Par 辐射 UV de R 3 SiCo(CO) 4 存在 de R' 3 SiH 形成 de R 3 SiCo(CO) 4 et R 3 SiH a 298 K en 溶剂 alcane a 298 K (R=Me, Et, Ph; R '=Et)。Mecanisme en milieu alcalin a 77 K: perte dissociative de CO avec mise en jeu de R 3 SiCo(CO) 3 。幽灵红外线
Par 辐射 UV de R 3 SiCo(CO) 4 存在 de R' 3 SiH 形成 de R 3 SiCo(CO) 4 et R 3 SiH a 298 K en 溶剂 alcane a 298 K (R=Me, Et, Ph; R '=Et)。Mecanisme en milieu alcalin a 77 K: perte dissociative de CO avec mise en jeu de R 3 SiCo(CO) 3 。幽灵红外线