Nickel--thorium (5/1) | 12260-62-7

• 分子结构分类: 无机化合物 - 均相金属化合物 - 金属间过渡金属化合物
• 英文名称: Nickel--thorium (5/1)
• 英文别名: nickel;thorium
• CAS: 12260-62-7
• 化学式: Ni₅Th
• 分子量: 525.488
• InChiKey: PDTOEDZRNKWGIT-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  -0.01
• 重原子数：
  6
• 可旋转键数：
  0
• 环数：
  0.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.0
• 拓扑面积：
  0
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  0

反应信息

• 作为产物：
  描述：

  镍 、 钍 以 neat (no solvent) 为溶剂， 生成 Nickel--thorium (5/1)
  参考文献：
  名称：

  甲烷化催化剂ThNi 5和ZrNi 5的俄歇和特征能量损失谱研究

  摘要：

  ThNi 5和ZrNi 5（新鲜，用过的H 2 S中毒）已经通过俄歇光谱（AES）和特征能量损失光谱（CELS）进行了研究，以阐明这些材料作为甲烷化催化剂的行为截然不同。通过使用，ZrNi 5转化为负载在ZrO 2上的Ni ，ThNi 5转化为负载在ThO 2上的Ni 。AES表明ZrO 2上的Ni被石墨严重覆盖。Ni和ThO 2不会发生这种情况，这说明与Ni在ZrO 2上相比，该催化剂具有出色的活性。。由CELS确定的等离激元激发能与该图一致。用于转化的ThNi大量表面的Ni 5为它的至H高电阻催化剂占2 S中毒相比ZrNi的5。在ZrNi 5和ThNi 5以及元素Ni中，在6.5 eV处观察到一个很强的CELS峰，表明这些材料的能带结构非常相似。在这方面，Ni和Ni金属间化合物类似于从光发射研究和最近的APW带计算得出的Co和Co金属间化合物。

  DOI：

  10.1016/0022-4596(78)90039-7

文献信息

• Standard enthalpies of formation of some Th alloys with Group VIII elements (Co, Ni, Ru, Rh, Pd, Ir and Pt), determined by high-temperature direct synthesis calorimetry
  作者：Junwen Wang、Qiti Guo、O.J Kleppa

  DOI：10.1016/s0925-8388(00)01157-9

  日期：2000.12

  Abstract The standard enthalpies of formation of seven alloys formed between Th, an element from Group III, and Co, Ni, Ru, Rh, Pd, Ir and Pt, elements from Group VIII, have been determined by high-temperature direct synthesis calorimetry at 1473±2 K. The following values of Δ H f o , in kJ (mol atom) −1 , are reported: ThCo 5 , −17.0±2.3; ThNi 5 , −34.8±1.9; ThRu 2 , −28.9±1.6; ThRh 3 , −60.3±2.8;

  摘要 通过高温直接合成量热法测定了第 III 族元素 Th 与第 VIII 族元素 Co、Ni、Ru、Rh、Pd、Ir 和 Pt 之间形成的七种合金的标准生成焓。 1473±2 K。报告了以下Δ H fo 值，单位为kJ（摩尔原子） -1 ： ThCo 5 ，-17.0±2.3；ThNi 5 ，-34.8±1.9；ThRu 2 , -28.9±1.6; ThRh 3 ，-60.3±2.8；ThPd 3 ，-86.1±3.2；ThIr 2 ，-78.0±3.4；和 ThPt 3 ，-89.7±5.1。将结果与来自 Miedema 模型的预测值以及关于 ThCo 5 、ThNi 5 、ThRu 2 和 ThRh 3 的吉布斯形成自由能的可用文献数据进行比较。还将结果与 ThRh 3 的早期量热值 Δ H fo 进行比较（Kubaschewski 等人，Materials Thermochemi
• Surface characterization of thorium-nickel intermetallic catalysts
  作者：T DANG

  DOI：10.1016/0021-9517(84)90046-0

  日期：1984.7

  ESCA results indicate that the surfaces of untreated alloys are Ni-poor with respect to the bulk. Treatment of these alloys with synthesis gas (COH2), O2, or air results in decomposition of the intermetallic into NiThO2 or NiOThO2. In all cases Ni was observed to segregate to the surface after reaction. The degree of Ni surface segregation is not affected by different gas treatments but varies for different

  用于化学分析的电子光谱（ESCA），俄歇电子能谱（AES）和离子散射光谱（ISS）已用于研究一系列or镍合金（Th 7 Ni 3，ThNi，ThNi 2，ThNi 5），两者未经处理并用不同的气体（O 2，空气，COH2）处理。ESCA结果表明，未经处理的合金表面相对于整体而言镍贫乏。用合成气（COH2），O 2处理这些合金或空气会导致金属间化合物分解为NiThO2或NiOThO2。在所有情况下，观察到Ni在反应后偏析到表面。Ni表面偏析的程度不受不同气体处理的影响，但随不同合金的不同而不同。通过具有不同采样深度的ESCA，AES和ISS检查并比较了相对Ni信号强度和大量Ni含量之间的关系。具有高表面浓度的Ni的催化剂通常显示出对于甲烷化反应的高活性。Ni表面浓度与Th 7 Ni 3和ThNi 5催化活性的比较表明它们在数学上不相关。这种不相容性可以通过存在不同的活性位点，海绵状模型或同时存在两者来解释。
• Low-temperature heat-capacity study of Haucke compounds Ca<mml:math xmlns:mml="http://www.w3.org/1998/Math/MathML" display="inline"><mml:mrow><mml:msub><mml:mrow><mml:mi mathvariant="normal">Ni</mml:mi></mml:mrow><mml:mrow><mml:mn>5</mml:mn></mml:mrow></mml:msub></mml:mrow></mml:math>, Y<mml:math xmlns:mml="http://www.w3.org/1998/Math/MathML" display="inline"><mml:mrow><mml:msub><mml:mrow><mml:mi mathvariant="normal">Ni</mml:mi></mml:mrow><mml:mrow><mml:mn>5</mml:mn></mml:mrow></mml:msub></mml:mrow></mml:math>, La<mml:math xmlns:mml="http://www.w3.org/1998/Math/MathML" display="inline"><mml:mrow><mml:msub><mml:mrow><mml:mi mathvariant="normal">Ni</mml:mi></mml:mrow><mml:mrow><mml:mn>5</mml:mn></mml:mrow></mml:msub></mml:mrow></mml:math>, and Th<mml:math xmlns:mml="http://www.w3.org/1998/Math/MathML" display="inline"><mml:mrow><mml:msub><mml:mrow><mml:mi mathvariant="normal">Ni</mml:mi></mml:mrow><mml:mrow><mml:mn>5</mml:mn></mml:mrow></mml:msub></mml:mrow></mml:math>
  作者：T. Takeshita、K. A. Gschneidner、D. K. Thome、O. D. McMasters

  DOI：10.1103/physrevb.21.5636

  日期：——
• Ethylene hydrogenation over catalysts formed by oxidation of intermetallic compounds
  作者：H. Imamura、W. E. Wallace

  DOI：10.1021/j100461a001

  日期：1980.11