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硅氧自由基 | 81429-20-1

中文名称
硅氧自由基
中文别名
——
英文名称
siloxy radical
英文别名
——
硅氧自由基化学式
CAS
81429-20-1
化学式
H3OSi
mdl
——
分子量
47.1087
InChiKey
UXMAWJKSGBRJKV-UHFFFAOYSA-N
BEILSTEIN
——
EINECS
——
  • 物化性质
  • 计算性质
  • ADMET
  • 安全信息
  • SDS
  • 制备方法与用途
  • 上下游信息
  • 反应信息
  • 文献信息
  • 表征谱图
  • 同类化合物
  • 相关功能分类
  • 相关结构分类

计算性质

  • 辛醇/水分配系数(LogP):
    -1.3
  • 重原子数:
    2.0
  • 可旋转键数:
    0.0
  • 环数:
    0.0
  • sp3杂化的碳原子比例:
    0.0
  • 拓扑面积:
    19.9
  • 氢给体数:
    0.0
  • 氢受体数:
    0.0

SDS

SDS:3d0dc55dd1980c7451f36ed95141d7da
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反应信息

  • 作为反应物:
    描述:
    羰基硫硅氧自由基 以 gas 为溶剂, 生成 silane sulfide
    参考文献:
    名称:
    O'Hair, Richard A.J.; Sheldon, John C.; Bowie, John H., Australian Journal of Chemistry, 1989, vol. 42, # 4, p. 489 - 496
    摘要:
    DOI:
  • 作为产物:
    描述:
    硅烷hydroxide 作用下, 以 gas 为溶剂, 生成 硅氧自由基
    参考文献:
    名称:
    O'Hair, Richard A.J.; Sheldon, John C.; Bowie, John H., Australian Journal of Chemistry, 1989, vol. 42, # 4, p. 489 - 496
    摘要:
    DOI:
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文献信息

  • Gas-phase reaction of silyl and trimethylsilyl anions. The formation of silicon-oxygen and silicon-sulfur bonds. A flowing afterglow and ab initio study
    作者:John C. Sheldon、John H. Bowie、Charles H. DePuy、Robert. Damrauer
    DOI:10.1021/ja00281a055
    日期:1986.10
    Les ions H 3 Si − et Me 3 Si − reagissent avec CO 2 , COS, CS 2 , SO 2 , N 2 O, MeNCO et MeNCS formant H 3 SiO − , Me 3 SiO − , Me 3 SiO − , H 3 SiS − ou Me 3 SiS − . Cinetique
    Les 离子 H 3 Si - et Me 3 Si - reagissent CO 2 , COS, CS 2 , SO 2 , N 2 O, MeNCO et MeNCS共振峰 H 3 SiO - , Me 3 SiO - , Me 3 SiO - , H 3 SiS - ou Me 3 SiS - 。电影
  • Effect of substituents on the gas-phase acidity of silanols
    作者:Robert Damrauer、Roger Simon、Michele Krempp
    DOI:10.1021/ja00012a009
    日期:1991.6
    facile condensation reactions. A variety of substituents on silicon have been studied, including alkyl, hydrogen, phenyl, methoxy, fluoro, and chloro substituents. Alkyl groups decrease silanol acidity, in contrast to alkyl group effects in alcohols. Phenyl, methoxy, fluoro, and chloro substituents all lead to increased acidity for silanols. The gas-phase acidity of trichlorosilanol is comparable to that
    已通过各种硅烷与氢氧化物的气相反应制备了 18 种氧离子。然后通过使用串联流动余辉选择离子流管 (FA-SIFT) 技术选择这些氧离子,并用于确定相应硅烷醇的气相酸度 (ΔG o 酸)。由于容易的缩合反应,本文研究的简单硅烷醇的这种测定在溶液中是不可能的。已经研究了上的多种取代基,包括烷基、氢、苯基、甲氧基、取代基。与醇中的烷基效应相反,烷基会降低硅烷醇的酸度。苯基、甲氧基、取代基都会导致硅烷醇的酸度增加。三硅烷醇的气相酸度与 HBr 和 HNO 3 的气相酸度相当。极化率和感应效应用于解释这些硅烷醇中的取代基效应。此外,还估算了三硅烷醇的生成热
  • Kinetics of the silyl + oxygen reaction studied by time-resolved mass spectrometry
    作者:Mitsuo Koshi、Akira Miyoshi、Hiroyuki Matsui
    DOI:10.1021/j100177a047
    日期:1991.11
    The SiH3 + O2 reaction was studied by means of time-resolved mass spectrometric detection of SiH3 with a near-threshold electron impact ionization technique. The rate constant of (1.26 +/- 0.18) x 10(-11) cm3 molecule-1 s-1 at T = 293 K was determined from the first-order decay rates of SiH3 produced in ArF (193 nm) laser photolysis of CCl4/SiH4/O2/He or N2O/SiH4/O2/He mixtures. The signal at m/z 47 attributable to SiH3O could be detected as a direct product of the SiH3 + O2 reaction. On the basis of kinetic simulations, the branching ratio for the reaction of SiH3 + O2 --> HSiOOH + H was determined to be 0.6 +/- 0.1. Branching ratios for the other two channels, SiH3 + O2 --> SiH3O + O and SiH2O + OH, were estimated to be 0.16 and 0.24, respectively.
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