difluorosulfoacetic acid 4-oxo-1-adamantyl ester sodium salt | 913269-95-1

• 英文名称: difluorosulfoacetic acid 4-oxo-1-adamantyl ester sodium salt
• 英文别名: sodium salt of 4-oxo-1-adamantyl difluorosulfoacetate；Sodium 1,1-difluoro-2-oxo-2-((4-oxoadamantan-1-yl)oxy)ethane-1-sulfonate；sodium;1,1-difluoro-2-oxo-2-[(4-oxo-1-adamantyl)oxy]ethanesulfonate
• CAS: 913269-95-1
• 化学式: C₁₂H₁₃F₂O₆S*Na
• 分子量: 346.284
• InChiKey: NDMOMCPYKWRNPW-UHFFFAOYSA-M

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  -2.18
• 重原子数：
  22.0
• 可旋转键数：
  3.0
• 环数：
  4.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.83
• 拓扑面积：
  100.57
• 氢给体数：
  0.0
• 氢受体数：
  6.0

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  difluorosulfoacetic acid 4-oxo-1-adamantyl ester sodium salt 在 copper(II) benzoate 、 对甲苯磺酸 作用下， 以 氯仿 、 水 、 氯苯 为溶剂， 反应 19.5h， 生成
  参考文献：
  名称：

  塩、酸発生剤、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法

  摘要：

  旨在提供能够制造出良好线条边缘粗糙度（LER）的盐的目的。具有由式（a）表示的基团的盐。[在式（a）中，Xa和Xb分别独立表示氧原子或硫原子。X1表示具有脂环烃基的二价基团，其中包含脂环烃基的二价基团中的亚甲基可以被氧原子或羰基取代，脂环烃基的二价基团中的氢原子可以被羟基或氟原子取代。*表示连接手。][选择图]无

  公开号：

  JP2016047815A
• 作为产物：
  描述：

  5-羟基-2-金刚烷酮 、 difluorosulfoacetic acid sodium salt 在 硫酸 作用下， 以 乙基苯 为溶剂， 反应 42.0h， 生成 difluorosulfoacetic acid 4-oxo-1-adamantyl ester sodium salt
  参考文献：
  名称：

  Salt suitable for an acid generator and a chemically amplified resist composition containing the same

  摘要：

  本发明提供了一种具有公式(L)的盐：其中Q代表—CO—基团或—C(OH)—基团；环X代表具有3至30个碳原子的单环或多元环烃基团，当Q是—C(OH)—基团时，在Q位置的氢原子被羟基取代，或者当Q是—CO—基团时，在Q位置的两个氢原子被≡O基团取代，并且单环或多元环烃基团中的至少一个氢原子可以可选地被具有1至6碳原子的烷基、具有1至6碳原子的烷氧基、具有1至4碳原子的全氟烷基、具有1至6碳原子的羟基烷基、羟基或氰基取代；R10和R20各自独立地代表氟原子或具有1至6碳原子的全氟烷基；A+代表有机反离子。本发明还提供了一种包含公式(L)的盐的化学放大抗蚀剂组合物。

  公开号：

  US20070027336A1

文献信息

• 塩、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
  申请人：住友化学株式会社

  公开号：JP2016000725A

  公开（公告）日：2016-01-07

  【課題】良好なＣＤ均一性（ＣＤＵ）又は良好なフォーカスマージン（ＤＯＦ）でレジストパターンを製造することができる塩、及び該塩を含むレジスト組成物の提供。【解決手段】式（Ｉ）で表される塩。［ＸはＯ、Ｓ又は−Ｎ（ＳＯ２Ｒ５）；Ｒ５はＣ１〜１２のアルキル基、Ｃ３〜１２のシクロアルキル基又はＣ６〜１２の芳香族炭化水素基；ＡｒはＣ６〜３６の芳香族炭化水素基又はＣ６〜３６のヘテロ芳香族炭化水素基；Ｒ１及びＲ２は各々独立に、Ｈ、ＯＨ基又はＣ１〜１２の炭化水素基；ｍ及びｎは各々独立に１又は２；Ｒ３及びＲ４は各々独立に、Ｈ又はＣ１〜１２の炭化水素基；Ａ−は酸不安定基、塩基不安定基又はその両方を有する有機アニオン］【選択図】なし

