脉冲Ñ 2上的还原或氧化的Rh / USY催化剂O分解已进行了研究
氧气覆盖的依赖性(θ ö)上的活动,并研究的O机构2使用同位素示踪技术解吸。分解活性降低至最小(形成的n只有2在θ)Ô = 0.5,但随着覆盖率提高(θ ö > 0.5),以及与稳态ö最后高活性2被获得以高θ生产Ô(> 1.2)。在同位素研究中,在低温(220–240°C)下,将N 2 16 O脉冲到18 O /氧化的Rh催化剂上,然后将O解吸通过质谱监测2个分子。解吸的
氧气中的18 O分数与表面
氧气上的18 O分数几乎相同。结果表明,O 2的解吸不是通过Eley-Rideal机理进行的,而是通过Langmuir-Hinshelwood机理进行的,即通过吸收的氧的复合使二氧解吸。另一方面,He中的O 2 -
TPD测量表明,氧从Rh催化剂中解吸发生在高得多的温度下。因此,提出了在低温下N 2 O分解期间发生O 2的反应辅助解吸的问题。