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(1,1,1,3,3,3-hexamethyl-2-(trimethylsilyl)-2l5-disilaphosphan-2-yl)gallium(IV) bromide
(1,1,1,3,3,3-hexamethyl-2-(trimethylsilyl)-2l5-disilaphosphan-2-yl)gallium(IV) bromide | 184715-26-2
中文名称
——
中文别名
——
英文名称
(1,1,1,3,3,3-hexamethyl-2-(trimethylsilyl)-2l5-disilaphosphan-2-yl)gallium(IV) bromide
英文别名
——
CAS
184715-26-2
化学式
C
9
H
27
Br
3
GaPSi
3
mdl
——
分子量
559.979
InChiKey
WTMNFIPUJOYOIZ-UHFFFAOYSA-K
BEILSTEIN
——
EINECS
——
物化性质
计算性质
ADMET
安全信息
SDS
制备方法与用途
上下游信息
反应信息
文献信息
表征谱图
同类化合物
相关功能分类
相关结构分类
计算性质
辛醇/水分配系数(LogP):
None
重原子数:
None
可旋转键数:
None
环数:
None
sp3杂化的碳原子比例:
None
拓扑面积:
None
氢给体数:
None
氢受体数:
None
反应信息
作为产物:
描述:
氘代3-氨基-5-吗啉-4-甲基-恶唑-2-啉酮
、
三溴化镓
以
正己烷
为溶剂, 以90%的产率得到(1,1,1,3,3,3-hexamethyl-2-(trimethylsilyl)-2l5-disilaphosphan-2-yl)gallium(IV) bromide
参考文献:
名称:
加合物X 3 Ga·P(SiMe 3)3(X = Cl,Br,I)的形成,结构表征和热分解
摘要:
X 3 Ga·P(SiMe 3)3 [X = Cl(1),Br(2),I(3)]加合物是由各自的三卤化镓与P(SiMe 3)3的组合高产率制备的。在室温下在烃类溶剂中溶解。通过NMR,MS,元素分析和单晶X射线结构测定来表征加合物。特别地,1的1 H NMR研究1 - 3帮助纠正我们关于相关的[X单体-二聚体平衡先前发表的结果2间隙(森达3)2 ]2在解决方案中。晶体结构的测定表明,1和2是溶剂化的,1 ·C 6 H 5 Cl和2 ·C 7 H 8,并且3是无溶剂的。的热分解1 - 3用来自热解和最终固体产物的分析挥发物的确定沿研究通过TGA。的pyrolyses 1 - 3在450℃下在真空下主要导致纳米晶体的GaP 4-5纳米粒子的平均尺寸通过X射线粉末衍射(XRD)和确定,热解2,通过透射电子显微镜(TEM);此外,还形成了少量的非晶态含Si / C / H相。
DOI:
10.1021/om960661y
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