  【课题】提供能够制造良好CD均匀性（CDU）或良好焦深（DOF）的盐以及包含该盐的感光剂组合物。 【解决方案】式（I）表示的盐。［X是O、S或-N（SO2R5）；R5是C1～12的烷基、C3～12的环烷基或C6～12的芳香族碳氢基；Ar是C6～36的芳香族碳氢基或C6～36的杂芳香族碳氢基；R1和R2分别是独立地H、OH基或C1～12的碳氢基；m和n分别是独立地1或2；R3和R4分别是独立地H或C1～12的碳氢基；A-是含有酸不稳定基、盐基不稳定基或两者的有机阴离子］【选择图】无
• SALT AND PHOTORESIST COMPOSITION CONTAINING THE SAME
  申请人：ICHIKAWA Koji

  公开号：US20100304293A1

  公开（公告）日：2010-12-02

  A salt represented by the formula (a): wherein Q 1 and Q 2 each independently represent a fluorine atom etc., X 1 represents a single bond etc., X 2 represents a single bond etc., Y 1 represents a C3-C6 alicyclic hydrocarbon group etc., with the proviso that —X 2 —Y 1 group has one or more fluorine atoms, and Z + represents an organic counter cation, and a photoresist composition comprising the salt represented by the formula (a) and a resin comprising a structural unit having an acid-labile group and being insoluble or poorly soluble in an aqueous alkali solution but becoming soluble in an aqueous alkali solution by the action of an acid.

  由公式(a)表示的盐：其中Q1和Q2各自独立代表氟原子等，X1代表单键等，X2代表单键等，Y1代表C3-C6的脂环烃基等，但条件是—X2—Y1基团具有一个或多个氟原子，以及Z+代表有机反离子，以及包含由公式(a)表示的盐的光阻剂组合物和包含具有酸不稳定的基团并且在水性碱液中不溶或微溶于但在酸性作用下水性碱液中变得可溶的树脂的结构单元。
• SALT, ACID GENERATOR, RESIN, RESIST COMPOSITION AND METHOD FOR PRODUCING RESIST PATTERN
  申请人：SUMITOMO CHEMICAL COMPANY, LIMITED

  公开号：US20160334702A1

  公开（公告）日：2016-11-17

  A salt represented by formula (I): wherein Q 1 and Q 2 independently represent a fluorine atom or a C 1 to C 6 perfluoroalkyl group, R 1 and R 2 in each occurrence independently represent a hydrogen atom, a fluorine atom or a C 1 to C 6 perfluoroalkyl group, z represents an integer of 0 to 6, X 1 represents *—CO—O—, *—O—CO— or —O—, * represents a binding position to C(R 1 )(R 2 ) or C(Q 1 )(Q 2 ), A 1 represents a C 4 to C 24 hydrocarbon group having a C 4 to C 18 divalent alicyclic hydrocarbon moiety, A 2 represents a C 2 to C 12 divalent hydrocarbon group, R 3 and R 4 independently represent a hydrogen atom or a C 1 to C 6 monovalent saturated hydrocarbon group, R 5 represents a hydrogen atom, a fluorine atom, or a C 1 to C 6 alkyl group where a hydrogen atom may be replaced by a fluorine atom, and Z + represents an organic cation.

  公式(I)表示的盐，其中Q1和Q2独立地代表一个氟原子或一个C1至C6的过氟烷基团，R1和R2每次出现独立地代表一个氢原子、一个氟原子或一个C1至C6的过氟烷基团，z代表0到6的整数，X1代表*—CO—O—，*—O—CO—或—O—，*代表与C(R1)(R2)或C(Q1)(Q2)的连接位置，A1代表具有C4至C18二价脂环烃基团的C4至C24的烃基团，A2代表C2至C12的二价烃基团，R3和R4独立地代表一个氢原子或一个C1至C6的一价饱和烃基团，R5代表一个氢原子、一个氟原子或一个C1至C6的烷基团，其中氢原子可以被氟原子替换，而Z+代表一个有机阳离子。
• 化合物、酸発生剤、樹脂、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
  申请人：住友化学株式会社

