silicon tetrafluoride, Si-30 | 62566-72-7

• 英文名称: silicon tetrafluoride, Si-30
• 英文别名: SiF4；tetrafluoro(30Si)silane
• CAS: 62566-72-7
• 化学式: F₄Si
• 分子量: 105.994
• InChiKey: ABTOQLMXBSRXSM-RHRFEJLCSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  1.3
• 重原子数：
  5.0
• 可旋转键数：
  0.0
• 环数：
  0.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.0
• 拓扑面积：
  0.0
• 氢给体数：
  0.0
• 氢受体数：
  0.0

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  silicon tetrafluoride, Si-30 以 neat (no solvent) 为溶剂， 生成 硅烷
  参考文献：
  名称：

  使用同位素富集硅膜进行局部中子嬗变掺杂

  摘要：

  摘要 通过对由 30 Si 富集材料制成的纳米结构进行热中子辐照，由于 30 Si→ 31 P 的核嬗变（局域中子嬗变掺杂，NTD），纳米区域可以选择性地均匀地掺杂 31 P。为了证明局部NTD的能力，在p-Si(1 0 0)上制备了30 Si富集的硅膜并用热中子辐照。在照射时，薄膜被 n 掺杂，而衬底保持 p 型，导致在薄膜 - 衬底界面形成 ap-n 结，显示出整流。这表明 NTD 应用于纳米级半导体器件的可能性很大。

  DOI：

  10.1016/j.jpcs.2007.08.056
• 作为产物：
  描述：

  六氟乙硅烷 以 neat (no solvent) 为溶剂， 生成 silicon tetrafluoride, Si-30
  参考文献：
  名称：

  使用同位素富集硅膜进行局部中子嬗变掺杂

  摘要：

  摘要 通过对由 30 Si 富集材料制成的纳米结构进行热中子辐照，由于 30 Si→ 31 P 的核嬗变（局域中子嬗变掺杂，NTD），纳米区域可以选择性地均匀地掺杂 31 P。为了证明局部NTD的能力，在p-Si(1 0 0)上制备了30 Si富集的硅膜并用热中子辐照。在照射时，薄膜被 n 掺杂，而衬底保持 p 型，导致在薄膜 - 衬底界面形成 ap-n 结，显示出整流。这表明 NTD 应用于纳米级半导体器件的可能性很大。

  DOI：

  10.1016/j.jpcs.2007.08.056

文献信息

• 29Si and 30Si enrichment by IR MPD of Si2F6
  作者：M. Kamioka、S. Arai、Y. Ishikawa、S. Isomura、N. Takamiya

  DOI：10.1016/0009-2614(85)80432-2

  日期：1985.9

  The infrared multiple-photon decomposition of Si2F6 has been studied as a function of irradiation wavenumber using a collimated pulsed beam from a CO2 TEA laser. The main decomposition product SiF4 was found to be enriched with 29Si and 30Si. For example, SiF4 contained 6% 29Si and 46% 30Si in the irradiation of 2 Torr natural Si2F6 with the laser radiation at 949.43 cm−1 and 0.36 J cm−2.

  已经使用来自CO 2 TEA激光器的准直脉冲光束研究了Si 2 F 6的红外多光子分解与辐射波数的关系。发现主要分解产物SiF 4富含29 Si和30 Si。例如，在949.43 cm -1和0.36 J cm -2的激光辐射下，在2 Torr天然Si 2 F 6的照射下，SiF 4含有6％的29 Si和46％的30 Si 。
• Isotope separation method and working substance for isotope separation
  申请人：Kawasaki Jukogyo Kabushiki Kaisha

  公开号：US07307233B2

  公开（公告）日：2007-12-11

  The present invention is directed to the provision of an isotope separation method, which can effectively prevent, without the use of a second gas, a secondary reaction and the formation of a polymer involved in a multiphoton dissociation reaction in laser isotope separation and, at the same time, can efficiently separate a target isotope with low activation energy, and a working substance for use in the isotope separation. The isotope separation method comprises the step of irradiating a working substance for isotope separation comprising a compound represented by formula SiX3-CY2-CZ3 or SiX3-CY═CZ2, wherein X, Y, and Z, which may be the same or different, represent a halogen atom, H, or an alkyl group; and at least one of Z's represents a halogen atom with the remaining Z's being H or an alkyl group, with a laser beam to dissociate only a molecule containing a particular target isotope atom, whereby the dissociation product or the nondissociation molecule is enriched with the target Si isotope atom.

  本发明旨在提供一种同位素分离方法，该方法可以在激光同位素分离中有效地防止二次反应和聚合物的形成，而无需使用第二种气体，同时可以高效地分离具有低活化能的目标同位素，并提供用于同位素分离的工作物质。该同位素分离方法包括以下步骤：用激光束照射一个用于同位素分离的工作物质，该工作物质包括化合物SiX3-CY2-CZ3或SiX3-CY═CZ2，其中X、Y和Z（可能相同或不同）表示卤素原子、H或烷基；至少其中一个Z表示卤素原子，其余的Z表示H或烷基，仅使含有特定目标同位素原子的分子解离，从而富集目标Si同位素原子的解离产物或非解离分子。
• Formation of impurity Si2OH6 in silane synthesized from silicon tetrafluoride
  作者：A. D. Bulanov、P. G. Sennikov、A. Yu. Sozin、A. Yu. Lashkov、O. Yu. Troshin

  DOI：10.1134/s0036023611040061

  日期：2011.4

  The possibility of the reduction of hexafluorodisiloxane by calcium hydride in the synthesis of silane from silicon tetrafluoride has been studied. This reaction is shown to be not decisive for oxygen contamination of silane. The most likely reason for the appearance of impurity Si2OH6 in "fluoride" silane is the Ca(OH)(2)-catalyzed reaction of silane with trace water. The concentration of impurity Si2OH6 in silane at the stage of synthesis may be efficiently decreased by the preliminary purging of calcium hydride with a hydrogen (grade A) flow.