2-ethyl-1,3,5,7,8-pentamethyl-4,4-difluoro-4-bora-3a,4a-diaza-s-indacene | 204376-56-7

• 英文名称: 2-ethyl-1,3,5,7,8-pentamethyl-4,4-difluoro-4-bora-3a,4a-diaza-s-indacene
• CAS: 204376-56-7
• 化学式: C₁₆H₂₁BF₂N₂
• 分子量: 290.164
• InChiKey: WSQJZGDUJUMBFT-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  None
• 重原子数：
  None
• 可旋转键数：
  None
• 环数：
  None
• sp3杂化的碳原子比例：
  None
• 拓扑面积：
  None
• 氢给体数：
  None
• 氢受体数：
  None

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  2-ethyl-1,3,5,7,8-pentamethyl-4,4-difluoro-4-bora-3a,4a-diaza-s-indacene 在 四丁基氯化铵 、 碘 、 palladium diacetate 、 碘酸 、 potassium carbonate 、 三苯基膦 作用下， 以 乙醇 、 水 、 甲苯 为溶剂， 反应 16.33h， 生成 (E)-2-(2-(heptaisobutylsilsesquioxyl)vinyl)-6-ethyl-1,3,5,7,8-pentamethyl-4,4-difluoro-4-bora-3a,4a-diaza-s-indacene
  参考文献：
  名称：

  New BODIPY chromophores bound to polyhedral oligomeric silsesquioxanes (POSS) with improved thermo- and photostability

  摘要：

  新型杂化染料，作为激光染料PM567的类似物，其色素基团与POSS T8基团共价结合，已被合成，并研究了其在乙酸乙酯溶液和聚甲基丙烯酸甲酯（PMMA）薄膜溶液中的光物理性质。在PMMA溶液中，在比较条件下，这些染料表现出比原染料PM567、相关化合物POSS(iBu)8及相应未结合的模型染料更高的热稳定性，因为首次质量损失发生在更高的温度下。此外，在365 nm光照射下，它们在相同介质中的光稳定性远高于染料PM567或在相同条件下的PM567和POSS(iBu)8等摩尔混合物，表明POSS基团能够光稳定结合的BODIPY基团。这些不同的光稳定性可能是由于杂化染料与自生单态氧的反应性差异造成的，因为它们的反应速率常数值低于PM567，尽管这些值的观察趋势与光降解量子产率值的趋势不相关。这些新型杂化材料可以应用于对高度光稳定和高发射性染料有需求的领域。

  DOI：

  10.1039/c1jm11261a
• 作为产物：
  描述：

  2,4-二甲基吡咯 、 1-(4-乙基-3,5-二甲基-1H-吡咯-2-基)-乙酮 在 三氯氧磷 作用下， 以 二氯甲烷 为溶剂， 反应 2.5h， 以80%的产率得到2-ethyl-1,3,5,7,8-pentamethyl-4,4-difluoro-4-bora-3a,4a-diaza-s-indacene
  参考文献：
  名称：

  New BODIPY chromophores bound to polyhedral oligomeric silsesquioxanes (POSS) with improved thermo- and photostability

  摘要：

  新型杂化染料，作为激光染料PM567的类似物，其色素基团与POSS T8基团共价结合，已被合成，并研究了其在乙酸乙酯溶液和聚甲基丙烯酸甲酯（PMMA）薄膜溶液中的光物理性质。在PMMA溶液中，在比较条件下，这些染料表现出比原染料PM567、相关化合物POSS(iBu)8及相应未结合的模型染料更高的热稳定性，因为首次质量损失发生在更高的温度下。此外，在365 nm光照射下，它们在相同介质中的光稳定性远高于染料PM567或在相同条件下的PM567和POSS(iBu)8等摩尔混合物，表明POSS基团能够光稳定结合的BODIPY基团。这些不同的光稳定性可能是由于杂化染料与自生单态氧的反应性差异造成的，因为它们的反应速率常数值低于PM567，尽管这些值的观察趋势与光降解量子产率值的趋势不相关。这些新型杂化材料可以应用于对高度光稳定和高发射性染料有需求的领域。

  DOI：

  10.1039/c1jm11261a