的的Cp * M(CO)的光致脱羰3我(M = Mo和W中,Cp * =η 5 -C 5我5)在xantsilH存在2 [xantsil =(9,9-二甲基-4,5-二基)双(二甲基甲
硅烷基)]在
戊烷得到双(甲
硅烷基)氢基络合物的Cp * M(κ 2的Si,
硅-xantsil)(CO)2(H)(1A:M = Mo和1b中:M = W)通过两个倍的Si-H的氧化加成和
甲烷消除。进一步辐照1a,b in
甲苯得到三齿xantsil络合物的Cp * M(κ 3的Si,
硅,ö -xantsil)(CO)(H)(图2a:M = Mo和2b中:M = W)经由CO离解。配合物2a,b与腈的反应导致C N三键的
化学计量氢化
硅烷化。因此,室温下2a,b与t- BuCN的反应通过将腈插入M-Si键中而得到N-
硅酰亚胺基络合物3a,b,产物缓慢异构化为相应的N-
硅酰亚胺基络合物4a,b通过分子内氢迁移。另一方面