摘要:
                                供体稳定化的甲硅烷基(亚甲硅烷基)钨络合物的Cp(OC)2 W(森达3)(森达2 ·碱)(CP =η-C 5 H ^ 5,基地= HMPA(1A)和THF(1B))已合成通过光解含有CpW(CO)3 SiMe 2 SiMe 3和碱的C 6 D 6溶液。钨-亚甲硅烷基键的双键特征由29 Si NMR信号的显着下移和亚甲硅基配体的大1 J WSi值(δ= 92.5 ppm(1 Ĵ的WSi = 121赫兹)为1A和δ= 144.7 ppm的(1 Ĵ的WSi = 132赫兹)为图1b),并且还和钨的亚甲硅烷基配体(2.481(3))之间的短距离的WSi 1A。络合物1b由于从甲硅烷基配体到甲硅烷基配体的分子内1,3-甲基迁移而显示出通量行为。