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ferrocenylmethylene-[3-(triethoxysilyl)-propyl]-amine
ferrocenylmethylene-[3-(triethoxysilyl)-propyl]-amine | 188541-16-4
中文名称
——
中文别名
——
英文名称
ferrocenylmethylene-[3-(triethoxysilyl)-propyl]-amine
英文别名
——
CAS
188541-16-4
化学式
C
20
H
31
FeNO
3
Si
mdl
——
分子量
417.404
InChiKey
RKYMBOSGQZXNLQ-UHFFFAOYSA-N
BEILSTEIN
——
EINECS
——
物化性质
计算性质
ADMET
安全信息
SDS
制备方法与用途
上下游信息
反应信息
文献信息
表征谱图
同类化合物
相关功能分类
相关结构分类
计算性质
辛醇/水分配系数(LogP):
None
重原子数:
None
可旋转键数:
None
环数:
None
sp3杂化的碳原子比例:
None
拓扑面积:
None
氢给体数:
None
氢受体数:
None
反应信息
作为产物:
描述:
二茂铁甲醛
、
3-氨基丙基三乙氧基硅烷
在 molecular sieve 作用下, 以
二氯甲烷
为溶剂, 以80%的产率得到ferrocenylmethylene-[3-(triethoxysilyl)-propyl]-amine
参考文献:
名称:
自组装单层的光刻:通过电分析方法优化保护基团
摘要:
具有高密度化学反应性官能团的图案化表面可以通过自组装单层 (SAM) 的光刻制备。在本文中,我们报告了可用于 SAM 光刻应用的三种试剂的合成和评估。这些试剂由三乙氧基甲硅烷基丙胺部分组成,其中胺被光不稳定保护基团暂时封闭:NVOC(邻硝基藜芦酰氧羰基)、ONB(邻硝基苄基)或 DDZ(α,α-二甲基-3,5-二甲氧基苄氧基羰基) . 三乙氧基甲硅烷基的存在允许自组装单层形成。化学反应性氨基的释放是通过照射表面来实现的。开发了一种电分析方法并用于监测和优化在表面上发生的方法的三个步骤:单层形成、光去保护和随后释放的氨基的官能化。关于光脱保护效率的定量信息...
DOI:
10.1139/v96-281
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