  公开号：JP2016210769A

  公开（公告）日：2016-12-15

  【課題】優れたラインエッジラフネスのレジストパターンを製造することができる化合物、レジスト組成物に用いる樹脂及びレジスト組成物を提供することを目的とする。【解決手段】式（Ｉ）で表される化合物、この化合物に由来する樹脂、この化合物を含む酸発生剤及びこれらを含むレジスト組成物。［式中、Ｑ１及びＱ２はそれぞれフッ素原子又はペルフルオロアルキル基；Ｒ１及びＲ２はそれぞれ水素原子、フッ素原子又はペルフルオロアルキル基；ｚは０〜６の整数；Ｘ１は、＊−ＣＯ−Ｏ−、＊−Ｏ−ＣＯ−等；Ａ１は２価の脂環式炭化水素基含有炭化水素基；Ａ２は２価の炭化水素基；Ｒ３及びＲ４はそれぞれ、水素原子又は飽和炭化水素基；Ｒ５は、ハロゲン原子を有してもよいアルキル基等；Ｒ６は、置換基を有してもよい芳香族炭化水素基；Ｒ７は、置換基を有してもよい炭化水素基又はシアノ基等を表す。］【選択図】なし

  【课题】提供能够制造出优良线边缘粗糙度图案的化合物、用于光刻胶组合物的树脂以及光刻胶组合物。 【解决手段】提供公式（I）所表示的化合物、由该化合物派生的树脂、含有该化合物的酸发生剂以及包含这些的光刻胶组合物。其中，Q1和Q2分别代表氟原子或全氟烷基；R1和R2分别代表氢原子、氟原子或全氟烷基；z是0到6的整数；X1是*−CO−O−、*−O−CO−等；A1是含有二价脂环烃基的碳氢基团；A2是二价的碳氢基团；R3和R4分别代表氢原子或饱和碳氢基团；R5是可以含有卤素原子的烷基等；R6是可以含有取代基的芳香族碳氢基团；R7是可以含有取代基的碳氢基团或氰基等。 【选择图】无
• COMPOUND, RESIN, RESIST COMPOSITION AND METHOD FOR PRODUCING RESIST PATTERN
  申请人：SUMITOMO CHEMICAL COMPANY, LIMITED

  公开号：US20160130210A1

  公开（公告）日：2016-05-12

  A compound represented by formula (I), a resin including a structural unit derived from the compound and a resist composition including the resin: wherein R 1 represents a hydrogen atom, a halogen atom or a C 1 to C 6 alkyl group in which a hydrogen atom may be replaced by a halogen atom, R 2 represents a C 1 to C 6 perfluoroalkyl group or *—CHR f1 R f2 , * represents a binding site to a carbonyl group, R f1 and R f2 each independently represent a C 1 to C 4 perfluoroalkyl group or R f1 and R f2 may be bonded together with a carbon atom bonded thereto to form a ring, A 1 represents a single bond, a C 1 to C 6 alkanediyl group or **-A 3 -X 1 -(A 4 -X 2 ) a -(A 5 ) b -, ** represents a binding site to an oxygen atom, A 2 , A 3 , A 4 and A 5 each independently represent a C 1 to C 6 alkanediyl group, X 1 and X 2 each independently represent —O—, —CO—O— or —O—CO—, a and b each represent 0 or 1, and W 1 represents a C 5 to C 18 divalent alicyclic hydrocarbon group.

  化合物的化学式为（I），包括从该化合物衍生的结构单元的树脂和包括该树脂的抗蚀组合物： 其中R 1 代表氢原子、卤素原子或C 1 到C 6 烷基基团，其中氢原子可以被卤素原子取代，R 2 代表C 1 到C 6 全氟烷基基团或*—CHR f1 R f2 ，*代表与羰基结合位点，R f1 和R f2 各自独立代表C 1 到C 4 全氟烷基基团或R f1 和R f2 可以与结合在一起的碳原子形成环，A 1 代表单键，C 1 到C 6 烷二基基团或**-A 3 -X 1 -(A 4 -X 2 ) a -(A 5 ) b -，**代表与氧原子结合位点，A 2 、A 3 、A 4 和A 5 各自独立代表C 1 到C 6 烷二基基团，X 1 和X 2 各自独立代表—O—、—CO—O—或—O—CO—，a和b各自代表0或1，W 1 代表C 5 到C 18 的二价脂环烃基团。