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[eta.5:η1(P)-C5Me4(CH2)2PPh2]ZrCl3*THF | 253779-27-0

中文名称
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中文别名
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英文名称
[eta.5:η1(P)-C5Me4(CH2)2PPh2]ZrCl3*THF
英文别名
Zr([η(5)η(1).-2-(diphenylphosphanyl)ethyl]tetramethylcyclopentadienyl)Cl3*C4H8O
[eta.5:η1(P)-C5Me4(CH2)2PPh2]ZrCl3*THF化学式
CAS
253779-27-0
化学式
C27H34Cl3OPZr
mdl
——
分子量
603.123
InChiKey
MADGXQYKUVRZDW-UHFFFAOYSA-K
BEILSTEIN
——
EINECS
——
  • 物化性质
  • 计算性质
  • ADMET
  • 安全信息
  • SDS
  • 制备方法与用途
  • 上下游信息
  • 反应信息
  • 文献信息
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  • 同类化合物
  • 相关功能分类
  • 相关结构分类

计算性质

  • 辛醇/水分配系数(LogP):
    None
  • 重原子数:
    None
  • 可旋转键数:
    None
  • 环数:
    None
  • sp3杂化的碳原子比例:
    None
  • 拓扑面积:
    None
  • 氢给体数:
    None
  • 氢受体数:
    None

反应信息

  • 作为反应物:
    描述:
    lithium (2-P,P-dimethylphosphanylethyl)tetramethylcyclopentadienide[eta.5:η1(P)-C5Me4(CH2)2PPh2]ZrCl3*THF四氢呋喃 为溶剂, 以70%的产率得到[[η5-1-(2-diphenylphosphinoethyl)-2,3,4,5-tetramethylcyclopentadienyl]][η5-[1-(2-dimethylphosphinoethyl)-2,3,4,5-tetramethylcyclopentadienyl]]zirconium dichloride
    参考文献:
    名称:
    双[(2-膦基乙基)四甲基-环戊二烯基]二氯化锆的还原:分子内CH活化与低价金属中心的稳定化
    摘要:
    R2P 官能化二氯化锆 [C5Me4(CH2)2PR2] (C5Me5)ZrCl2(R = Me (1) 和 Ph (2))和 [C5Me4(CH2)2PMe2][C5Me4(CH2)2PR2]ZrCl2 (R) 的还原= Me (3) 和 Ph (4)) 与混合镁进行了研究。在化合物 1 和 2 的还原过程中,分子内 CH 活化高度选择性地提供了富烯氢化物配合物 Zr(H)(η5−C5Me5)[η5:η2(C,P)−(CH2)C5Me3CH2CH2PR2] (R = Me (7) , 博士 (8)); 在化合物2的情况下,还形成芳基氢化物Zr(H)(η5:C5Me5)[η5:η1(C)-C5Me4CH2CH2PPh(o-C6H4)](9)。配合物 3 和 4 的还原得到 ZrII 衍生物 Zr[η5:η1(P)− C5Me4CH2CH2PMe2]2 (12) 和 Zr[η5:η1(P)−
    DOI:
    10.1007/s11172-008-0010-2
  • 作为产物:
    描述:
    四氢呋喃 、 Zr([η(5)η(1).-2-(diphenylphosphanyl)ethyl]tetramethylcyclopentadienyl)Cl3 以 四氢呋喃 为溶剂, 生成 [eta.5:η1(P)-C5Me4(CH2)2PPh2]ZrCl3*THF
    参考文献:
    名称:
    5-[2-(二苯基膦酰基)乙基]-1,2,3,4-四甲基环戊二烯基配体的新途径——[η5:η1-C5(CH3)4CH2CH2PPh2]ZrCl3·THF的合成与晶体结构
    摘要:
    从已知化合物[2-(二甲氨基)乙基]开始,五步合成第一个过渡金属配合物与C5(CH3)4CH2CH2PPh2配体[η5:η1-C5(CH3)4CH2CH2PPh2]ZrCl3·THF(11)据报道,四甲基环戊二烯 (4) 通过 4,5,6,7-四甲基螺[2,4]庚-4,6-二烯 (7)。环戊二烯锂 LiC5(CH3)4CH2CH2PPh2 (9)、甲硅烷基化环戊二烯 (CH3)3SiC5(CH3)4CH2CH2PPh2 (10) 和环戊二烯 HC5(CH3)4CH2CH2PPh2 (12) 被分离并表征为纯物质。锆络合物11的晶体结构通过X射线衍射分析确定。
    DOI:
    10.1002/(sici)1099-0682(199911)1999:11<1973::aid-ejic1973>3.0.co;2-u
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