 CH 3,CH 2(CH 2)6
    DOI:
    10.1021/om0302239
  • 作为产物:
    参考文献:
    名称:
    环戊二烯基取代基对第 4 族金属茂中还原消除反应的影响:动力学、机理和在二氮活化中的应用
    摘要:
    锆茂异丁基氢化物配合物 Cp(CpR(n)())Zr(CH(2)CHMe(2))H (Cp = eta(5)-C(5)Me(5)) 的还原消除率),CpR(n)() = 取代的环戊二烯基),已作为环戊二烯基取代基的函数进行测量。一般来说,还原消除率随着空间要求的取代基如 [CMe(3)] 或 [SiMe(3)] 的加入而适度增加。一系列同位素标记实验被用来阐明还原消除过程的机制和速率决定步骤。从这些研究中,新的二茂锆异丁基氢化物配合物 Cp' '(2)Zr(CH(2)CHMe(2))(H) (Cp' ' = eta(5)-C(5)H(3)- 1,3-(SiMe(3))(2)) 被设计和合成,以便观察到异丁烷的轻松还原消除和二氮的活化。由此产生的二氮复合物,[Cp' '(2)Zr](2)(mu(2), eta(2),eta(2)-N(2)),已通过 X 射线衍射表征并显示出 1.47 A 的键长对于
    DOI:
    10.1021/ja020960g
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